JP2014194055A - Coating for plating ground, method of producing plating ground coat layer and method of plated article - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating for plating ground, a method of producing a plating ground coat and method of producing a plated article.SOLUTION: A ground coating for forming a metal film on a substrate by electroless plating contains an aniline type conductive polymer (A) having acidic groups, and the aniline type conductive polymer is a conductive polymer (A-1) having repeating units of formula (1), where, Rto Rare independently a hydrogen atom, a 1-24C linear or branched alkyl group, a 1-24C linear or branched alkoxy group, an acidic group, a hydroxy group, a nitro group or a halogen atom and at least one of R-Ris an acid group or its salt. A ground coating containing a water-soluble polymer (B) additionally, a method of producing the ground coating and a method of producing a plated article are also provided.

Description

本発明は、めっき下地用塗料、当該塗料を用いためっき下地塗膜層の製造方法、めっき物の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a coating base coating material, a method for manufacturing a plating base coating layer using the coating material, and a method for manufacturing a plated product.

基材上にパターン化されためっきを付ける技術は、印刷配線基板等の電気回路の作成等に応用されている。従来の印刷配線基板などの電気回路は、銅、金、酸化すず等の金属材料で被覆された絶縁性基板に、感光性ポリマー等のフォトレジスト材料を塗工し、所望のパターンを有するフォトマスクをかけて紫外線等を照射し、照射部のフォトレジスト材料を硬化させ、未硬化のレジスト材料を除去した後に、化学エッチングにより不要な銅箔部分等を除去して、回路を形成するものであった。
しかしながら、これらの方法は、工程が煩雑であり、レジスト材料の除去や大部分の金属をエッチングにより溶解除去しなければならない等、資源やエネルギーの無駄な消費の他、環境負荷が大きいといった問題があった。
このような問題を解決する方法として、基材上に導電性ポリマー層を形成し、当該導電性ポリマー層上にめっきを施すことにより、電気回路を作成する無電解めっき法が、幾つか提案されている。
A technique of applying a patterned plating on a base material is applied to creation of an electric circuit such as a printed wiring board. A conventional electric circuit such as a printed wiring board is a photomask having a desired pattern by coating a photoresist material such as a photosensitive polymer on an insulating substrate covered with a metal material such as copper, gold, or tin oxide. Irradiate ultraviolet rays, etc. to cure the photoresist material of the irradiated part, remove the uncured resist material, and then remove unnecessary copper foil parts etc. by chemical etching to form a circuit. It was.
However, these methods have complicated processes, and there are problems such as wasteful consumption of resources and energy as well as heavy environmental load, such as removal of resist material and dissolution and removal of most metals by etching. there were.
As a method for solving such a problem, several electroless plating methods for forming an electric circuit by forming a conductive polymer layer on a base material and plating the conductive polymer layer have been proposed. ing.

例えば、非電気化学的に金属を基材上に付着する方法として、ポリアニリンを含有する被覆物質が化学的還元剤にて還元され、金属イオン含有溶液から金属を物質に付着させる金属化物質の製造方法(特許文献1)が提案されている。
また、基材上に印刷されたポリピロール微粒子を還元処理した後、パラジウム等の触媒金属を塗膜表面上に吸着させた塗膜上に、無電解めっき法により金属めっき膜を形成する方法(特許文献2)が記載されている。
For example, as a method of non-electrochemically depositing a metal on a substrate, a coating material containing polyaniline is reduced with a chemical reducing agent, and a metallized material for attaching a metal to a material from a metal ion-containing solution is produced. A method (Patent Document 1) has been proposed.
In addition, after reducing polypyrrole fine particles printed on a substrate, a metal plating film is formed by electroless plating on a coating film in which a catalytic metal such as palladium is adsorbed on the coating surface (patent) Document 2) is described.

特表平10−511433号公報Japanese National Patent Publication No. 10-511433 特開2007−270180号公報JP 2007-270180 A

ところが、特許文献1に記載の製造方法においては、非電気化学的方法で導電性ポリマー層上にめっきを行って金属を付着させる前に、該導電性ポリマーをヒドラジン等の化学的還元剤で還元して活性化する必要があった。
さらに、ヒドラジン等による還元は、アルカリ条件下による長時間の処理によって行われるため、使用する基材がアルカリ条件に耐えられるものに限定されてしまうこと、さらに、当該処理により導電性ポリマー塗膜の強度が低下すること等の課題があった。
また、特許文献2におけるポリマー微粒子が分散された塗料は、溶媒としては有機溶媒が使用されているため、元来水系インクの印刷法として用いられてきた印刷法、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、フレキソ印刷などへは適用し難いものであり、導電性ポリマー微粒子を水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し脱ドープ処理を伴い工程が煩雑であった。
However, in the manufacturing method described in Patent Document 1, before conducting plating on a conductive polymer layer by a non-electrochemical method to deposit a metal, the conductive polymer is reduced with a chemical reducing agent such as hydrazine. Need to be activated.
Furthermore, since reduction with hydrazine or the like is performed by a long-time treatment under alkaline conditions, the base material used is limited to those that can withstand alkaline conditions. There were problems such as a decrease in strength.
Moreover, since the coating material in which the polymer fine particles are dispersed in Patent Document 2 uses an organic solvent as a solvent, a printing method that has been originally used as a printing method for water-based ink, for example, inkjet printing, offset printing, It is difficult to apply to gravure offset printing, flexographic printing, etc., and the conductive polymer fine particles were immersed in an aqueous solution of sodium hydroxide, and the process was complicated with dedoping treatment.

本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題に鑑みてなされたものであり、酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)を含む下地塗料を用いることで、環境負荷が低く、かつ、密着性に優れためっき物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have been made in view of the above problems, and by using a base coating containing an aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group, the environmental load is low and adhesion is achieved. The present inventors have found that a plated product having excellent properties can be obtained, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記の態様を有する。
[1] 基材上に無電解めっき法により金属膜を形成するための下地塗料であって、前記下地塗料は、酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)を含む、下地塗料。
[2] 前記酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)が、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する導電性ポリマー(A−1)である、前記[1]記載の下地塗料。
[3] 水溶性ポリマー(B)をさらに含む、前記[1]又は[2]記載の下地塗料。
[4] 基材上に、前記[1]〜[3]の何れか一項に記載の下地塗料を塗工し、これにより形成された塗膜層を加熱処理する、下地用塗膜層の製造方法。
[5] 前記[4記載載の下地用塗膜層上に、無電解めっき液から金属膜を化学めっきする、めっき物の製造方法。
That is, this invention has the following aspect.
[1] A base paint for forming a metal film on a substrate by an electroless plating method, wherein the base paint includes an aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group.
[2] The base according to [1], wherein the aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group is a conductive polymer (A-1) having a repeating unit represented by the following general formula (1): paint.
[3] The base coating according to [1] or [2], further including a water-soluble polymer (B).
[4] An undercoat coating layer that is applied to the base material according to any one of [1] to [3] above and heat-treats the coating layer formed thereby. Production method.
[5] A method for producing a plated product, wherein a metal film is chemically plated from an electroless plating solution on the underlying coating film layer described in [4].

式(1)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基又はハロゲン原子である。また、R〜Rのうちの少なくとも一つは酸性基又はその塩である。 In formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, or an acidic group. , A hydroxyl group, a nitro group or a halogen atom. Further, at least one of R 1 to R 4 is an acidic group or a salt thereof.

本発明の塗料は、水系インクの印刷法として用いられてきた印刷法、例えば、インクジェット印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、フレキソ印刷などへの適用を可能にでき、また、環境負荷が低く、化学還元処理等を必要としない塗料を提供するができる。
さらに、当該塗料を用いることで、環境負荷が低く、かつ、密着性に優れためっき物が簡便に製造できる方法を提供することができる。
The paint of the present invention can be applied to printing methods that have been used as printing methods for water-based inks, such as ink jet printing, offset printing, gravure offset printing, flexographic printing, etc. A paint that does not require a reduction treatment or the like can be provided.
Furthermore, by using the paint, it is possible to provide a method by which a plated product with low environmental load and excellent adhesion can be easily produced.

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明において「可溶性」とは、水、塩基及び塩基性塩を含む水、酸を含む水、、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の溶媒、又は、それらの混合物10g(液温25℃)に、0.1g以上均一に溶解することを意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, “soluble” means water, water containing a base and a basic salt, water containing an acid, a solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, or a mixture thereof (10 g (liquid temperature 25). ℃) means that 0.1 g or more is uniformly dissolved.

<酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)>
酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)は、ポリマー分子内に酸性基を有することで良好な可溶性、導電性を示す。
<Aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group>
The aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group exhibits good solubility and conductivity by having an acidic group in the polymer molecule.

<酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A−1)>
前記導電性ポリマー(A)は、可溶性の観点から、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
<Aniline-based conductive polymer (A-1) having an acidic group>
The conductive polymer (A) preferably has a repeating unit represented by the following general formula (1) from the viewpoint of solubility.

式(1)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基、ハロゲン原子である。また、R〜Rのうちの少なくとも一つは酸性基又はその塩である。 In formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, or an acidic group. , A hydroxyl group, a nitro group, and a halogen atom. Further, at least one of R 1 to R 4 is an acidic group or a salt thereof.

前記導電性ポリマー(A)としては、前記一般式(1)で表される以外の構造単位として、可溶性、導電性及び性状に影響を与えない限り、置換又は無置換のアニリン、チオフェン、ピロール、フェニレン、ビニレン、その他二価の不飽和基及び二価の飽和基の少なくとも一種の構造単位を含んでも良い。   The conductive polymer (A) is a substituted or unsubstituted aniline, thiophene, pyrrole, as a structural unit other than that represented by the general formula (1), as long as it does not affect solubility, conductivity and properties. It may contain at least one structural unit of phenylene, vinylene, other divalent unsaturated groups and divalent saturated groups.

前記導電性ポリマー(A)は、前記一般式(1)の繰り返し単位、すなわち芳香環に対する酸性基の含有率を、可溶性の観点から、70%以上含まれるものが好ましく、80%以上含まれるものがより好ましく、90%以上含まれるものがさらに好ましい。   The conductive polymer (A) preferably contains 70% or more, preferably 80% or more of the repeating unit of the general formula (1), that is, the content of acidic groups with respect to the aromatic ring from the viewpoint of solubility. Is more preferable, and 90% or more is more preferable.

前記導電性ポリマー(A)の重量平均分子量は、成膜性及び膜強度の観点で、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム換算の重量平均分子量が、3000〜500000のものが好ましく、5000〜200000のものがより好ましく、10000〜100000のものがさらに好ましい。
なお、前記導電性ポリマー(A)としては、0.1S/cm以下、好ましくは0.05S/cm以下の導電率を有するポリアニリンが好ましい。
さらに、前記導電性ポリマーとしては、下記一般式(2)で表される構造を有することが好ましい。また、導電性及びめっき膜形成性の観点から、x:yの比率は10:0〜5:5が好ましく、9:1〜6:4が特に好ましい。
The weight average molecular weight of the conductive polymer (A) is preferably 3,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 200,000 in terms of film formability and film strength in terms of sodium polystyrene sulfonate. 10000 to 100,000 are more preferable.
The conductive polymer (A) is preferably polyaniline having a conductivity of 0.1 S / cm or less, preferably 0.05 S / cm or less.
Furthermore, the conductive polymer preferably has a structure represented by the following general formula (2). Further, from the viewpoint of conductivity and plating film formability, the ratio of x: y is preferably 10: 0 to 5: 5, and particularly preferably 9: 1 to 6: 4.

式(2)中、R〜R20は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基、ハロゲン原子である。また、R〜R20のうち少なくとも一つは酸性基である。また、x、y、nはそれぞれ重合度を示す。 In formula (2), R 5 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, or an acidic group. , A hydroxyl group, a nitro group, and a halogen atom. In addition, at least one of R 5 to R 20 is an acidic group. Further, x, y, and n each represent the degree of polymerization.

<水溶性ポリマー(B)>
本発明に使用する水溶性ポリマー(B)は、バインダー(結合剤)であり、前記水溶性ポリマー(B)としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポリカルボン酸、ポリアニオン等の水溶性ポリマー、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等の水溶性硬化樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂等のエマルジョンが挙げられる。
<Water-soluble polymer (B)>
The water-soluble polymer (B) used in the present invention is a binder (binder), and the water-soluble polymer (B) is not particularly limited. For example, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide And water-soluble polymers such as polycarboxylic acids and polyanions, water-soluble curable resins such as epoxy resins, urethane resins, and melamine resins, and emulsions such as acrylic resins, polyether-based urethane resins, and polyester-based urethane resins.

使用する水溶性ポリマー(B)量は、前記導電性ポリマー(A)1質量部に対して0.1質量部以上使用することができ、具体的には、前記導電性ポリマー(A)1質量部に対して0.1質量部〜60質量部の範囲であることが好ましい。
水溶性ポリマー(B)が60質量部を超えると金属めっきが析出しにくくなる場合があり、水溶性ポリマー(B)が0.1質量部未満であると、基材と塗膜層間の密着性が劣る傾向にある。
The amount of the water-soluble polymer (B) used can be 0.1 parts by mass or more with respect to 1 part by mass of the conductive polymer (A), specifically, 1 part by mass of the conductive polymer (A). It is preferable that it is the range of 0.1 mass part-60 mass parts with respect to a part.
If the water-soluble polymer (B) exceeds 60 parts by mass, metal plating may be difficult to deposit, and if the water-soluble polymer (B) is less than 0.1 parts by mass, the adhesion between the substrate and the coating layer will be reduced. Tend to be inferior.

本発明の下地塗料は、上記成分に加えて溶媒として水を含んでいてもよい。
また、前記塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等を、更に加えてもよい。
The base coating material of the present invention may contain water as a solvent in addition to the above components.
In addition, the coating material may further contain a dispersion stabilizer, a thickener, an ink binder, or the like, depending on the application, application object, or the like.

本発明は、基材上に、前記導電性ポリマー(A)を含む下地塗料を塗工し、これによりめっき下地用塗膜層を製造することができる。
具体的には、前記導電性ポリマー(A)を含む水溶液からなる下地塗料を塗工し、これにより形成された塗膜層中の前記導電性ポリマー(A)を加熱処理し、酸性基を脱離し、めっき下地用塗膜層を製造することができる。
In the present invention, a base coating containing the conductive polymer (A) can be applied onto a substrate, whereby a coating layer for plating base can be produced.
Specifically, a base paint composed of an aqueous solution containing the conductive polymer (A) is applied, and the conductive polymer (A) in the coating layer formed thereby is heat-treated to remove acidic groups. The coating layer for plating base can be manufactured.

本発明に用いる基材としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ガラス、金属、木材、紙等が挙げられる。
また、基材の形状は特に限定されないが、例えば、板状、フィルム状が挙げられる。他にも、基材として、例えば、射出成形などにより樹脂を成形した樹脂成形品が挙げられる。そして、この樹脂成形品に本発明のめっき物を設けることにより、例えば、自動車向けの装飾めっき品を作成することができ、或いは、ポリイミド樹脂やポリエチレンテレフタレート樹脂からなるフィルム上に本発明のめっき物をパターン状で設けることにより、例えば、電気回路等を作成することができる。
Although it does not specifically limit as a base material used for this invention, For example, acrylic resins, such as polyester resins, such as a polyethylene terephthalate, a polymethylmethacrylate, a polypropylene resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyvinyl chloride resin, a polyamide resin, a polyimide resin , Glass, metal, wood, paper and the like.
Moreover, although the shape of a base material is not specifically limited, For example, plate shape and a film form are mentioned. In addition, examples of the base material include a resin molded product obtained by molding a resin by injection molding or the like. And by providing the plated product of the present invention on the resin molded product, for example, a decorative plated product for automobiles can be prepared, or the plated product of the present invention on a film made of polyimide resin or polyethylene terephthalate resin. By providing the pattern in a pattern, for example, an electric circuit can be created.

本発明の前記導電性ポリマー(A)等を含む下地塗料の塗工は、基材の全面に塗工してもよく、或いは基材の一部に塗工してもよい。
基材の一部に塗工するパターン印刷法としては、例えば、インクジェット印刷法、オフセット印刷法、グラビアオフセット印刷法、フレキソ印刷法に適用することが出来る。その他にもグラビア印刷法、スクリーン印刷法、ドライオフセット印刷法、パッド印刷法にも適用できる。印刷方法は、各印刷機を用いる通常の印刷法によって行うことができる。
また、下地塗料を基材の全面に塗工する手段としては、上記印刷法でもよいし、ディップコート法、刷毛塗り法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、スプレーコート法、フローコート法によって塗工してもよい。
The base coating containing the conductive polymer (A) or the like of the present invention may be applied to the entire surface of the base material, or may be applied to a part of the base material.
As a pattern printing method applied to a part of the substrate, for example, an inkjet printing method, an offset printing method, a gravure offset printing method, and a flexographic printing method can be applied. In addition, it can be applied to gravure printing, screen printing, dry offset printing, and pad printing. The printing method can be performed by a normal printing method using each printing machine.
In addition, as a means for applying the base coating to the entire surface of the base material, the above printing method may be used, the dip coating method, the brush coating method, the spin coating method, the casting method, the micro gravure coating method, the gravure coating method, the bar coating. The coating may be carried out by a method, a roll coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, or a flow coating method.

本発明において、下地用塗膜層の製造方法は、前記導電性ポリマー(A)等を含む下地塗料を塗工した後、加熱処理することが好ましい。
この加熱処理としては、ヒーター、加熱炉、ホットプレート等を用いて加熱する方法が挙げられる。例えば、加熱温度は、85℃以上、好ましくは90℃以上で、200℃以下、好ましくは180℃以下で、2〜180分間処理される。使用した基材のTgより低い温度範囲で処理することが好ましい。
In the present invention, the method for producing the coating film layer for base is preferably subjected to a heat treatment after coating the base paint containing the conductive polymer (A) or the like.
Examples of the heat treatment include a method of heating using a heater, a heating furnace, a hot plate, or the like. For example, the heating temperature is 85 ° C. or higher, preferably 90 ° C. or higher, 200 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower, and treated for 2 to 180 minutes. It is preferable to process in the temperature range lower than Tg of the used base material.

また、前記導電性ポリマー(A)等を含む下地塗料を塗工した後、脱ドープ処理をしても構わない。この脱ドープ処理としては、還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホウ素化合物、ジメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン等のアルキルアミンボラン、及び、ヒドラジン等を含む溶液で処理して還元する方法、又は、水酸化ナトリウム等のアルカリ性溶液で処理する方法が挙げられる。
なお、操作性及び経済性の観点からアルカリ性溶液で処理するのが好ましい。特に、前記導電性ポリマー(A)を含む塗膜層は薄くできるため、緩和な条件下で短時間のアルカリ処理により脱ドープを達成することが可能である。
例えば、1M水酸化ナトリウム水溶液中で、20〜50℃、好ましくは30〜40℃の温度で、1〜30分間、好ましくは3〜10分間処理される。
Further, after applying a base paint containing the conductive polymer (A) or the like, a dedoping treatment may be performed. Examples of the dedoping treatment include reducing agents such as borohydride compounds such as sodium borohydride and potassium borohydride, alkylamine boranes such as dimethylamine borane, diethylamine borane, trimethylamine borane, triethylamine borane, and hydrazine. The method of processing and reducing with the solution containing or the method of processing with alkaline solutions, such as sodium hydroxide, is mentioned.
In addition, it is preferable to process with an alkaline solution from a viewpoint of operativity and economical efficiency. In particular, since the coating layer containing the conductive polymer (A) can be thinned, it is possible to achieve dedoping by mild alkali treatment under mild conditions.
For example, it is treated in a 1M aqueous sodium hydroxide solution at a temperature of 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C. for 1 to 30 minutes, preferably 3 to 10 minutes.

上記のようにして製造された、めっき下地用塗膜層が形成された基材を無電解めっき法によりめっき物とするが、該無電解めっき法は、通常知られた方法に従って行うことができる。
すなわち、前記基材を塩化パラジウム等の触媒金属を付着させるための触媒液に浸漬した後、水洗等を行い、無電解めっき浴に浸漬することによりめっき物を得ることができる。
Although the base material with the coating layer for plating base formed as described above is plated by an electroless plating method, the electroless plating method can be performed according to a generally known method. .
That is, after immersing the base material in a catalyst solution for attaching a catalytic metal such as palladium chloride, the substrate can be washed with water and immersed in an electroless plating bath to obtain a plated product.

触媒液は、無電解めっきに対する触媒活性を有する貴金属(触媒金属)を含む溶液であり、触媒金属としては、パラジウム、金、白金、ロジウム等が挙げられ、これら金属は単体でも化合物でもよく、触媒金属を含む安定性の点からパラジウム化合物が好ましく、その中でも塩化パラジウムが特に好ましい。
具体的な触媒液としては、0.05%塩化パラジウム〜0.005%塩酸水溶液が挙げられる。処理温度は、20〜50℃、好ましくは30〜40℃であり、処理時間は、0.1〜20分、好ましくは、1〜10分である。
The catalyst solution is a solution containing a noble metal (catalyst metal) having catalytic activity for electroless plating. Examples of the catalyst metal include palladium, gold, platinum, rhodium, etc. These metals may be simple substances or compounds. A palladium compound is preferable from the viewpoint of stability including a metal, and palladium chloride is particularly preferable among them.
Specific examples of the catalyst solution include 0.05% palladium chloride to 0.005% hydrochloric acid aqueous solution. The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 0.1 to 20 minutes, preferably 1 to 10 minutes.

上記で処理された基材は、金属を析出させるためのめっき液に浸され、これにより無電解めっき膜が形成される。めっき液としては、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば、特に限定されない。即ち、無電解めっきに使用できる金属、銅、金、銀、ニッケル等、全て適用することができるが、銅が好ましい。無電解銅めっき浴の具体例としては、例えば、ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)等が挙げられる。処理温度は、20〜50℃、好ましくは30〜40℃であり、処理時間は、1〜30分、好ましくは、5〜15分である。得られためっき物は、使用した基材のTgより低い温度範囲において、数時間以上、例えば、2時間以上養生するのが好ましい。
尚、上記めっき物は、形成された無電解めっき膜上に、電解めっきにより、同一又は異なる金属を更にめっきすることもできる。また、金属めっき膜は、基材の両面に形成されてもよい。
The base material treated as described above is immersed in a plating solution for depositing metal, thereby forming an electroless plating film. The plating solution is not particularly limited as long as it is a plating solution usually used for electroless plating. That is, metal, copper, gold, silver, nickel, etc. that can be used for electroless plating can all be applied, but copper is preferred. Specific examples of the electroless copper plating bath include, for example, an ATS add copper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.). The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 1 to 30 minutes, preferably 5 to 15 minutes. The obtained plated product is preferably cured for several hours or more, for example, 2 hours or more in a temperature range lower than the Tg of the used substrate.
The plated product can be further plated with the same or different metal on the formed electroless plating film by electrolytic plating. Moreover, a metal plating film may be formed on both surfaces of a base material.

以下、実施例及び比較例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to these Examples.

[製造例1;導電性ポリマー(A−1)の製造)]
水/アセトニトリル(体積比1/1)混合液150mlにペルオキソ二硫酸アンモニウム200mmolと硫酸1.0gを溶解させた溶液を、エチレングリコールを用いたバスで0℃(内温)に冷却し、撹拌動力0.7kw/m下、2−アミノアニソール−4−スルホン酸200mmolとトリエチルアミン200mmolを水/アセトニトリル(体積比1/1)混合液150mlに溶解させた溶液を200mmol/hrで滴下した。
滴下終了後、撹拌下2時間冷却を保持したのち、反応生成物を冷却下で減圧濾過装置にて濾別し、メチルアルコールにて洗浄後乾燥し、導電性ポリマーの粗ポリマーを得た。
得られた粗ポリマー20gを400mlの水で溶解し、酸性陽イオン交換樹脂(オルガノ株式会社製、「アンバーライト」)100mlをカラムに充填し、該カラムに前記粗ポリマー溶液をSV=0.3の流量で通過させて陽イオン交換処理を行い、精製された導電性ポリマー(A−1)溶液を得た。
[Production Example 1; Production of conductive polymer (A-1)]
A solution obtained by dissolving 200 mmol of ammonium peroxodisulfate and 1.0 g of sulfuric acid in 150 ml of a water / acetonitrile (volume ratio 1/1) mixture was cooled to 0 ° C. (internal temperature) with a bath using ethylene glycol, and the stirring power was 0 Under 0.7 kw / m 3 , a solution prepared by dissolving 200 mmol of 2-aminoanisole-4-sulfonic acid and 200 mmol of triethylamine in 150 ml of a water / acetonitrile (volume ratio 1/1) mixture was added dropwise at 200 mmol / hr.
After completion of the dropwise addition, cooling was maintained for 2 hours with stirring, and then the reaction product was filtered with a vacuum filter under cooling, washed with methyl alcohol and dried to obtain a crude polymer of conductive polymer.
20 g of the obtained crude polymer was dissolved in 400 ml of water, and 100 ml of an acidic cation exchange resin (manufactured by Organo Corporation, “Amberlite”) was packed in the column, and the crude polymer solution was added to the column at SV = 0.3. The cation exchange treatment was carried out at a flow rate of 1 to obtain a purified conductive polymer (A-1) solution.

[実施例1]
製造例1で調製した導電性ポリマー(A−1)溶液に、水溶性ポリマー(B−1)<ウォーターゾールS695(水系メラミン樹脂、固形分65%)、DIC社製>を、導電性ポリマー(A−1):水溶性ポリマー(B−1)の固形分比が2:1となるように加え、さらに最終固形分が3%となるように水を混合し、下地塗料を得た。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにスピンコート法により塗工し、120℃で10分乾燥し、さらに160℃で60分加熱処理し、塗工膜を作成した。この加熱処理後の塗工膜の厚みは、100nmであった。
この塗工膜が形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、純水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬すると、およそ10分程度で銅めっきが施されたポリエステルフィルムが得られた。
[Example 1]
To the conductive polymer (A-1) solution prepared in Production Example 1, the water-soluble polymer (B-1) <Watersol S695 (aqueous melamine resin, solid content 65%), manufactured by DIC Corporation> was added to the conductive polymer ( A-1): The water-soluble polymer (B-1) was added so that the solid content ratio was 2: 1, and water was further mixed so that the final solid content was 3% to obtain a base coating material.
The paint prepared above was applied to a polyester film having a thickness of 100 μm by spin coating, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and further heat-treated at 160 ° C. for 60 minutes to form a coating film. The thickness of the coating film after this heat treatment was 100 nm.
The film on which the coating film was formed was immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes and then washed with pure water. Next, when the film was immersed in an electroless copper plating bath, a polyester film on which copper plating was applied in about 10 minutes was obtained.

[実施例2]
製造例1で調製した導電性ポリマー(A−1)溶液に、水溶性ポリマー(B−2)<クラレポバールPVA−103(ポリビニルアルコール)、クラレ社製>を、導電性ポリマー(A−1):水溶性ポリマー(B−2)の固形分比が2:1となるように加え、さらに最終固形分が3%となるように水を混合し、下地塗料を得た。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにスピンコート法により塗工し、120℃で10分乾燥し、さらに160℃で60分加熱処理し、塗工膜を作成した。この加熱処理後の塗工膜の厚みは、120nmであった。
この塗工膜が形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、純水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬すると、およそ10分程度で銅めっきが施されたポリエステルフィルムが得られた。
[Example 2]
In the conductive polymer (A-1) solution prepared in Production Example 1, the water-soluble polymer (B-2) <Kuraray Poval PVA-103 (polyvinyl alcohol), manufactured by Kuraray Co., Ltd.> was added to the conductive polymer (A-1). : Water-soluble polymer (B-2) was added so that the solid content ratio was 2: 1, and water was further mixed so that the final solid content was 3% to obtain a base coating material.
The paint prepared above was applied to a polyester film having a thickness of 100 μm by spin coating, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and further heat-treated at 160 ° C. for 60 minutes to form a coating film. The thickness of the coating film after this heat treatment was 120 nm.
The film on which the coating film was formed was immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes and then washed with pure water. Next, when the film was immersed in an electroless copper plating bath, a polyester film on which copper plating was applied in about 10 minutes was obtained.

[比較例1]
導電性ポリマー(A−1)溶液の代わりに、導電性ポリアニリン分散液<ORMECON(固形分2.5%)、日産化学工業社製>を用いた以外は、実施例1と同様の方法にて下地塗料を得た。
上記で調製した塗料を、100μmの厚みのポリエステルフィルムにスピンコート法により塗工し、120℃で10分乾燥し、さらに160℃で60分加熱処理し、塗工膜を作成した。この加熱処理後の塗工膜の厚みは、120nmであった。
この塗工膜が形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に室温で5分間浸漬後、純水で水洗した。次に該フィルムを無電解銅めっき浴に浸漬したが、めっきは形成されなかった。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Example 1 except that the conductive polyaniline dispersion <ORMECON (solid content 2.5%), manufactured by Nissan Chemical Industries Ltd.> was used instead of the conductive polymer (A-1) solution. A base paint was obtained.
The paint prepared above was applied to a polyester film having a thickness of 100 μm by spin coating, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and further heat-treated at 160 ° C. for 60 minutes to form a coating film. The thickness of the coating film after this heat treatment was 120 nm.
The film on which the coating film was formed was immersed in a palladium chloride solution at room temperature for 5 minutes and then washed with pure water. The film was then immersed in an electroless copper plating bath, but no plating was formed.

(めっき状態の評価方法)
めっき皮膜の状態を目視で観察し、基材露出面積を測定した。実施例1及び2、比較例1の評価結果を表1に示す。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:完全に被覆され、基材露出無し。
△:50%程度基材の露出あり
×:100%基材露出
(Plating state evaluation method)
The state of the plating film was visually observed, and the substrate exposed area was measured. The evaluation results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.
The evaluation criteria were as follows.
○: Completely coated, no substrate exposure.
Δ: About 50% of substrate is exposed ×: 100% of substrate is exposed

(密着性の評価方法)
JIS H8504に基づいて、テープ試験により引き剥がし試験を実施した。実施例1及び2、比較例1の評価結果を表1に示す。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:剥離無し
△:50%程度剥離あり
×:100%剥離
(Adhesion evaluation method)
Based on JIS H8504, the peeling test was implemented by the tape test. The evaluation results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.
The evaluation criteria were as follows.
○: No peeling Δ: About 50% peeling ×: 100% peeling

実施例1及び2のめっき下地塗料は、無電解めっき法により、めっき下地用塗膜層が完全に金属めっき膜に被覆された。また、無電解めっきが施された基材の密着性も良好であった。
一方、酸性基を有しない導電性ポリマーを用いた比較例1は、還元処理無しの無電解めっき法によっては、金属めっき膜が形成できなかった。
以上より、本発明は、還元処理のない、簡便な無電解めっき法によっても、密着性良好な、金属めっき膜を形成することができた。
In the plating base coatings of Examples 1 and 2, the coating layer for plating base was completely coated on the metal plating film by electroless plating. Moreover, the adhesiveness of the base material to which electroless plating was applied was also good.
On the other hand, in Comparative Example 1 using a conductive polymer having no acidic group, a metal plating film could not be formed by the electroless plating method without reduction treatment.
From the above, the present invention was able to form a metal plating film with good adhesion even by a simple electroless plating method without reduction treatment.

Claims (5)

基材上に無電解めっき法により金属膜を形成するための下地塗料であって、前記下地塗料は、酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)を含む、下地塗料。   A base coating for forming a metal film on a substrate by electroless plating, wherein the base coating includes an aniline-based conductive polymer (A) having an acidic group. 前記酸性基を有するアニリン系導電性ポリマー(A)が、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する導電性ポリマー(A−1)である、請求項1記載の下地塗料。

式(1)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ基又はハロゲン原子である。また、R〜Rのうちの少なくとも一つは酸性基又はその塩である。
The ground coating material of Claim 1 whose aniline type conductive polymer (A) which has the said acidic group is a conductive polymer (A-1) which has a repeating unit represented by following General formula (1).

In formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, or an acidic group. , A hydroxyl group, a nitro group or a halogen atom. Further, at least one of R 1 to R 4 is an acidic group or a salt thereof.
水溶性ポリマー(B)をさらに含む、請求項1又は2記載の下地塗料。   The base paint according to claim 1 or 2, further comprising a water-soluble polymer (B). 基材上に、請求項1〜3の何れか一項に記載の下地塗料を塗工し、これにより形成された塗膜層を加熱処理する、下地用塗膜層の製造方法。   The manufacturing method of the coating film layer for base | substrates which coats the base coating material as described in any one of Claims 1-3 on a base material, and heat-processes the coating film layer formed by this. 請求項4記載の下地用塗膜層上に、無電解めっき液から金属膜を化学めっきする、めっき物の製造方法。   A method for producing a plated product, wherein a metal film is chemically plated from an electroless plating solution on the undercoat coating layer according to claim 4.
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