JP2009535761A - Mass spectrometer - Google Patents
Mass spectrometer Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009535761A JP2009535761A JP2009507174A JP2009507174A JP2009535761A JP 2009535761 A JP2009535761 A JP 2009535761A JP 2009507174 A JP2009507174 A JP 2009507174A JP 2009507174 A JP2009507174 A JP 2009507174A JP 2009535761 A JP2009535761 A JP 2009535761A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- peak
- electrodes
- mass analyzer
- mhz
- ion guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 873
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 186
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 claims abstract description 63
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 98
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims description 80
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 claims description 53
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 claims description 48
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 claims description 48
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 28
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 25
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 20
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 claims description 16
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 13
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims description 12
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims description 12
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims description 12
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 12
- 238000001360 collision-induced dissociation Methods 0.000 claims description 5
- 238000000816 matrix-assisted laser desorption--ionisation Methods 0.000 claims description 5
- 230000005405 multipole Effects 0.000 claims description 5
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims description 4
- 238000000688 desorption electrospray ionisation Methods 0.000 claims description 4
- 238000010265 fast atom bombardment Methods 0.000 claims description 4
- 238000004992 fast atom bombardment mass spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 4
- 238000001698 laser desorption ionisation Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 238000000132 electrospray ionisation Methods 0.000 claims description 3
- 239000012634 fragment Substances 0.000 claims description 3
- 102100022704 Amyloid-beta precursor protein Human genes 0.000 claims description 2
- 208000035699 Distal ileal obstruction syndrome Diseases 0.000 claims description 2
- 238000004252 FT/ICR mass spectrometry Methods 0.000 claims description 2
- 101000823051 Homo sapiens Amyloid-beta precursor protein Proteins 0.000 claims description 2
- DZHSAHHDTRWUTF-SIQRNXPUSA-N amyloid-beta polypeptide 42 Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)NCC(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](C)C(O)=O)[C@@H](C)CC)C(C)C)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@H](CCCCN)NC(=O)[C@H](CCC(N)=O)NC(=O)[C@H](CC=1N=CNC=1)NC(=O)[C@H](CC=1N=CNC=1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)[C@H](CCC(O)=O)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC(O)=CC=1)NC(=O)CNC(=O)[C@H](CO)NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](CC=1N=CNC=1)NC(=O)[C@H](CCCNC(N)=N)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)[C@H](CCC(O)=O)NC(=O)[C@H](C)NC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O)C(C)C)C(C)C)C1=CC=CC=C1 DZHSAHHDTRWUTF-SIQRNXPUSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000065 atmospheric pressure chemical ionisation Methods 0.000 claims description 2
- 238000000451 chemical ionisation Methods 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 238000001211 electron capture detection Methods 0.000 claims description 2
- 238000001077 electron transfer detection Methods 0.000 claims description 2
- 230000006862 enzymatic digestion Effects 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-RNFDNDRNSA-N nickel-63 Chemical compound [63Ni] PXHVJJICTQNCMI-RNFDNDRNSA-N 0.000 claims description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004150 penning trap Methods 0.000 claims description 2
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000002255 enzymatic effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims 1
- 238000005173 quadrupole mass spectroscopy Methods 0.000 claims 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 11
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000007515 enzymatic degradation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/34—Dynamic spectrometers
- H01J49/42—Stability-of-path spectrometers, e.g. monopole, quadrupole, multipole, farvitrons
- H01J49/4205—Device types
- H01J49/422—Two-dimensional RF ion traps
- H01J49/4235—Stacked rings or stacked plates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
- H01J49/062—Ion guides
- H01J49/065—Ion guides having stacked electrodes, e.g. ring stack, plate stack
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
イオンが使用時に移送される開口を有する複数の電極(2a)を含むイオンガイドまたは質量分析器(2)が開示される。擬ポテンシャル障壁がイオンガイドまたは質量分析器(2)の出口に作成される。擬ポテンシャル障壁の振幅または深さは、イオンの質量電荷比に反比例する。イオンをイオンガイドまたは質量分析器(2)の長さに沿って推進させるために、1つ以上の過渡DC電圧(4)がイオンガイドまたは質量分析器(2)の電極(2a)に印加される。電極(2a)に印加される過渡DC電圧(4)の振幅は、イオンがそれらの質量電荷比の逆順でイオンガイドまたは質量分析器(2)から出射されるように、時間と共に増加される。
【選択図】 図1Disclosed is an ion guide or mass analyzer (2) comprising a plurality of electrodes (2a) having openings through which ions are transferred in use. A pseudopotential barrier is created at the exit of the ion guide or mass analyzer (2). The amplitude or depth of the pseudopotential barrier is inversely proportional to the mass-to-charge ratio of the ions. In order to drive ions along the length of the ion guide or mass analyzer (2), one or more transient DC voltages (4) are applied to the electrode (2a) of the ion guide or mass analyzer (2). The The amplitude of the transient DC voltage (4) applied to the electrode (2a) is increased over time so that ions are ejected from the ion guide or mass analyzer (2) in the reverse order of their mass-to-charge ratio.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、質量分析計および質量分析の方法に関する。 The present invention relates to a mass spectrometer and a method of mass spectrometry.
質量分析計に共通する要件は、イオンが中間圧力、すなわち、イオンがイオンガイドを通過する際にイオンおよびガス分子間の衝突が生じやすい圧力に維持された領域を通って転送されることである。イオンは、例えば、比較的高い圧力に維持されたイオン化領域から比較的低い圧力に維持された質量分析器に輸送される必要があり得る。約10-3〜101mbarの中間圧力で動作する無線周波数(radio frequency)(RF)輸送イオンガイドを使用して、イオンを中間圧力に維持された領域を通って輸送することが知られている。また、AC不均一電界(AC inhomogeneous electric field)による荷電粒子またはイオンに対する時間平均力を、荷電粒子またはイオンを電界のより弱い領域へ加速するようなものにすることが周知である。電界の極小値は、一般に擬ポテンシャル井戸(pseudo−potential well)または谷と呼ばれる。RFイオンガイドは、擬ポテンシャル井戸をイオンガイドの中心軸に沿って形成させて、イオンがイオンガイド内に半径方向に閉じ込められるようにすることによって、この現象を利用するように設計される。 A common requirement for mass spectrometers is that ions are transferred through a region maintained at an intermediate pressure, i.e., a pressure at which collisions between ions and gas molecules are likely to occur as the ions pass through the ion guide. . The ions may need to be transported, for example, from an ionization region maintained at a relatively high pressure to a mass analyzer maintained at a relatively low pressure. It is known to transport ions through a region maintained at intermediate pressure using a radio frequency (RF) transport ion guide that operates at an intermediate pressure of about 10 −3 to 10 1 mbar. Yes. It is also well known that the time average force on charged particles or ions due to an AC inhomogeneous electric field is such that the charged particles or ions are accelerated to a region where the electric field is weaker. The minimum value of the electric field is generally called a pseudo-potential well or valley. RF ion guides are designed to take advantage of this phenomenon by forming pseudopotential wells along the central axis of the ion guide so that ions are confined radially within the ion guide.
RFイオンガイドを使用して、イオンを半径方向に閉じ込め、およびイオンをイオンガイド内で衝突誘起解離またはフラグメンテーションさせることが知られている。イオンのフラグメンテーションは、通常、RFイオンガイドまたは専用のガス衝突セル内のいずれかにおいて10-3〜10-1mbarの範囲の圧力で実施される。 It is known to use an RF ion guide to confine ions radially and to cause collision induced dissociation or fragmentation within the ion guide. Ion fragmentation is typically performed at pressures ranging from 10 −3 to 10 −1 mbar, either in an RF ion guide or in a dedicated gas collision cell.
また、RFイオンガイドを使用して、イオンをイオン移動度セパレータ(ion mobility separator)またはスペクトロメータ(spectrometer)内に半径方向に閉じ込めることが知られている。イオン移動度分離は、大気圧または10-1〜101mbarの範囲の圧力で実施され得る。 It is also known to use an RF ion guide to confine ions radially within an ion mobility separator or spectrometer. Ion mobility separation may be performed at atmospheric pressure or pressures ranging from 10 −1 to 10 1 mbar.
異なる形態のRFイオンガイドが知られており、多極ロッドセットイオンガイドおよびリングスタック(ring stack)またはイオントンネル(ion tunnel)イオンガイドを含む。リングスタックまたはイオントンネルイオンガイドは、RF電圧の互いに反対の位相が隣り合う電極に印加される積層リング電極セット(stacked ring electrode set)を含む。擬ポテンシャル井戸は、イオンがイオンガイド内に半径方向に閉じ込められるようにイオンガイドの中心軸に沿って形成される。イオンガイドは、比較的高い移送効率を有する。 Different forms of RF ion guides are known, including multipole rod set ion guides and ring stack or ion tunnel ion guides. The ring stack or ion tunnel ion guide includes a stacked ring electrode set in which opposite phases of the RF voltage are applied to adjacent electrodes. The pseudopotential well is formed along the central axis of the ion guide so that ions are confined radially within the ion guide. The ion guide has a relatively high transfer efficiency.
イオンをイオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、RF電圧が細長いロッドセットに印加されるRFイオンガイドが米国特許公開公報2005/0253064に開示されている。静的な軸方向電界がイオンをイオンガイドの軸に沿って推進するように配置される。また、RF軸方向電界がイオンガイドの出口に配置される。RF軸方向電界は、イオンに対する障壁として作用する軸方向擬ポテンシャル障壁を生成する。擬ポテンシャル障壁の大きさは、イオンの質量電荷比の逆数に依存する。したがって、比較的低い質量電荷比を有するイオンは、比較的大きい振幅を有する擬ポテンシャル障壁を受けることになる。擬ポテンシャル障壁は、比較的低い質量電荷比を有するイオンに対しては静的な軸方向電界の影響を弱めるように作用するが、比較的高い質量電荷比を有するイオンに対しては静的な軸方向電界の影響を弱めるようには作用しない。したがって、比較的高い質量電荷比を有するイオンがイオンガイドから排出される。イオンは、イオンガイド内で操作され得るか、または静的または振動する電界の振幅を調節することによって質量選択的に排出され得る。 An RF ion guide in which an RF voltage is applied to an elongated rod set to radially confine ions within the ion guide is disclosed in US Patent Publication No. 2005/0253064. A static axial electric field is arranged to propel ions along the axis of the ion guide. In addition, an RF axial electric field is disposed at the outlet of the ion guide. The RF axial electric field creates an axial pseudopotential barrier that acts as a barrier to ions. The size of the pseudopotential barrier depends on the reciprocal of the mass-to-charge ratio of the ions. Thus, ions with a relatively low mass to charge ratio will experience a pseudopotential barrier with a relatively large amplitude. The pseudopotential barrier acts to weaken the effects of static axial electric fields for ions with a relatively low mass-to-charge ratio, but static for ions with a relatively high mass-to-charge ratio. It does not act to weaken the influence of the axial electric field. Accordingly, ions having a relatively high mass to charge ratio are ejected from the ion guide. Ions can be manipulated within the ion guide or can be ejected mass-selectively by adjusting the amplitude of a static or oscillating electric field.
上記公知のイオンガイドは、特定の質量電荷比を有するイオンに対して明確な半径方向安定性条件を有する。これは、維持される半径方向ポテンシャルがおよそ二次である性質(quadratic nature)によって決定される。したがって、イオンガイドの軸に沿った振動電界に何らかの変化があると、望ましくない半径方向の不安定性および/または共鳴効果が生じ、その結果、イオンがシステムから失われ得るという問題がある。 The known ion guide has a well defined radial stability condition for ions having a specific mass to charge ratio. This is determined by the quadratic nature of the maintained radial potential is approximately quadratic. Thus, any change in the oscillating electric field along the axis of the ion guide causes the problem of undesirable radial instability and / or resonance effects, so that ions can be lost from the system.
したがって、改善されたイオンガイドまたは質量分析器を提供することが所望される。 Accordingly, it is desirable to provide an improved ion guide or mass analyzer.
本発明の一態様によると、
複数の電極を含むイオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁(pseudo−potential barriers)、波形形状(corrugations)もしくは井戸(wells)が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするための手段と、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進する手段とを含む質量分析器であって、
前記質量分析器は、
第2のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにする手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、手段をさらに含む、質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention,
An ion guide including a plurality of electrodes;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes and, in use, a plurality of first axial time averages or pseudo-potential barriers having a first amplitude. ), Means for causing corrugations or wells to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide;
Means for driving or propelling ions along at least a portion of the axial length of the ion guide;
The mass spectrometer is
One or more second axial time average or pseudopotential barriers, waveform shapes having a second amplitude in use when a second AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes. Or means for allowing a well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is different from the first amplitude, further comprising means An analyzer is provided.
一動作モードにおいて、質量電荷比≧M1を有するイオンが好ましくは前記イオンガイドを出て、他方質量電荷比<M2を有するイオンが好ましくは前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸によって前記イオンガイド内に軸方向にトラップまたは閉じ込められる。好ましくは、M1は、(i)<100、(ii)100〜200、(iii)200〜300、(iv)300〜400、(v)400〜500、(vi)500〜600、(vii)600〜700、(viii)700〜800、(ix)800〜900、(x)900〜1000、および(xi)>1000からなる群から選択される第1の範囲にある。好ましくは、M2は、(i)<100、(ii)100〜200、(iii)200〜300、(iv)300〜400、(v)400〜500、(vi)500〜600、(vii)600〜700、(viii)700〜800、(ix)800〜900、(x)900〜1000、および(xi)>1000からなる群から選択される第2の範囲にある。一実施形態によると、M1およびM2は同じ値を有し得る。 In one mode of operation, ions with a mass to charge ratio ≧ M1 preferably exit the ion guide, while ions with a mass to charge ratio <M2 preferably have the one or more second axial time averages or pseudopotentials. It is trapped or confined axially within the ion guide by a barrier, corrugation or well. Preferably, M1 is (i) <100, (ii) 100-200, (iii) 200-300, (iv) 300-400, (v) 400-500, (vi) 500-600, (vii) It is in a first range selected from the group consisting of 600-700, (viii) 700-800, (ix) 800-900, (x) 900-1000, and (xi)> 1000. Preferably, M2 is (i) <100, (ii) 100-200, (iii) 200-300, (iv) 300-400, (v) 400-500, (vi) 500-600, (vii) It is in a second range selected from the group consisting of 600-700, (viii) 700-800, (ix) 800-900, (x) 900-1000, and (xi)> 1000. According to one embodiment, M1 and M2 may have the same value.
一動作モードにおいて、イオンは、好ましくはそれらの質量電荷比の順またはそれらの質量電荷比の逆順で、前記質量分析器から逐次排出される。 In one mode of operation, ions are sequentially ejected from the mass analyzer, preferably in order of their mass to charge ratio or in reverse order of their mass to charge ratio.
上記好適な実施形態によると、前記イオンガイドは、n個の軸方向セグメントを含み、ここでnは、(i)1〜10、(ii)11〜20、(iii)21〜30、(iv)31〜40、(v)41〜50、(vi)51〜60、(vii)61〜70、(viii)71〜80、(ix)81〜90、(x)91〜100、および(xi)>100からなる群から選択される。各軸方向セグメントは、好ましくは1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20または>20個の電極を含む。前記軸方向セグメントのうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%の軸方向長さは、好ましくは(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、および(xi)>10mmからなる群から選択される。前記軸方向セグメントのうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%の間の間隔は、好ましくは(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、および(xi)>10mmからなる群から選択される。 According to the preferred embodiment, the ion guide comprises n axial segments, where n is (i) 1-10, (ii) 11-20, (iii) 21-30, (iv) ) 31-40, (v) 41-50, (vi) 51-60, (vii) 61-70, (viii) 71-80, (ix) 81-90, (x) 91-100, and (xi) )> 100. Each axial segment is preferably 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20 or> 20 Including one electrode. Axial length of at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the axial segment Preferably, (i) <1 mm, (ii) 1-2 mm, (iii) 2-3 mm, (iv) 3-4 mm, (v) 4-5 mm, (vi) 5-6 mm, (vii) 6 -7 mm, (viii) 7-8 mm, (ix) 8-9 mm, (x) 9-10 mm, and (xi)> 10 mm. Spacing between at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the axial segments. Are preferably (i) <1 mm, (ii) 1-2 mm, (iii) 2-3 mm, (iv) 3-4 mm, (v) 4-5 mm, (vi) 5-6 mm, (vii) 6- 7 mm, (viii) 7-8 mm, (ix) 8-9 mm, (x) 9-10 mm, and (xi)> 10 mm.
前記イオンガイドは、好ましくは(i)<20mm、(ii)20〜40mm、(iii)40〜60mm、(iv)60〜80mm、(v)80〜100mm、(vi)100〜120mm、(vii)120〜140mm、(viii)140〜160mm、(ix)160〜180mm、(x)180〜200mm、および(xi)>200mmからなる群から選択される長さを有する。 The ion guide is preferably (i) <20 mm, (ii) 20-40 mm, (iii) 40-60 mm, (iv) 60-80 mm, (v) 80-100 mm, (vi) 100-120 mm, (vii ) 120-140 mm, (viii) 140-160 mm, (ix) 160-180 mm, (x) 180-200 mm, and (xi)> 200 mm in length.
前記イオンガイドは、好ましくは少なくとも(i)10〜20個の電極、(ii)20〜30個の電極、(iii)30〜40個の電極、(iv)40〜50個の電極、(v)50〜60個の電極、(vi)60〜70個の電極、(vii)70〜80個の電極、(viii)80〜90個の電極、(ix)90〜100個の電極、(x)100〜110個の電極、(xi)110〜120個の電極、(xii)120〜130個の電極、(xiii)130〜140個の電極、(xiv)140〜150個の電極、または(xv)>150個の電極を含む。 The ion guide is preferably at least (i) 10-20 electrodes, (ii) 20-30 electrodes, (iii) 30-40 electrodes, (iv) 40-50 electrodes, (v ) 50-60 electrodes, (vi) 60-70 electrodes, (vii) 70-80 electrodes, (viii) 80-90 electrodes, (ix) 90-100 electrodes, (x ) 100-110 electrodes, (xi) 110-120 electrodes, (xii) 120-130 electrodes, (xiii) 130-140 electrodes, (xiv) 140-150 electrodes, or ( xv)> 150 electrodes included.
上記好適な実施形態によると、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、イオンは、使用時に前記開口を通って移送される。前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、好ましくは実質的に円形、長方形、正方形または楕円形の開口を有する。 According to the preferred embodiment, the plurality of electrodes includes an electrode having an opening, and ions are transported through the opening in use. At least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the electrodes are preferably substantially Have a circular, rectangular, square or oval opening.
一実施形態によると、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、実質的に同じサイズであるか、または実質的に同じ面積を有する開口を有する。別の実施形態によると、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、サイズまたは面積が前記イオンガイドの軸に沿った方向に漸進的により大きくおよび/またはより小さくなる開口を有する。 According to one embodiment, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the electrodes Have openings that are substantially the same size or have substantially the same area. According to another embodiment, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100 of the electrodes % Has an opening whose size or area is progressively larger and / or smaller in the direction along the axis of the ion guide.
上記好適な実施形態によると、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、好ましくは(i)≦1.0mm、(ii)≦2.0mm、(iii)≦3.0mm、(iv)≦4.0mm、(v)≦5.0mm、(vi)≦6.0mm、(vii)≦7.0mm、(viii)≦8.0mm、(ix)≦9.0mm、(x)≦10.0mm、および(xi)>10.0mmからなる群から選択される内径または寸法を有する開口を有する。 According to the preferred embodiment, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% of the electrodes or 100% is preferably (i) ≦ 1.0 mm, (ii) ≦ 2.0 mm, (iii) ≦ 3.0 mm, (iv) ≦ 4.0 mm, (v) ≦ 5.0 mm, (vi) ≦ Selected from the group consisting of 6.0 mm, (vii) ≦ 7.0 mm, (viii) ≦ 8.0 mm, (ix) ≦ 9.0 mm, (x) ≦ 10.0 mm, and (xi)> 10.0 mm Having an opening having an inner diameter or dimension.
前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、好ましくは(i)5mm以下、(ii)4.5mm以下、(iii)4mm以下、(iv)3.5mm以下、(v)3mm以下、(vi)2.5mm以下、(vii)2mm以下、(viii)1.5mm以下、(ix)1mm以下、(x)0.8mm以下、(xi)0.6mm以下、(xii)0.4mm以下、(xiii)0.2mm以下、(xiv)0.1mm以下、および(xv)0.25mm以下からなる群から選択される軸方向距離だけ互いに間隔をあけられる。 At least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the electrodes are preferably (i ) 5 mm or less, (ii) 4.5 mm or less, (iii) 4 mm or less, (iv) 3.5 mm or less, (v) 3 mm or less, (vi) 2.5 mm or less, (vii) 2 mm or less, (viii) 1 0.5 mm or less, (ix) 1 mm or less, (x) 0.8 mm or less, (xi) 0.6 mm or less, (xii) 0.4 mm or less, (xiii) 0.2 mm or less, (xiv) 0.1 mm or less, And (xv) spaced apart from each other by an axial distance selected from the group consisting of 0.25 mm or less.
前記複数の電極のうちの少なくともいくつかは、開口を含み、かつ前記開口の内径または寸法の隣り合う電極間の中心間軸方向間隔に対する比は、(i)<1.0、(ii)1.0〜1.2、(iii)1.2〜1.4、(iv)1.4〜1.6、(v)1.6〜1.8、(vi)1.8〜2.0、(vii)2.0〜2.2、(viii)2.2〜2.4、(ix)2.4〜2.6、(x)2.6〜2.8、(xi)2.8〜3.0、(xii)3.0〜3.2、(xiii)3.2〜3.4、(xiv)3.4〜3.6、(xv)3.6〜3.8、(xvi)3.8〜4.0、(xvii)4.0〜4.2、(xviii)4.2〜4.4、(xix)4.4〜4.6、(xx)4.6〜4.8、(xxi)4.8〜5.0、および(xxii)>5.0からなる群から選択される。 At least some of the plurality of electrodes include openings, and the ratio of the inner diameter or size of the openings to the center-to-center axial spacing between adjacent electrodes is (i) <1.0, (ii) 1 0.0-1.2, (iii) 1.2-1.4, (iv) 1.4-1.6, (v) 1.6-1.8, (vi) 1.8-2.0 (Vii) 2.0-2.2, (viii) 2.2-2.4, (ix) 2.4-2.6, (x) 2.6-2.8, (xi) 2. 8-3.0, (xii) 3.0-3.2, (xiii) 3.2-3.4, (xiv) 3.4-3.6, (xv) 3.6-3.8, (Xvi) 3.8 to 4.0, (xvii) 4.0 to 4.2, (xviii) 4.2 to 4.4, (xix) 4.4 to 4.6, (xx) 4.6 ~ 4.8, (xxi) 4.8-5.0, and (x ii)> is selected from the group consisting of 5.0.
前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%は、好ましくは(i)5mm以下、(ii)4.5mm以下、(iii)4mm以下、(iv)3.5mm以下、(v)3mm以下、(vi)2.5mm以下、(vii)2mm以下、(viii)1.5mm以下、(ix)1mm以下、(x)0.8mm以下、(xi)0.6mm以下、(xii)0.4mm以下、(xiii)0.2mm以下、(xiv)0.1mm以下、および(xv)0.25mm以下からなる群から選択される厚さまたは軸方向長さを有する。 At least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% of the electrodes are preferably (i ) 5 mm or less, (ii) 4.5 mm or less, (iii) 4 mm or less, (iv) 3.5 mm or less, (v) 3 mm or less, (vi) 2.5 mm or less, (vii) 2 mm or less, (viii) 1 0.5 mm or less, (ix) 1 mm or less, (x) 0.8 mm or less, (xi) 0.6 mm or less, (xii) 0.4 mm or less, (xiii) 0.2 mm or less, (xiv) 0.1 mm or less, And (xv) having a thickness or axial length selected from the group consisting of 0.25 mm or less.
他の一実施形態によると、前記イオンガイドは、セグメント化ロッドセット(segmented rod set)イオンガイドを含む。前記イオンガイドは、例えば、セグメント化四重極、六重極もしくは八重極イオンガイドまたは8個より多くのセグメント化ロッドセットを含むイオンガイドを含み得る。前記イオンガイドは、好ましくは(i)略または実質的に円形断面、(ii)略または実質的に双曲面、(iii)円弧または部分円形断面、(iv)略または実質的に長方形断面、および(v)略または実質的に正方形断面からなる群から選択される断面を有する複数の電極を含む。 According to another embodiment, the ion guide comprises a segmented rod set ion guide. The ion guide can include, for example, a segmented quadrupole, hexapole or octupole ion guide or an ion guide including more than eight segmented rod sets. The ion guide is preferably (i) a substantially or substantially circular cross section, (ii) a substantially or substantially hyperboloid, (iii) an arc or partial circular cross section, (iv) a substantially or substantially rectangular cross section, and (V) includes a plurality of electrodes having a cross section selected from the group consisting of substantially or substantially square cross sections.
別の実施形態によると、前記イオンガイドは、複数のグループのプレート電極(plate electrodes)が前記イオンガイドの軸方向長さに沿って配置されるような複数のプレート電極を含み得る。各グループのプレート電極は、好ましくは第1のプレート電極および第2のプレート電極を含む。前記第1および第2のプレート電極は、好ましくは実質的に同じ平面内に配置され、かつ好ましくは前記イオンガイドの中心長軸のいずれか一方の側に配置される。前記質量分析器は、好ましくはイオンを前記イオンガイド内に第1の半径方向に閉じ込めるためにDC電圧またはポテンシャルを前記第1および第2のプレート電極に印加するための手段をさらに含む。 According to another embodiment, the ion guide may include a plurality of plate electrodes such that a plurality of groups of plate electrodes are disposed along the axial length of the ion guide. Each group of plate electrodes preferably includes a first plate electrode and a second plate electrode. The first and second plate electrodes are preferably disposed in substantially the same plane, and are preferably disposed on either side of the central long axis of the ion guide. The mass analyzer preferably further comprises means for applying a DC voltage or potential to the first and second plate electrodes to confine ions in a first radial direction within the ion guide.
各グループの電極は、好ましくは第3の電極および第4の電極をさらに含む。前記第3および第4の電極は、好ましくは実質的に同じ平面内に配置され、かつ好ましくは前記イオンガイドの中心長軸のいずれか一方の側に前記第1および第2の電極とは異なる方向に配置される。前記ACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくはイオンを前記イオンガイド内に第2の半径方向に閉じ込めるために、前記ACまたはRF電圧を前記第3のおよび第4のプレート電極に印加するように構成される。第2の半径方向は、好ましくは第1の半径方向と直交する。 Each group of electrodes preferably further includes a third electrode and a fourth electrode. The third and fourth electrodes are preferably arranged in substantially the same plane and are preferably different from the first and second electrodes on either side of the central longitudinal axis of the ion guide. Arranged in the direction. The means for applying the AC or RF voltage preferably applies the AC or RF voltage to the third and fourth plate electrodes to confine ions in a second radial direction within the ion guide. Configured to do. The second radial direction is preferably orthogonal to the first radial direction.
前記イオンを駆動または推進するための手段は、好ましくは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形を前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%に印加するための手段を含む。前記1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは前記1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形は、好ましくは(i)1つのポテンシャルの山もしくは障壁、(ii)1つのポテンシャル井戸、(iii)複数のポテンシャルの山もしくは障壁、(iv)複数のポテンシャル井戸、(v)1つのポテンシャルの山もしくは障壁と1つのポテンシャル井戸の組み合わせ、または(vi)複数のポテンシャルの山もしくは障壁と複数のポテンシャル井戸の組み合わせを作成する。 The means for driving or propelling the ions preferably applies one or more transient DC voltages or potentials or one or more DC voltages or potential waveforms to at least 1%, 5%, 10%, 20% of the electrodes. Means for applying to 30%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100%. The one or more transient DC voltages or potentials or the one or more DC voltages or potential waveforms are preferably (i) a potential peak or barrier, (ii) a potential well, (iii) a plurality of potentials. (Iv) multiple potential wells, (v) a combination of one potential peak or barrier and one potential well, or (vi) a combination of multiple potential peaks or barriers and multiple potential wells. create.
前記1つ以上の過渡DC電圧またはポテンシャル波形は、好ましくは繰り返し波形または方形波を含む。 The one or more transient DC voltage or potential waveforms preferably include a repetitive waveform or a square wave.
上記好適な実施形態によると、複数の軸方向DCポテンシャル井戸が好ましくは前記イオンガイドの長さに沿って平行移動されるか、または複数の過渡DCポテンシャルまたは電圧が前記イオンガイドの軸方向長さに沿って電極に漸進的に印加される。 According to the preferred embodiment, a plurality of axial DC potential wells are preferably translated along the length of the ion guide, or a plurality of transient DC potentials or voltages are provided along the axial length of the ion guide. Are applied progressively to the electrodes.
一実施形態によると、前記質量分析器は、好ましくは前記1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは前記1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅、高さまたは深さを漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成または適合される第1の手段をさらに含む。 According to one embodiment, does the mass analyzer preferably gradually increase the amplitude, height or depth of the one or more transient DC voltages or potentials or the one or more DC voltage or potential waveforms? Progressively decreasing, incrementally changing, scanning, linearly increasing, linearly decreasing, incrementally, incrementally or otherwise, or incrementally , Further comprising first means configured or adapted to reduce progressively or otherwise.
前記第1の手段は、好ましくは前記1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは前記1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅、高さまたは深さをx1ボルトだけ期間t1にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成または適合される。好ましくは、x1は、(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。好ましくは、t1は、(i)<lms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The first means preferably progressively increases the amplitude, height or depth of the one or more transient DC voltages or potentials or the one or more DC voltage or potential waveforms over a period t 1 by x 1 volts. Increasing, progressively decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, increasing stepwise, incrementally or otherwise, Or configured or adapted to reduce stepwise, incrementally or otherwise. Preferably, x 1 is (i) <0.1V, (ii) 0.1-0.2V, (iii) 0.2-0.3V, (iv) 0.3-0.4V, (v ) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0.6-0.7V, (viii) 0.7-0.8V, (ix) 0.8-0 .9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, (xiv) 2.5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) 4.5-5. 0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) 7 0.0-7.5V, (xxiv) 7.5 8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9.5V, (xxviii) 9.5-10.0V, and ( xxix)> 10.0V. Preferably, t 1 is (i) <lms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは前記1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは前記1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形が前記電極に印加される速度またはレート(rate)を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第2の手段をさらに含む。前記第2の手段は、好ましくは前記1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは前記1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形が前記電極にx2m/sだけ期間t2にわたって印加される速度またはレートを漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x2は、(i)<1、(ii)1〜2、(iii)2〜3、(iv)3〜4、(v)4〜5、(vi)5〜6、(vii)6〜7、(viii)7〜8、(ix)8〜9、(x)9〜10、(xi)10〜11、(xii)11〜12、(xiii)12〜13、(xiv)13〜14、(xv)14〜15、(xvi)15〜16、(xvii)16〜17、(xviii)17〜18、(xix)18〜19、(xx)19〜20、(xxi)20〜30、(xxii)30〜40、(xxiii)40〜50、(xxiv)50〜60、(xxv)60〜70、(xxvi)70〜80、(xxvii)80〜90、(xxviii)90〜100、(xxix)100〜150、(xxx)150〜200、(xxxi)200〜250、(xxxii)250〜300、(xxxiii)300〜350、(xxxiv)350〜400、(xxxv)400〜450、(xxxvi)450〜500、および(xxxvii)>500からなる群から選択される。好ましくは、t2は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The mass analyzer preferably progressively increases the rate or rate at which the one or more transient DC voltages or potentials or the one or more DC voltage or potential waveforms are applied to the electrodes, Progressively decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, incrementally, incrementally or otherwise, incrementally, It further includes a second means configured and adapted to reduce progressively or otherwise. The second means is preferably a rate or rate at which the one or more transient DC voltages or potentials or the one or more DC voltage or potential waveforms are applied to the electrodes for a period t 2 by x 2 m / s. Progressively increasing, progressively decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, stepwise, incrementally or otherwise Constructed and adapted to increase or decrease in stages, gradual or otherwise. Preferably, x 2 are, (i) <1, ( ii) 1~2, (iii) 2~3, (iv) 3~4, (v) 4~5, (vi) 5~6, (vii ) 6-7, (viii) 7-8, (ix) 8-9, (x) 9-10, (xi) 10-11, (xii) 11-12, (xiii) 12-13, (xiv) 13-14, (xv) 14-15, (xvi) 15-16, (xvii) 16-17, (xviii) 17-18, (xix) 18-19, (xx) 19-20, (xxi) 20 -30, (xxii) 30-40, (xxiii) 40-50, (xxiv) 50-60, (xxv) 60-70, (xxvi) 70-80, (xxvii) 80-90, (xxviii) 90- 100, (xxxix) 100-150, (xxx) 150-200, (xxxi 200-250, (xxxii) 250-300, (xxxiii) 300-350, (xxxiv) 350-400, (xxxv) 400-450, (xxxvi) 450-500, and (xxxvii)> 500 Is done. Preferably, t 2 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
上記好適な実施形態によると、前記第1のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される振幅を有する。 According to the preferred embodiment, the first AC or RF voltage is preferably (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50-100V peak-to-peak, (iii) 100-150V peak-to-peak, ( (iv) 150-200V peak-to-peak, (v) 200-250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak, (x) 450-500V peak-to-peak, (xi) 500-550V peak-to-peak, (xxii) 550-600V peak-to-peak, (xxiii) 600-650V peak-to-peak, xxiv) 650-700V peak-to-peak, ( xxx) 700-750V peak-to-peak, (xxvi) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, xxx) having an amplitude selected from the group consisting of 950-1000V peak-to-peak, and (xxx)> 1000V peak-to-peak.
上記好適な実施形態によると、前記第1のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される周波数を有する。 According to the preferred embodiment, the first AC or RF voltage is preferably (i) <100 kHz, (ii) 100-200 kHz, (iii) 200-300 kHz, (iv) 300-400 kHz, (v) 400-500 kHz, (vi) 0.5-1.0 MHz, (vii) 1.0-1.5 MHz, (viii) 1.5-2.0 MHz, (ix) 2.0-2.5 MHz, (x ) 2.5-3.0 MHz, (xi) 3.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5 0.0 MHz, (xv) 5.0-5.5 MHz, (xvi) 5.5-6.0 MHz, (xvii) 6.0-6.5 MHz, (xviii) 6.5-7.0 MHz, (xix) 7.0 to 7.5 MHz, (xx) .5 to 8.0 MHz, (xxi) 8.0 to 8.5 MHz, (xxii) 8.5 to 9.0 MHz, (xxiii) 9.0 to 9.5 MHz, (xxiv) 9.5 to 10.0 MHz , And (xxv)> 10.0 MHz.
前記第1のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは前記第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%に印加するように構成される。 The means for applying the first AC or RF voltage preferably applies the first AC or RF voltage to at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20% of the plurality of electrodes, Apply to 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% Configured as follows.
前記第1のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合う電極グループに前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相を供給するように構成される。 The means for applying the first AC or RF voltage preferably provides opposite phases of the first AC or RF voltage to axially adjacent electrodes or axially adjacent electrode groups. Configured.
前記第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは、使用時に、前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成される。 The first axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well is preferably at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30% of the axial length of the ion guide in use, Created along 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸の少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成または提供される。 The plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40% of the central long axis of the ion guide, Created or provided along 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの上流部分および/または中間部分および/または下流部分に作成または提供される。 The plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably created or provided in the upstream and / or intermediate and / or downstream portions of the ion guide.
一実施形態によると、前記イオンガイドは、好ましくは長さLを有し、かつ前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの長さに沿って、(i)0〜0.1L、(ii)0.1〜0.2L、(iii)0.2〜0.3L、(iv)0.3〜0.4L、(v)0.4〜0.5L、(vi)0.5〜0.6L、(vii)0.6〜0.7L、(viii)0.7〜0.8L、(ix)0.8〜0.9L、および(x)0.9〜1.0Lからなる群から選択される変位(displacement)を有する1つ以上の領域または位置に作成または提供される。 According to one embodiment, the ion guide preferably has a length L, and the plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably the length of the ion guide. (I) 0 to 0.1 L, (ii) 0.1 to 0.2 L, (iii) 0.2 to 0.3 L, (iv) 0.3 to 0.4 L, (v) 0 .4 to 0.5 L, (vi) 0.5 to 0.6 L, (vii) 0.6 to 0.7 L, (viii) 0.7 to 0.8 L, (ix) 0.8 to 0.9 L And (x) one or more regions or locations having a displacement selected from the group consisting of 0.9-1.0 L.
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸から遠ざかるように半径方向に少なくともr mmだけ延伸し、ここで、rは、(i)<1、(ii)1〜2、(iii)2〜3、(iv)3〜4、(v)4〜5、(vi)5〜6、(vii)6〜7、(viii)7〜8、(ix)8〜9、(x)9〜10、および(xi)>10からなる群から選択される。 The plurality of first axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells preferably extend radially at least r mm away from the central longitudinal axis of the ion guide, where r is (I) <1, (ii) 1-2, (iii) 2-3, (iv) 3-4, (v) 4-5, (vi) 5-6, (vii) 6-7, (viii) ) 7-8, (ix) 8-9, (x) 9-10, and (xi)> 10.
一実施形態によると、質量電荷比が1〜100、100〜200、200〜300、300〜400、400〜500、500〜600、600〜700、700〜800、800〜900または900〜1000の範囲にあるイオンに対して、前記第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%の振幅、高さまたは深さは、好ましくは(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。 According to one embodiment, the mass to charge ratio is 1-100, 100-200, 200-300, 300-400, 400-500, 500-600, 600-700, 700-800, 800-900 or 900-1000. For ions in range, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50% of the first axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well, The amplitude, height or depth of 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% is preferably (i) <0.1V, (ii) 0.1-0.2V, (iii) ) 0.2-0.3V, (iv) 0.3-0.4V, (v) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0.6-0 .7V, (viii) 0.7-0.8V, (ix) 0. ~ 0.9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, ( xiv) 2.5 to 3.0 V, (xv) 3.0 to 3.5 V, (xvi) 3.5 to 4.0 V, (xvii) 4.0 to 4.5 V, (xviii) 4.5 to 5.0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) ) 7.0-7.5V, (xxiv) 7.5-8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9 .5V, (xxviii) 9.5 to 10.0V, and (xxix)> 10.0V.
好ましくは、使用時に、1cm当たり少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9または10個の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って提供または作成される。 Preferably, in use, at least 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells per cm are said ion guide. Provided or created along at least a portion of the axial length of the.
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、好ましくは前記複数の電極の軸方向位置に対応する極小値を有する。 The plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably minimal values corresponding to the axial position of the plurality of electrodes, preferably along the axial length of the ion guide. Have
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、好ましくは近接する電極間の軸方向距離または間隔の実質的に50%に対応する軸方向位置に位置付けられた極大値を有する。 The plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably substantially along the axial length of the ion guide, preferably a substantial axial distance or spacing between adjacent electrodes. And has a local maximum located at an axial position corresponding to 50%.
前記複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは特定の質量電荷比を有するイオンに対して実質的に同じ高さ、深さまたは振幅である極小値および/または極大値を有し、かつ前記極小値および/または極大値は、好ましくは前記複数の電極の軸方向変位または間隔と実質的に同じである周期(periodicity)、またはその倍数である周期を有する。 The plurality of first axial time-average or pseudo-potential barriers, corrugations or wells preferably have a minimum value that is substantially the same height, depth or amplitude for ions having a particular mass to charge ratio and And / or the minimum value and / or maximum value is preferably a period that is substantially the same as an axial displacement or interval of the plurality of electrodes, or a period that is a multiple thereof. Have.
一実施形態によると、前記質量分析器は、好ましくは前記電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第3の手段を含む。 According to one embodiment, the mass analyzer preferably progressively increases, progressively reduces or gradually changes the amplitude of the first AC or RF voltage applied to the electrode. Configured to scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise And includes a third means adapted.
前記第3の手段は、好ましくは前記第1のACまたはRF電圧の振幅をx3ボルトだけ期間t3にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x3は、(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される。好ましくは、t3は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The third means preferably scans whether the amplitude of the first AC or RF voltage is gradually increased, gradually decreased, gradually changed, x 3 volts, over a period t 3 Configured, adapted to increase, linearly decrease, linearly decrease, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise The Preferably, x 3 is, (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50 to 100 peak-to-peak, (iii) 100~150V peak-to-peak, (iv) 150~200V peak-to-peak, (v) 200 ~ 250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak, (x) 450 ~ 500V peak-to-peak, (xi) 500-550V peak-to-peak, (xxii) 550-600V peak-to-peak, (xxiii) 600-650V peak-to-peak, (xxiv) 650-700V peak-to-peak, (xxv) 700 ~ 750V peak-to-peak, (xxv ) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, (xxx) 950-1000V peak-to-peak, and xxxi)> 1000 V selected from the group consisting of peak-to-peak. Preferably, t 3 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは前記電極に印加される前記第1のRFまたはAC電圧の周波数を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第4の手段をさらに含む。前記第4の手段は、好ましくは前記電極に印加される前記第1のRFまたはAC電圧の周波数をx4MHzだけ期間t4にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x4は、(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される。好ましくは、t4は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The mass analyzer preferably progressively increases, progressively decreases, progressively changes or scans the frequency of the first RF or AC voltage applied to the electrode; Configured and adapted to linearly increase, linearly decrease, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise These means are further included. The fourth means preferably gradually increases, decreases gradually or gradually increases the frequency of the first RF or AC voltage applied to the electrode over a period t 4 by x 4 MHz. , Scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise As configured and adapted. Preferably, x 4 is, (i) <100kHz, ( ii) 100~200kHz, (iii) 200~300kHz, (iv) 300~400kHz, (v) 400~500kHz, (vi) 0.5~1. 0 MHz, (vii) 1.0-1.5 MHz, (viii) 1.5-2.0 MHz, (ix) 2.0-2.5 MHz, (x) 2.5-3.0 MHz, (xi) 3 0.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5.0 MHz, (xv) 5.0-5.5 MHz (Xvi) 5.5-6.0 MHz, (xvii) 6.0-6.5 MHz, (xviii) 6.5-7.0 MHz, (xix) 7.0-7.5 MHz, (xx) 7. 5 to 8.0 MHz, (xxi) 8.0 to 8.5 MH , (Xxii) 8.5~9.0MHz, (xxiii) 9.0~9.5MHz, is selected from the group consisting of (xxiv) 9.5~10.0MHz, and (xxv)> 10.0MHz. Preferably, t 4 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
一実施形態によると、前記第2のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される振幅を有する。 According to one embodiment, the second AC or RF voltage is preferably (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50-100V peak-to-peak, (iii) 100-150V peak-to-peak, (iv) 150-200V peak-to-peak, (v) 200-250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450 V peak-to-peak, (x) 450-500 V peak-to-peak, (xi) 500-550 V peak-to-peak, (xxii) 550-600 V peak-to-peak, (xxiii) 600-650 V peak-to-peak, (xxiv) 650-700V peak-to-peak, (xxv) 00-750V peak-to-peak, (xxvi) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, (xxx) Having an amplitude selected from the group consisting of 950-1000V peak-to-peak, and (xxxi)> 1000V peak-to-peak.
前記第2のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される周波数を有する。 The second AC or RF voltage is preferably (i) <100 kHz, (ii) 100-200 kHz, (iii) 200-300 kHz, (iv) 300-400 kHz, (v) 400-500 kHz, (vi) 0 .5 to 1.0 MHz, (vii) 1.0 to 1.5 MHz, (viii) 1.5 to 2.0 MHz, (ix) 2.0 to 2.5 MHz, (x) 2.5 to 3.0 MHz (Xi) 3.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5.0 MHz, (xv) 5. 0 to 5.5 MHz, (xvi) 5.5 to 6.0 MHz, (xvii) 6.0 to 6.5 MHz, (xviii) 6.5 to 7.0 MHz, (xix) 7.0 to 7.5 MHz, (Xx) 7.5-8.0 MHz, (xx ) 8.0-8.5 MHz, (xxii) 8.5-9.0 MHz, (xxiii) 9.0-9.5 MHz, (xxiv) 9.5-10.0 MHz, and (xxv)> 10.0 MHz Having a frequency selected from the group consisting of:
前記第2のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは前記第2のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%および/または前記複数の電極のうちの少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50または>50個に印加するように構成される。 The means for applying the second AC or RF voltage preferably applies the second AC or RF voltage to at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20% of the plurality of electrodes, 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% and / or At least 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, of the plurality of electrodes. 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, Configure to apply to 47, 48, 49, 50 or> 50.
前記第2のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合う電極グループに前記第2のACまたはRF電圧の互いに反対の位相を供給するように構成される。 The means for applying the second AC or RF voltage preferably provides opposite phases of the second AC or RF voltage to axially adjacent electrodes or axially adjacent electrode groups. Configured.
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは、使用時に、前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成される。 The one or more second axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably at least 1%, 5%, 10%, 20% of the axial length of the ion guide in use. 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸の少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成または提供される。 The one or more second axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40% of the central long axis of the ion guide. %, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記複数の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの上流部分および/または中間部分および/または下流部分に作成または提供される。 The plurality of second axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably created or provided in the upstream and / or intermediate and / or downstream portions of the ion guide.
前記イオンガイドは、好ましくは長さLを有し、かつ前記複数の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの長さに沿って、(i)0〜0.1L、(ii)0.1〜0.2L、(iii)0.2〜0.3L、(iv)0.3〜0.4L、(v)0.4〜0.5L、(vi)0.5〜0.6L、(vii)0.6〜0.7L、(viii)0.7〜0.8L、(ix)0.8〜0.9L、および(x)0.9〜1.0Lからなる群から選択される変位を有する1つ以上の領域または位置に作成または提供される。 The ion guide preferably has a length L, and the plurality of second axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably along the length of the ion guide (i ) 0-0.1L, (ii) 0.1-0.2L, (iii) 0.2-0.3L, (iv) 0.3-0.4L, (v) 0.4-0.5L , (Vi) 0.5-0.6L, (vii) 0.6-0.7L, (viii) 0.7-0.8L, (ix) 0.8-0.9L, and (x) 0 Created or provided in one or more regions or locations having a displacement selected from the group consisting of .9-1.0L.
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸から遠ざかるように半径方向に少なくともr mmだけ延伸し、ここで、rは、(i)<1、(ii)1〜2、(iii)2〜3、(iv)3〜4、(v)4〜5、(vi)5〜6、(vii)6〜7、(viii)7〜8、(ix)8〜9、(x)9〜10、および(xi)>10からなる群から選択される。 The one or more second axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells preferably extend radially at least r mm away from the central longitudinal axis of the ion guide, where r (I) <1, (ii) 1-2, (iii) 2-3, (iv) 3-4, (v) 4-5, (vi) 5-6, (vii) 6-7, (Viii) selected from the group consisting of 7-8, (ix) 8-9, (x) 9-10, and (xi)> 10.
一実施形態によると、質量電荷比が1〜100、100〜200、200〜300、300〜400、400〜500、500〜600、600〜700、700〜800、800〜900または900〜1000の範囲にあるイオンに対して、前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%の振幅、高さまたは深さは、好ましくは(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。 According to one embodiment, the mass to charge ratio is 1-100, 100-200, 200-300, 300-400, 400-500, 500-600, 600-700, 700-800, 800-900 or 900-1000. For ions in range, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40% of the one or more second axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% amplitude, height or depth is preferably (i) <0.1V, (ii) 0.1-0. 2V, (iii) 0.2-0.3V, (iv) 0.3-0.4V, (v) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0 .6 to 0.7 V, (viii) 0.7 to 0.8 V, ( x) 0.8-0.9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0- 2.5V, (xiv) 2.5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) ) 4.5-5.0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7 0.0V, (xxiii) 7.0-7.5V, (xxiv) 7.5-8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) It is selected from the group consisting of 9.0-9.5V, (xxviii) 9.5-10.0V, and (xxix)> 10.0V.
好ましくは、使用時に、1cm当たり少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9または10個の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さに沿って提供または作成される。 Preferably, in use, at least 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 second axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells per cm are said ion guide. Provided or created along the axial length of.
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、前記複数の電極の軸方向位置に対応する極小値を有する。 The one or more second axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably local minimums corresponding to axial positions of the plurality of electrodes along the axial length of the ion guide. Have
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、近接する電極間の軸方向距離または間隔の実質的に50%に対応する軸方向位置に位置付けられた極大値を有する。 The one or more second axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably substantially the axial distance or spacing between adjacent electrodes along the axial length of the ion guide. And has a local maximum located at an axial position corresponding to 50%.
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは特定の質量電荷比を有するイオンに対して実質的に同じ高さ、深さまたは振幅である極小値および/または極大値を有する。前記極小値および/または極大値は、好ましくは前記複数の電極の軸方向変位または間隔と実質的に同じである周期、またはその倍数である周期を有する。 The one or more second axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably minimal, which are substantially the same height, depth or amplitude for ions having a particular mass to charge ratio. Value and / or local maximum. The minimum value and / or maximum value preferably have a period that is substantially the same as, or a multiple of, the axial displacement or spacing of the plurality of electrodes.
上記好適な実施形態によると、前記第2の振幅は、好ましくは前記第1の振幅よりも小さいか、または大きい。好ましくは、前記第2の振幅の前記第1の振幅に対する比は、(i)<1、(ii)>1、(iii)1〜2、(iv)2〜3、(v)3〜4、(vi)4〜5、(vii)5〜6、(viii)6〜7、(ix)7〜8、(x)8〜9、(xi)9〜10、(xii)10〜11、(xiii)11〜12、(xiv)12〜13、(xv)13〜14、(xvi)14〜15、(xvii)15〜16、(xviii)16〜17、(xix)17〜18、(xx)18〜19、(xxi)19〜20、(xxii)20〜25、(xxiii)25〜30、(xxiv)30〜35、(xxv)35〜40、(xxvi)40〜45、(xxvii)45〜50、(xxviii)50〜60、(xxix)60〜70、(xxx)70〜80、(xxxi)80〜90、(xxxii)90〜100、および(xxxiii)>100からなる群から選択される。 According to the preferred embodiment, the second amplitude is preferably smaller or larger than the first amplitude. Preferably, the ratio of the second amplitude to the first amplitude is (i) <1, (ii)> 1, (iii) 1-2, (iv) 2-3, (v) 3-4 , (Vi) 4-5, (vii) 5-6, (viii) 6-7, (ix) 7-8, (x) 8-9, (xi) 9-10, (xii) 10-11, (Xiii) 11-12, (xiv) 12-13, (xv) 13-14, (xvi) 14-15, (xvii) 15-16, (xviii) 16-17, (xix) 17-18, xx) 18-19, (xxi) 19-20, (xxii) 20-25, (xxiii) 25-30, (xxiv) 30-35, (xxv) 35-40, (xxvi) 40-45, (xxvii ) 45-50, (xxviii) 50-60, (xxix) 60-70, (xxx) 7 ~80, (xxxi) 80~90, is selected from the group consisting of (xxxii) 90 to 100, and (xxxiii)> 100.
一実施形態によると、前記質量分析器は、前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第2のACまたはRF電圧の振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第5の手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass analyzer progressively increases or decreases the amplitude of the second AC or RF voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. Incrementally changing, scanning, linearly increasing, linearly decreasing, incrementally, incrementally or otherwise, incrementally, incrementally, or otherwise A fifth means configured and adapted to reduce at a.
前記第5の手段は、好ましくは前記第2のACまたはRF電圧の振幅をx5ボルトだけ期間t5にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x5は、(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される。好ましくは、t5は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 It said fifth means, or preferably either progressively increased over only a period t 5 amplitude x 5 volts of the second AC or RF voltage, or progressively reduced, progressively changes, scan Configured, adapted to increase, linearly decrease, linearly decrease, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise The Preferably, x 5 is, (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50 to 100 peak-to-peak, (iii) 100~150V peak-to-peak, (iv) 150~200V peak-to-peak, (v) 200 ~ 250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak, (x) 450 ~ 500V peak-to-peak, (xi) 500-550V peak-to-peak, (xxii) 550-600V peak-to-peak, (xxiii) 600-650V peak-to-peak, (xxiv) 650-700V peak-to-peak, (xxv) 700 ~ 750V peak-to-peak, (xxv ) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, (xxx) 950-1000V peak-to-peak, and xxxi)> 1000 V selected from the group consisting of peak-to-peak. Preferably, t 5 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第2のRFまたはAC電圧の周波数を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第6の手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably progressively increases, progressively decreases or progressively increases the frequency of the second RF or AC voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. To change, scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise And further includes a sixth means configured and adapted to.
前記第6の手段は、好ましくは前記電極に印加される前記第2のRFまたはAC電圧の周波数をx6MHzだけ期間t6にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x6は、(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される。好ましくは、t6は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The sixth means preferably increases, decreases or decreases gradually the frequency of the second RF or AC voltage applied to the electrode over a period t 6 by x 6 MHz. , Scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise As configured and adapted. Preferably, x 6 is, (i) <100kHz, ( ii) 100~200kHz, (iii) 200~300kHz, (iv) 300~400kHz, (v) 400~500kHz, (vi) 0.5~1. 0 MHz, (vii) 1.0-1.5 MHz, (viii) 1.5-2.0 MHz, (ix) 2.0-2.5 MHz, (x) 2.5-3.0 MHz, (xi) 3 0.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5.0 MHz, (xv) 5.0-5.5 MHz (Xvi) 5.5-6.0 MHz, (xvii) 6.0-6.5 MHz, (xviii) 6.5-7.0 MHz, (xix) 7.0-7.5 MHz, (xx) 7. 5 to 8.0 MHz, (xxi) 8.0 to 8.5 MH , (Xxii) 8.5~9.0MHz, (xxiii) 9.0~9.5MHz, is selected from the group consisting of (xxiv) 9.5~10.0MHz, and (xxv)> 10.0MHz. Preferably, t 6 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは、第1のDC電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が好ましくはDC軸方向ポテンシャル障壁または井戸を軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁または井戸と組み合わせて含むようにするための手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably applies a first DC voltage to one or more of the plurality of electrodes and, in use, the one or more second axial time average or pseudopotential barriers; The corrugated shape or well preferably further comprises means for including a DC axial potential barrier or well in combination with an axial time average or pseudopotential barrier or well.
一実施形態によると、前記質量分析器は、前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第1のDC電圧の振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第7の手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass analyzer progressively increases, progressively decreases, progressively increases the amplitude of the first DC voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. Change, scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, incrementally or otherwise, or decrease incrementally, incrementally, or otherwise And further includes a seventh means configured and adapted to do so.
前記第7の手段は、好ましくは前記第1のDC電圧の振幅をx7ボルトだけ期間t7にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x7は、(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。好ましくは、t7は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 Whether the seventh means preferably gradually increases, gradually decreases, gradually changes or scans the amplitude of the first DC voltage by a period of t 7 by x 7 volts. Configured and adapted to increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, incrementally or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise. Preferably, x 7 is, (i) <0.1V, ( ii) 0.1~0.2V, (iii) 0.2~0.3V, (iv) 0.3~0.4V, (v ) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0.6-0.7V, (viii) 0.7-0.8V, (ix) 0.8-0 .9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, (xiv) 2.5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) 4.5-5. 0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) 7 0.0-7.5V, (xxiv) 7.5 8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9.5V, (xxviii) 9.5-10.0V, and ( xxix)> 10.0V. Preferably, t 7 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは第3のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、第3の振幅を有する1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするための手段をさらに含む。前記第3の振幅は、好ましくは前記第1の振幅および/または前記第2の振幅と異なる。一実施形態によると、前記第3の振幅は、前記第2の振幅と同じであり得るが、前記第1の振幅とは異なり得る。 The mass analyzer preferably applies a third AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes to, in use, one or more third axial times having a third amplitude. Means are further included for causing an average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide. The third amplitude is preferably different from the first amplitude and / or the second amplitude. According to one embodiment, the third amplitude may be the same as the second amplitude, but may be different from the first amplitude.
前記第3のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される振幅を有する。 The third AC or RF voltage is preferably (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50-100V peak-to-peak, (iii) 100-150V peak-to-peak, (iv) 150-200V peak-to-peak (Vi) 200-250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak (X) 450-500V peak-to-peak, (xi) 500-550V peak-to-peak, (xxii) 550-600V peak-to-peak, (xxiii) 600-650V peak-to-peak, (xxiv) 650-700V peak-to-peak , (Xxv) 700-750V Toe peak, (xxvi) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, (xxx) 950-1000V peak-to-peak With an amplitude selected from the group consisting of a peak and (xxxi)> 1000V peak-to-peak.
前記第3のACまたはRF電圧は、好ましくは(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される周波数を有する。 The third AC or RF voltage is preferably (i) <100 kHz, (ii) 100-200 kHz, (iii) 200-300 kHz, (iv) 300-400 kHz, (v) 400-500 kHz, (vi) 0 .5 to 1.0 MHz, (vii) 1.0 to 1.5 MHz, (viii) 1.5 to 2.0 MHz, (ix) 2.0 to 2.5 MHz, (x) 2.5 to 3.0 MHz (Xi) 3.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5.0 MHz, (xv) 5. 0 to 5.5 MHz, (xvi) 5.5 to 6.0 MHz, (xvii) 6.0 to 6.5 MHz, (xviii) 6.5 to 7.0 MHz, (xix) 7.0 to 7.5 MHz, (Xx) 7.5-8.0 MHz, (xx ) 8.0-8.5 MHz, (xxii) 8.5-9.0 MHz, (xxiii) 9.0-9.5 MHz, (xxiv) 9.5-10.0 MHz, and (xxv)> 10.0 MHz Having a frequency selected from the group consisting of:
前記第3のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは前記第3のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%に印加するように構成される。 The means for applying the third AC or RF voltage preferably comprises applying the third AC or RF voltage to at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20% of the plurality of electrodes, Apply to 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% Configured as follows.
前記第3のACまたはRF電圧を印加するための手段は、好ましくは軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合う電極グループに前記第3のACまたはRF電圧の互いに反対の位相を供給するように構成される。 The means for applying the third AC or RF voltage preferably provides opposite phases of the third AC or RF voltage to axially adjacent electrodes or axially adjacent electrode groups. Configured.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは、使用時に、前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成される。 The one or more third axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably at least 1%, 5%, 10%, 20% of the axial length of the ion guide in use. 30%, 40%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸の少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%または95%に沿って作成または提供される。 The one or more third axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40% of the central long axis of the ion guide. %, 50%, 60%, 70%, 80%, 90% or 95%.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの上流部分および/または中間部分および/または下流部分に作成または提供される。 The one or more third axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably created or provided in the upstream and / or intermediate and / or downstream portions of the ion guide.
前記イオンガイドは、好ましくは長さLを有し、かつ前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの長さに沿って、(i)0〜0.1L、(ii)0.1〜0.2L、(iii)0.2〜0.3L、(iv)0.3〜0.4L、(v)0.4〜0.5L、(vi)0.5〜0.6L、(vii)0.6〜0.7L、(viii)0.7〜0.8L、(ix)0.8〜0.9L、および(x)0.9〜1.0Lからなる群から選択される変位を有する1つ以上の領域または位置に作成または提供される。 The ion guide preferably has a length L, and the one or more third axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably along the length of the ion guide, (I) 0-0.1L, (ii) 0.1-0.2L, (iii) 0.2-0.3L, (iv) 0.3-0.4L, (v) 0.4-0 .5L, (vi) 0.5-0.6L, (vii) 0.6-0.7L, (viii) 0.7-0.8L, (ix) 0.8-0.9L, and (x ) Created or provided in one or more regions or locations having a displacement selected from the group consisting of 0.9-1.0 L.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの中心長軸から遠ざかるように半径方向に少なくともr mmだけ延伸し、ここで、rは、(i)<1、(ii)1〜2、(iii)2〜3、(iv)3〜4、(v)4〜5、(vi)5〜6、(vii)6〜7、(viii)7〜8、(ix)8〜9、(x)9〜10、および(xi)>10からなる群から選択される。 The one or more third axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells preferably extend radially at least r mm away from the central long axis of the ion guide, where r (I) <1, (ii) 1-2, (iii) 2-3, (iv) 3-4, (v) 4-5, (vi) 5-6, (vii) 6-7, (Viii) selected from the group consisting of 7-8, (ix) 8-9, (x) 9-10, and (xi)> 10.
一実施形態によると、質量電荷比が1〜100、100〜200、200〜300、300〜400、400〜500、500〜600、600〜700、700〜800、800〜900または900〜1000の範囲にあるイオンに対して、前記第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸のうちの少なくとも1%、5%、10%、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、90%、95%または100%の振幅、高さまたは深さは、(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。 According to one embodiment, the mass to charge ratio is 1-100, 100-200, 200-300, 300-400, 400-500, 500-600, 600-700, 700-800, 800-900 or 900-1000. For ions in range, at least 1%, 5%, 10%, 20%, 30%, 40%, 50% of the third axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well, The amplitude, height or depth of 60%, 70%, 80%, 90%, 95% or 100% are (i) <0.1V, (ii) 0.1-0.2V, (iii) 0 .2 to 0.3 V, (iv) 0.3 to 0.4 V, (v) 0.4 to 0.5 V, (vi) 0.5 to 0.6 V, (vii) 0.6 to 0.7 V , (Viii) 0.7 to 0.8 V, (ix) 0.8 to 0.9 (X) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, (xiv) 2. 5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) 4.5-5.0V, (Xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) 7.0 -7.5V, (xxiv) 7.5-8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9.5V, ( xxviii) selected from the group consisting of 9.5 to 10.0V, and (xxix)> 10.0V.
一実施形態によると、使用時に、1cm当たり少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9または10個の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さに沿って提供または作成される。 According to one embodiment, there are at least 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 third axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells per cm when used. Provided or created along the axial length of the ion guide.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、好ましくは前記複数の電極の軸方向位置に対応する極小値を有する。 The one or more third axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells preferably correspond to the axial position of the plurality of electrodes, preferably along the axial length of the ion guide. Has a local minimum.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは前記イオンガイドの軸方向長さに沿って、好ましくは近接する電極間の軸方向距離または間隔の実質的に50%に対応する軸方向位置に位置付けられた極大値を有する。 The one or more third axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably along the axial length of the ion guide, preferably with an axial distance or spacing between adjacent electrodes. Having a local maximum located at an axial position substantially corresponding to 50%.
前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸は、好ましくは特定の質量電荷比を有するイオンに対して実質的に同じ高さ、深さまたは振幅である極小値および/または極大値を有し、かつ前記極小値および/または極大値は、前記複数の電極の軸方向変位または間隔と実質的に同じである周期、またはその倍数である周期を有する。 The one or more third axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are preferably minimal, which are substantially the same height, depth or amplitude for ions having a particular mass to charge ratio. The minimum value and / or the maximum value have a period that is substantially the same as, or a multiple of, the axial displacement or interval of the plurality of electrodes.
前記第3の振幅は、好ましくは前記第1の振幅および/または前記第2の振幅よりも小さいか、または大きい。前記第3の振幅の前記第1の振幅に対する比は、好ましくは(i)<1、(ii)>1、(iii)1〜2、(iv)2〜3、(v)3〜4、(vi)4〜5、(vii)5〜6、(viii)6〜7、(ix)7〜8、(x)8〜9、(xi)9〜10、(xii)10〜11、(xiii)11〜12、(xiv)12〜13、(xv)13〜14、(xvi)14〜15、(xvii)15〜16、(xviii)16〜17、(xix)17〜18、(xx)18〜19、(xxi)19〜20、(xxii)20〜25、(xxiii)25〜30、(xxiv)30〜35、(xxv)35〜40、(xxvi)40〜45、(xxvii)45〜50、(xxviii)50〜60、(xxix)60〜70、(xxx)70〜80、(xxxi)80〜90、(xxxii)90〜100、および(xxxiii)>100からなる群から選択される。 The third amplitude is preferably smaller or larger than the first amplitude and / or the second amplitude. The ratio of the third amplitude to the first amplitude is preferably (i) <1, (ii)> 1, (iii) 1-2, (iv) 2-3, (v) 3-4, (Vi) 4-5, (vii) 5-6, (viii) 6-7, (ix) 7-8, (x) 8-9, (xi) 9-10, (xii) 10-11, xiii) 11-12, (xiv) 12-13, (xv) 13-14, (xvi) 14-15, (xvii) 15-16, (xviii) 16-17, (xix) 17-18, (xx ) 18-19, (xxi) 19-20, (xxii) 20-25, (xxiii) 25-30, (xxiv) 30-35, (xxv) 35-40, (xxvi) 40-45, (xxvii) 45-50, (xxviii) 50-60, (xxix) 60-70, (xxx) 70 80, (xxxi) 80~90, it is selected from the group consisting of (xxxii) 90 to 100, and (xxxiii)> 100.
前記第3の振幅の前記第2の振幅に対する比は、好ましくは(i)<1、(ii)>1、(iii)1〜2、(iv)2〜3、(v)3〜4、(vi)4〜5、(vii)5〜6、(viii)6〜7、(ix)7〜8、(x)8〜9、(xi)9〜10、(xii)10〜11、(xiii)11〜12、(xiv)12〜13、(xv)13〜14、(xvi)14〜15、(xvii)15〜16、(xviii)16〜17、(xix)17〜18、(xx)18〜19、(xxi)19〜20、(xxii)20〜25、(xxiii)25〜30、(xxiv)30〜35、(xxv)35〜40、(xxvi)40〜45、(xxvii)45〜50、(xxviii)50〜60、(xxix)60〜70、(xxx)70〜80、(xxxi)80〜90、(xxxii)90〜100、および(xxxiii)>100からなる群から選択される。 The ratio of the third amplitude to the second amplitude is preferably (i) <1, (ii)> 1, (iii) 1-2, (iv) 2-3, (v) 3-4, (Vi) 4-5, (vii) 5-6, (viii) 6-7, (ix) 7-8, (x) 8-9, (xi) 9-10, (xii) 10-11, xiii) 11-12, (xiv) 12-13, (xv) 13-14, (xvi) 14-15, (xvii) 15-16, (xviii) 16-17, (xix) 17-18, (xx ) 18-19, (xxi) 19-20, (xxii) 20-25, (xxiii) 25-30, (xxiv) 30-35, (xxv) 35-40, (xxvi) 40-45, (xxvii) 45-50, (xxviii) 50-60, (xxix) 60-70, (xxx) 70 80, (xxxi) 80~90, it is selected from the group consisting of (xxxii) 90 to 100, and (xxxiii)> 100.
前記質量分析器は、前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第3のACまたはRF電圧の振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第8の手段をさらに含み得る。 The mass analyzer progressively increases, progressively decreases, or gradually changes the amplitude of the third AC or RF voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. Configured to scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise And may further comprise adapted eighth means.
前記第8の手段は、好ましくは前記第3のACまたはRF電圧の振幅をx8ボルトだけ期間t8にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x8は、(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)>500Vピークトゥピークからなる群から選択される。好ましくは、t8は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The eighth means preferably increases or decreases the amplitude of the third AC or RF voltage progressively by x 8 volts over a period t 8 , gradually decreases, gradually changes, or scans. Configured, adapted to increase, linearly decrease, linearly decrease, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise The Preferably, x 8 is, (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50 to 100 peak-to-peak, (iii) 100~150V peak-to-peak, (iv) 150~200V peak-to-peak, (v) 200 ~ 250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak, (x) 450 Selected from the group consisting of ~ 500V peak-to-peak, (xi)> 500V peak-to-peak. Preferably, t 8 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
一実施形態によると、前記質量分析器は、好ましくは前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第3のRFまたはAC電圧の周波数を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第9の手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass analyzer preferably increases or decreases gradually the frequency of the third RF or AC voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. , Change incrementally, scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, stepwise or otherwise, stepwise, stepwise or others A ninth means configured and adapted to reduce in this manner.
前記第9の手段は、好ましくは前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第3のRFまたはAC電圧の周波数をx9MHzだけ期間t9にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x9は、(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、および(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される。好ましくは、t9は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The ninth means preferably increases the frequency of the third RF or AC voltage applied to one or more of the plurality of electrodes gradually over a period t 9 by x 9 MHz, or gradually Decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, incrementally, incrementally or otherwise, incrementally, incrementally Configured or adapted to reduce or otherwise. Preferably, x 9 is, (i) <100kHz, ( ii) 100~200kHz, (iii) 200~300kHz, (iv) 300~400kHz, (v) 400~500kHz, (vi) 0.5~1. 0 MHz, (vii) 1.0-1.5 MHz, (viii) 1.5-2.0 MHz, (ix) 2.0-2.5 MHz, (x) 2.5-3.0 MHz, (xi) 3 0.0-3.5 MHz, (xii) 3.5-4.0 MHz, (xiii) 4.0-4.5 MHz, (xiv) 4.5-5.0 MHz, (xv) 5.0-5.5 MHz (Xvi) 5.5-6.0 MHz, (xvii) 6.0-6.5 MHz, (xviii) 6.5-7.0 MHz, (xix) 7.0-7.5 MHz, (xx) 7. 5 to 8.0 MHz, (xxi) 8.0 to 8.5 MH , (Xxii) 8.5~9.0MHz, (xxiii) 9.0~9.5MHz, is selected from the group consisting of (xxiv) 9.5~10.0MHz, and (xxv)> 10.0MHz. Preferably, t 9 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは第2のDC電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、前記1つ以上の第3の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸がDC軸方向ポテンシャル障壁または井戸を軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁もしくは井戸と組み合わせて含むようにするための手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably applies a second DC voltage to one or more of the plurality of electrodes and, in use, the one or more third axial time average or pseudopotential barriers, waveforms There is further included means for causing the shape or well to include a DC axial potential barrier or well in combination with an axial time average or pseudopotential barrier or well.
前記質量分析器は、好ましくは前記複数の電極のうちの1つ以上に印加される前記第2のDC電圧の振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第10の手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably progressively increases, progressively reduces or gradually changes the amplitude of the second DC voltage applied to one or more of the plurality of electrodes. Configured to scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise And further includes a tenth means adapted.
前記第10の手段は、好ましくは前記第2のDC電圧の振幅をx10ボルトだけ期間t10にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x10は、(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。好ましくは、t10は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(Xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 Or the tenth means is preferably either progressively increased over only a period t 10 the amplitude of the second DC voltage x 10 volts, or progressively reduced, either gradually changed to scan Configured and adapted to increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, incrementally or otherwise, or decrease stepwise, incrementally, or otherwise. Preferably, x 10 is, (i) <0.1V, ( ii) 0.1~0.2V, (iii) 0.2~0.3V, (iv) 0.3~0.4V, (v ) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0.6-0.7V, (viii) 0.7-0.8V, (ix) 0.8-0 .9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, (xiv) 2.5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) 4.5-5. 0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) 7 0.0-7.5V, (xxiv) 7.5 8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9.5V, (xxviii) 9.5-10.0V, and ( xxix)> 10.0V. Preferably, t 10 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (Xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
一実施形態によると、前記質量分析器は、前記イオンガイドの前記電極のうちの少なくともいくつかに印加され、かつイオンを前記イオンガイド内に半径方向に閉じ込めるように作用するDC電圧またはポテンシャルの振幅を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される第11の手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass analyzer is applied to at least some of the electrodes of the ion guide and has a DC voltage or potential amplitude that acts to radially confine ions within the ion guide. Progressively increasing, progressively decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, stepwise, incrementally or otherwise It further includes an eleventh means configured and adapted to increase or decrease stepwise, progressively or otherwise.
前記第11の手段は、好ましくは前記少なくともいくつかの電極に印加される前記DC電圧またはポテンシャルの振幅をx11ボルトだけ期間t11にわたって漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される。好ましくは、x11は、(i)<0.1V、(ii)0.1〜0.2V、(iii)0.2〜0.3V、(iv)0.3〜0.4V、(v)0.4〜0.5V、(vi)0.5〜0.6V、(vii)0.6〜0.7V、(viii)0.7〜0.8V、(ix)0.8〜0.9V、(x)0.9〜1.0V、(xi)1.0〜1.5V、(xii)1.5〜2.0V、(xiii)2.0〜2.5V、(xiv)2.5〜3.0V、(xv)3.0〜3.5V、(xvi)3.5〜4.0V、(xvii)4.0〜4.5V、(xviii)4.5〜5.0V、(xix)5.0〜5.5V、(xx)5.5〜6.0V、(xxi)6.0〜6.5V、(xxii)6.5〜7.0V、(xxiii)7.0〜7.5V、(xxiv)7.5〜8.0V、(xxv)8.0〜8.5V、(xxvi)8.5〜9.0V、(xxvii)9.0〜9.5V、(xxviii)9.5〜10.0V、および(xxix)>10.0Vからなる群から選択される。好ましくは、t11は、(i)<lms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 The eleventh means is either preferably or progressively increased over only a period t 11 amplitude x 11 volts of the DC voltage or potential applied to said at least some of the electrodes are progressively reduced, progressively Change, scan, increase linearly, decrease linearly, increase stepwise, gradual or otherwise, or decrease stepwise, gradual or otherwise Configured and adapted to. Preferably, x 11 is, (i) <0.1V, ( ii) 0.1~0.2V, (iii) 0.2~0.3V, (iv) 0.3~0.4V, (v ) 0.4-0.5V, (vi) 0.5-0.6V, (vii) 0.6-0.7V, (viii) 0.7-0.8V, (ix) 0.8-0 .9V, (x) 0.9-1.0V, (xi) 1.0-1.5V, (xii) 1.5-2.0V, (xiii) 2.0-2.5V, (xiv) 2.5-3.0V, (xv) 3.0-3.5V, (xvi) 3.5-4.0V, (xvii) 4.0-4.5V, (xviii) 4.5-5. 0V, (xix) 5.0-5.5V, (xx) 5.5-6.0V, (xxi) 6.0-6.5V, (xxii) 6.5-7.0V, (xxiii) 7 0.0-7.5V, (xxiv) 7.5 8.0V, (xxv) 8.0-8.5V, (xxvi) 8.5-9.0V, (xxvii) 9.0-9.5V, (xxviii) 9.5-10.0V, and ( xxix)> 10.0V. Preferably, t 11 is (i) <lms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
前記質量分析器は、好ましくは一動作モードにおいて、前記イオンガイドを(i)<1.0×10-1mbar、(ii)<1.0×10-2mbar、(iii)<1.0×10-3mbar、および(iv)<1.0×10-4mbarからなる群から選択される圧力に維持するための手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably moves the ion guide to (i) <1.0 × 10 −1 mbar, (ii) <1.0 × 10 −2 mbar, (iii) <1.0 in one mode of operation. It further comprises means for maintaining a pressure selected from the group consisting of x10 -3 mbar and (iv) <1.0 x 10 -4 mbar.
前記質量分析器は、一動作モードにおいて、前記イオンガイドを(i)>1.0×10-3mbar、(ii)>1.0×10-2mbar、(iii)>1.0×10-1mbar、(iv)>1mbar、(v)>10mbar、(vi)>100mbar、(vii)>5.0×10-3mbar、(viii)>5.0×10-2mbar、(ix)10-4〜10-3mbar、(x)10-3〜10-2mbar、および(xi)10-2〜10-1mbarからなる群から選択される圧力に維持するための手段をさらに含む。 In one mode of operation, the mass analyzer moves the ion guide to (i)> 1.0 × 10 −3 mbar, (ii)> 1.0 × 10 −2 mbar, (iii)> 1.0 × 10 −1 mbar, (iv)> 1 mbar, (v)> 10 mbar, (vi)> 100 mbar, (vii)> 5.0 × 10 −3 mbar, (viii)> 5.0 × 10 −2 mbar, (ix Further means for maintaining a pressure selected from the group consisting of: 10 −4 to 10 −3 mbar, (x) 10 −3 to 10 −2 mbar, and (xi) 10 −2 to 10 −1 mbar. Including.
前記質量分析器は、好ましくは前記イオンガイドを通るガスフロー(gas flow)を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成および適合される手段をさらに含む。 The mass analyzer preferably progressively increases, progressively decreases, progressively changes, scans or increases linearly the gas flow through the ion guide. Further comprising means adapted and adapted to reduce linearly, increase stepwise, progressively or otherwise, or decrease stepwise, progressively or otherwise.
一実施形態によると、一動作モードにおいて、イオンが好ましくは前記イオンガイド内にトラップされるが、実質的にフラグメンテーションされないように構成される。 According to one embodiment, in one mode of operation, ions are preferably trapped within the ion guide but configured to be substantially unfragmented.
前記質量分析器は、前記イオンガイド内においてイオンを衝突により冷却するか、または実質的に熱化する(thermalising)ための手段をさらに含み得る。 The mass analyzer may further include means for cooling or substantially thermalizing the ions in the ion guide by impact.
前記質量分析器は、一動作モードにおいて、前記イオンガイド内においてイオンを実質的にフラグメンテーションする手段をさらに含み得る。 The mass analyzer may further include means for substantially fragmenting ions within the ion guide in one mode of operation.
前記質量分析器は、前記イオンガイドの入口および/または出口に配置される1つ以上の電極をさらに含み得、一動作モードにおいて、前記1つ以上の電極がイオンをパルス化して前記イオンガイドへ入力および/またはそこから出力するように構成される。 The mass analyzer may further include one or more electrodes disposed at the inlet and / or outlet of the ion guide, wherein in one mode of operation, the one or more electrodes pulse ions to the ion guide. Configured to input and / or output therefrom.
本発明の別の態様によると、上記質量分析器を含む質量分析計が提供される。 According to another aspect of the present invention, a mass spectrometer is provided that includes the mass analyzer.
前記質量分析計は、好ましくは(i)エレクトロスプレーイオン化(「ESI」)イオン源、(ii)大気圧光イオン化(「APPI」)イオン源、(iii)大気圧化学イオン化(「APCI」)イオン源、(iv)マトリックス支援レーザ脱離イオン化(「MALDI」)イオン源、(v)レーザ脱離イオン化(「LDI」)イオン源、(vi)大気圧イオン化(「API」)イオン源、(vii)シリコンを用いた脱離イオン化(「DIOS」)イオン源、(viii)電子衝突(「EI」)イオン源、(ix)化学イオン化(「CI」)イオン源、(x)電界イオン化(「FI」)イオン源、(xi)電界脱離(「FD」)イオン源、(xii)誘導結合プラズマ(「ICP」)イオン源、(xiii)高速原子衝撃(「FAB」)イオン源、(xiv)液体二次イオン質量分析(「LSIMS」)イオン源、(xv)脱離エレクトロスプレーイオン化(「DESI」)イオン源、(xvi)ニッケル−63放射性イオン源、および(xvii)サーモスプレーイオン源からなる群から選択されるイオン源を含む。 The mass spectrometer preferably comprises (i) an electrospray ionization (“ESI”) ion source, (ii) atmospheric pressure photoionization (“APPI”) ion source, and (iii) atmospheric pressure chemical ionization (“APCI”) ion. (Iv) a matrix assisted laser desorption ionization (“MALDI”) ion source, (v) a laser desorption ionization (“LDI”) ion source, (vi) an atmospheric pressure ionization (“API”) ion source, (vii) ) Desorption ionization (“DIOS”) ion source using silicon, (viii) electron impact (“EI”) ion source, (ix) chemical ionization (“CI”) ion source, (x) field ionization (“FI”) ") Ion source, (xi) field desorption (" FD ") ion source, (xii) inductively coupled plasma (" ICP ") ion source, (xiii) fast atom bombardment (" FAB ") On-source, (xiv) liquid secondary ion mass spectrometry (“LSIMS”) ion source, (xv) desorption electrospray ionization (“DESI”) ion source, (xvi) nickel-63 radioactive ion source, and (xvii) An ion source selected from the group consisting of a thermospray ion source.
前記質量分析計は、好ましくは連続またはパルス化イオン源を含む。 The mass spectrometer preferably includes a continuous or pulsed ion source.
前記質量分析計は、好ましくは前記質量分析器の上流および/または下流に配置される1つ以上の質量フィルタをさらに含む。前記1つ以上の質量フィルタは、好ましくは(i)四重極ロッドセット質量フィルタ、(ii)飛行時間質量フィルタまたは質量分析器、(iii)ウィーンフィルタ、および(iv)扇形磁場質量フィルタ(magnetic sector mass filter)または質量分析器からなる群から選択される。 The mass spectrometer further includes one or more mass filters, preferably disposed upstream and / or downstream of the mass analyzer. The one or more mass filters are preferably (i) a quadrupole rod set mass filter, (ii) a time-of-flight mass filter or mass analyzer, (iii) a Wien filter, and (iv) a sector magnetic field mass filter (magnetic). (sector mass filter) or mass analyzer.
前記質量分析計は、好ましくは前記質量分析器の上流および/または下流に配置される1つ以上の第2のイオンガイドまたはイオントラップをさらに含む。前記1つ以上の第2のイオンガイドまたはイオントラップは、好ましくは
(i)四重極ロッドセット、六重極ロッドセット、八重極ロッドセットまたは8個より多くのロッドを含むロッドセットを含む多極ロッドセットもしくはセグメント化多極ロッドセットイオンガイドまたはイオントラップ、
(ii)開口を有する複数の電極または少なくとも2、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90もしくは100個の電極を含むイオントンネルもしくはイオンファネルイオンガイドまたはイオントラップであって、使用時にイオンは、前記開口を通って移送され、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%は、実質的に同じサイズもしくは面積の開口を有するか、またはサイズまたは面積が漸進的により大きくおよび/またはより小さくなる開口を有する、イオントンネルもしくはイオンファネルイオンガイドまたはイオントラップ、
(iii)1スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極であって、前記1スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極は、複数のまたは少なくとも2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19もしくは20個の平面、プレートまたはメッシュ電極を含むか、あるいは少なくとも前記平面、プレートまたはメッシュ電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%は、使用時にイオンが走行する平面内に一般に配置される、1スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極、および
(iv)イオントラップまたはイオンガイドであって、前記イオントラップまたはイオンガイドの長さに沿って軸方向に配置される複数のグループの電極を含み、各グループの電極は、(a)第1および第2の電極ならびにイオンを前記イオンガイド内に第1の半径方向に閉じ込めるためにDC電圧またはポテンシャルを前記第1および第2の電極に印加するための手段、および(b)第3および第4の電極ならびにイオンを前記イオンガイド内に第2の半径方向に閉じ込めるためにACまたはRF電圧を前記第3および第4の電極に印加するための手段を含み、前記第2の半径方向は、好ましくは前記第1の半径方向とは異なる、イオントラップまたはイオンガイドからなる群から選択される。
The mass spectrometer further includes one or more second ion guides or ion traps, preferably disposed upstream and / or downstream of the mass analyzer. The one or more second ion guides or ion traps preferably include (i) a quadrupole rod set, a hexapole rod set, an octupole rod set or a rod set comprising more than eight rods. Pole rod set or segmented multipole rod set ion guide or ion trap,
(Ii) In an ion tunnel or ion funnel ion guide or ion trap comprising a plurality of electrodes with openings or at least 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 or 100 electrodes In use, ions are transported through the aperture and at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45% of the electrodes. %, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% have apertures of substantially the same size or area, or An ion tunnel or ion funnel ion guide or ion trap having openings that are progressively larger and / or smaller in size or area;
(Iii) one stack or array plane, plate or mesh electrode, wherein the one stack or array plane, plate or mesh electrode is a plurality or at least 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 or 20 planes, plates or mesh electrodes, or at least 1% of said planes, plates or mesh electrodes 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85 %, 90%, 95% or 100% are typically placed in the plane in which ions travel in use, one stack or array plane, plate or mesh electrode And (iv) an ion trap or ion guide comprising a plurality of groups of electrodes arranged axially along the length of the ion trap or ion guide, each group of electrodes comprising: (a) a first And a second electrode and means for applying a DC voltage or potential to the first and second electrodes to confine ions in a first radial direction within the ion guide, and (b) a third and second 4 electrodes and means for applying an AC or RF voltage to the third and fourth electrodes to confine ions in a second radial direction within the ion guide, the second radial direction comprising: Preferably, it is selected from the group consisting of an ion trap or an ion guide different from the first radial direction.
一好適な実施形態によると、前記第2のイオンガイドまたはイオントラップは、好ましくはイオントンネルもしくはイオンファネルイオンガイドまたはイオントラップを含み、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%は、(i)≦1.0mm、(ii)≦2.0mm、(iii)≦3.0mm、(iv)≦4.0mm、(v)≦5.0mm、(vi)≦6.0mm、(vii)≦7.0mm、(viii)≦8.0mm、(ix)≦9.0mm、(x)≦10.0mm、および(xi)>10.0mmからなる群から選択される内径または寸法を有する。 According to one preferred embodiment, the second ion guide or ion trap preferably comprises an ion tunnel or ion funnel ion guide or ion trap, at least 1%, 5%, 10%, 15% of the electrodes. %, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% is (i) ≦ 1.0 mm, (ii) ≦ 2.0 mm, (iii) ≦ 3.0 mm, (iv) ≦ 4.0 mm, (v) ≦ 5.0 mm, (vi) ≦ 6. Inner diameter selected from the group consisting of 0 mm, (vii) ≦ 7.0 mm, (viii) ≦ 8.0 mm, (ix) ≦ 9.0 mm, (x) ≦ 10.0 mm, and (xi)> 10.0 mm Or have dimensions.
前記第2のイオンガイドまたはイオントラップは、好ましくはイオンを前記第2のイオンガイドまたはイオントラップ内に半径方向に閉じ込めるためにACまたはRF電圧を前記第2のイオンガイドまたはイオントラップの前記複数の電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%に印加するように構成および適合される第4のACまたはRF電圧手段を含む。 The second ion guide or ion trap preferably applies an AC or RF voltage to the plurality of the second ion guide or ion trap to radially confine ions within the second ion guide or ion trap. At least 1%, 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70% of the electrodes, Includes a fourth AC or RF voltage means configured and adapted to apply 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100%.
前記第2のイオンガイドまたはイオントラップは、好ましくは1ビームまたはグループのイオンを前記質量分析器から受け取り、そして前記ビームまたはグループのイオンを変換または分割して、少なくとも1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19または20個の別々のパケットのイオンが任意の特定の時刻に前記第2のイオンガイドまたはイオントラップ内に閉じ込めおよび/または隔離されるように構成および適合される。各パケットのイオンは、好ましくは前記第2のイオンガイドまたはイオントラップ内に形成される別々の軸方向ポテンシャル井戸内に別々に閉じ込めおよび/または隔離される。 The second ion guide or ion trap preferably receives one beam or group of ions from the mass analyzer and converts or splits the beam or group of ions to at least 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, or 20 ions of the second packet at any particular time Configured and adapted to be confined and / or isolated within a guide or ion trap. Each packet of ions is preferably confined and / or isolated separately in a separate axial potential well formed in the second ion guide or ion trap.
前記質量分析計は、一動作モードにおいて、少なくともいくつかのイオンを前記第2のイオンガイドまたはイオントラップの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%を通るか、またはそれに沿って上流および/または下流へ推進するように構成および適合される手段をさらに含む。 The mass spectrometer, in one mode of operation, removes at least some ions at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20%, 25% of the axial length of the second ion guide or ion trap. 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100%, or It further includes means configured and adapted to propel upstream and / or downstream along it.
一実施形態によると、前記質量分析計は、少なくともいくつかのイオンを前記第2のイオンガイドまたはイオントラップの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%に沿って下流および/または上流へ推進するために、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形を前記第2のイオンガイドまたはイオントラップを形成する前記電極に印加するように構成および適合される過渡DC電圧手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass spectrometer is configured to transfer at least some ions to at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20%, 25 of the axial length of the second ion guide or ion trap. Downstream along%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% And / or applying one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms to the electrodes forming the second ion guide or ion trap for propulsion upstream. It further includes a transient DC voltage means configured and adapted.
一実施形態によると、前記質量分析計は、好ましくは少なくともいくつかのイオンを前記第2のイオンガイドまたはイオントラップの軸方向長さの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%に沿って下流および/または上流へ推進するために、2つ以上の位相シフトACまたはRF電圧を前記第2のイオンガイドまたはイオントラップを形成する電極に印加するように構成および適合されるACまたはRF電圧手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass spectrometer preferably has at least some ions at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20% of the axial length of the second ion guide or ion trap. Along 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% AC or RF voltage configured and adapted to apply two or more phase-shifted AC or RF voltages to the electrode forming the second ion guide or ion trap for driving downstream and / or upstream Means are further included.
前記質量分析計は、好ましくは前記第2のイオンガイドまたはイオントラップの少なくとも一部を(i)>0.0001mbar、(ii)>0.001mbar、(iii)>0.01mbar、(iv)>0.1mbar、(v)>1mbar、(vi)>10mbar、(vii)>1mbar、(viii)0.0001〜100mbar、および(ix)0.001〜10mbarからなる群から選択される圧力に維持するように構成および適合される手段をさらに含む。 The mass spectrometer preferably comprises at least a part of the second ion guide or ion trap (i)> 0.0001 mbar, (ii)> 0.001 mbar, (iii)> 0.01 mbar, (iv)> Maintain a pressure selected from the group consisting of 0.1 mbar, (v)> 1 mbar, (vi)> 10 mbar, (vii)> 1 mbar, (viii) 0.0001-100 mbar, and (ix) 0.001-10 mbar. Further comprising means adapted and adapted to do so.
前記質量分析計は、イオンを衝突誘起解離(「CID」)によってフラグメンテーションするように構成および適合される衝突、フラグメンテーションまたは反応デバイスをさらに含み得る。別の実施形態によると、前記質量分析計は、(i)表面誘起解離(「SID」)フラグメンテーションデバイス、(ii)電子移動解離フラグメンテーションデバイス、(iii)電子捕獲解離フラグメンテーションデバイス、(iv)電子衝突または衝撃解離フラグメンテーションデバイス、(v)光誘起解離(「PID」)フラグメンテーションデバイス、(vi)レーザ誘起解離フラグメンテーションデバイス、(vii)赤外放射誘起解離デバイス、(viii)紫外放射誘起解離デバイス、(ix)ノズル−スキマ間インターフェースフラグメンテーションデバイス、(x)インソースフラグメンテーションデバイス、(xi)イオン源衝突誘起解離フラグメンテーションデバイス、(xii)熱または温度源フラグメンテーションデバイス、(xiii)電界誘起フラグメンテーションデバイス、(xiv)磁場誘起フラグメンテーションデバイス、(xv)酵素消化または酵素分解フラグメンテーションデバイス、(xvi)イオン−イオン反応フラグメンテーションデバイス、(xvii)イオン−分子反応フラグメンテーションデバイス、(xviii)イオン−原子反応フラグメンテーションデバイス、(xix)イオン−メタステーブルイオン反応フラグメンテーションデバイス、(xx)イオン−メタステーブル分子反応フラグメンテーションデバイス、(xxi)イオン−メタステーブル原子反応フラグメンテーションデバイス、(xxii)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−イオン反応デバイス、(xxiii)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−分子反応デバイス、(xxiv)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−原子反応デバイス、(xxv)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−メタステーブルイオン反応デバイス、(xxvi)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−メタステーブル分子反応デバイス、および(xxvii)イオンを反応させて付加または生成イオンを形成するためのイオン−メタステーブル原子反応デバイスからなる群から選択される前記衝突、フラグメンテーションまたは反応デバイスをさらに含み得る。 The mass spectrometer may further include a collision, fragmentation or reaction device configured and adapted to fragment ions by collision-induced dissociation (“CID”). According to another embodiment, the mass spectrometer comprises (i) a surface-induced dissociation (“SID”) fragmentation device, (ii) an electron transfer dissociation fragmentation device, (iii) an electron capture dissociation fragmentation device, and (iv) electron collisions. Or impact dissociation fragmentation device, (v) photoinduced dissociation (“PID”) fragmentation device, (vi) laser induced dissociation fragmentation device, (vii) infrared radiation induced dissociation device, (viii) ultraviolet radiation induced dissociation device, (ix ) Nozzle-to-skim interface fragmentation device, (x) In-source fragmentation device, (xi) Ion source collision induced dissociation fragmentation device, (xii) Thermal or temperature source fragmentation A device, (xiii) an electric field induced fragmentation device, (xiv) a magnetic field induced fragmentation device, (xv) an enzymatic digestion or enzymatic degradation fragmentation device, (xvi) an ion-ion reaction fragmentation device, (xvii) an ion-molecule reaction fragmentation device, xviii) ion-atom reaction fragmentation device, (xix) ion-metastable ion reaction fragmentation device, (xx) ion-metastable molecular reaction fragmentation device, (xxi) ion-metastable atom reaction fragmentation device, (xxii) ions An ion-ion reaction device for reacting to form addition or product ions, (xxiii) Ion-molecule reaction device for reacting ions to form addition or product ions, (xxiv) ion-atom reaction device for reacting ions to form addition or product ions, (xxv) reacting ions Ion-metastable ion reaction device for forming addition or product ions, (xxvi) ion-metastable molecular reaction device for reacting ions to form addition or product ions, and (xxvii) ion reaction And may further comprise the collision, fragmentation or reaction device selected from the group consisting of ion-metastable atomic reaction devices for forming additional or product ions.
一実施形態によると、前記質量分析計は、好ましくは前記質量分析器のサイクル時間の間またはそれにわたって前記質量分析器と前記衝突、フラグメンテーションまたは反応セルとの間のポテンシャル差を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成または適合される手段をさらに含む。 According to one embodiment, the mass spectrometer progressively increases the potential difference between the mass analyzer and the collision, fragmentation or reaction cell, preferably during or over the cycle time of the mass analyzer. Or progressively decreasing, incrementally changing, scanning, linearly increasing, linearly decreasing, incrementally, incrementally or otherwise, or phased Further includes means configured or adapted to reduce, gradual, or otherwise.
一実施形態によると、前記質量分析計は、前記質量分析器の上流および/または下流に配置されるさらなる質量分析器をさらに含む。前記さらなる質量分析器は、好ましくは(i)フーリエ変換(「FT」)質量分析器、(ii)フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(「FTICR」)質量分析器、(iii)飛行時間(「TOF」)質量分析器、(iv)直交加速飛行時間(「oaTOF」)質量分析器、(v)軸方向加速飛行時間質量分析器、(vi)扇形磁場質量分析計、(vii)ポールまたは3D四重極質量分析器、(viii)2Dまたは直線四重極質量分析器、(ix)ペニングトラップ質量分析器、(x)イオントラップ質量分析器、(xi)フーリエ変換オービトラップ、(xii)静電イオンサイクロトロン共鳴質量分析計、(xiii)静電フーリエ変換質量分析計、および(xiv)四重極ロッドセット質量フィルタまたは質量分析器からなる群から選択される。 According to an embodiment, the mass spectrometer further comprises a further mass analyzer arranged upstream and / or downstream of the mass analyzer. Said further mass analyzer is preferably (i) a Fourier transform (“FT”) mass analyzer, (ii) a Fourier transform ion cyclotron resonance (“FTICR”) mass analyzer, (iii) time of flight (“TOF”). Mass analyzer, (iv) orthogonal acceleration time-of-flight ("oaTOF") mass analyzer, (v) axial acceleration time-of-flight mass analyzer, (vi) sector magnetic mass spectrometer, (vii) pole or 3D quadrupole Mass analyzer, (viii) 2D or linear quadrupole mass analyzer, (ix) Penning trap mass analyzer, (x) ion trap mass analyzer, (xi) Fourier transform orbitrap, (xii) electrostatic ion cyclotron Resonant mass spectrometer, (xiii) electrostatic Fourier transform mass spectrometer, and (xiv) quadrupole rod set mass filter or mass analyzer It is selected from.
前記質量分析計は、好ましくは前記質量分析器のサイクル時間の間またはそれにわたって前記質量分析器の動作と同期して、前記さらなる分析器の質量電荷比移送ウィンドウ(mass to charge ratio transmission window)を漸進的に増加するか、漸進的に低減するか、漸進的に変更するか、スキャンするか、直線的に増加するか、直線的に低減するか、段階的、漸進的もしくは他のやり方で増加するか、または段階的、漸進的もしくは他のやり方で低減するように構成または適合される手段をさらに含む。 The mass spectrometer preferably has a mass to charge ratio transmission window of the further analyzer in synchronism with the operation of the mass analyzer during or over the cycle time of the mass analyzer. Incrementally increasing, progressively decreasing, incrementally changing, scanning, increasing linearly, decreasing linearly, incrementally, incrementally or otherwise Or further configured or adapted to be reduced stepwise, progressively or otherwise.
本発明の一態様によると、イオンを質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップと、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するステップと、
第2のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、ステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, a method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes such that a plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are axial lengths of the ion guide. To be created along at least a portion of
Driving or propelling ions along at least a portion of the axial length of the ion guide;
A second AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes such that one or more second axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells are in the axial direction of the ion guide. Creating a method along at least a portion of a length, wherein the second amplitude is different from the first amplitude.
本発明の一態様によると、質量分析器であって、
開口を有する複数の電極を含むイオンガイドであって、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
イオンを前記イオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加するための手段と、
第2の異なるACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにする手段とを含む質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention, a mass analyzer comprising:
An ion guide comprising a plurality of electrodes having openings, wherein ions are transported through said openings in use;
Means for applying a first AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes to confine ions radially within the ion guide;
A second, different AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes, and in use, one or more axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are in the axis of the ion guide. Means for generating along at least a portion of the directional length.
本発明の一態様によると、イオンを質量分析する方法であって、
開口を有する複数の電極を含むイオンガイドであって、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
イオンを前記イオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加するステップと、
第2の異なるACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, a method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide comprising a plurality of electrodes having openings, wherein ions are transported through the openings;
Applying a first AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes to confine ions radially within the ion guide;
A second different AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes such that one or more axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are axial lengths of the ion guide. In accordance with at least a portion of the method.
本発明の一態様によると、質量分析器であって、
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするための手段であって、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される手段と、
1つ以上の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするため手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる手段とを含む質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention, a mass analyzer comprising:
An ion guide comprising a plurality of electrodes, the plurality of electrodes comprising an electrode having an opening, wherein ions are transported through the opening in use;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, such that opposite phases of the first AC or RF voltage are applied to an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude in at least a portion of the axial length of the ion guide in use. Means created along with,
One or more second axial times having a second amplitude in use by inverting the polarity of the first AC or RF voltage applied to one or more axially adjacent groups of electrodes. Means for causing an average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is the first amplitude And different means are provided.
各電極グループは、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10または>10個の電極を含み得る。 Each electrode group may include 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or> 10 electrodes.
本発明の一態様によると、イオンを質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするステップであって、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるステップと、
1つ以上の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、ステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, a method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes, wherein the plurality of electrodes includes an electrode having an opening, and ions are transported through the opening;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, such that opposite phases of the first AC or RF voltage are applied to an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude are created along at least a portion of the axial length of the ion guide. Steps,
Reversing the polarity of the first AC or RF voltage applied to one or more axially adjacent groups of electrodes to produce one or more second axial time averages or pseudo-values having a second amplitude. Causing a potential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is different from the first amplitude; Is provided.
本発明の一態様によると、質量分析器であって、
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするための手段であって、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される手段と、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するために1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形を前記複数の電極に印加するための手段と、
1対の軸方向に隣り合う電極または1対の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするため手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる手段と、
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸の振幅を漸進的に低減するために、前記第1のACまたはRF電圧の振幅を直線的に、段階的に、または他のやり方で漸進的に低減するための手段とを含む質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention, a mass analyzer comprising:
An ion guide comprising a plurality of electrodes, the plurality of electrodes comprising an electrode having an opening, wherein ions are transported through the opening in use;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, and the first AC or RF voltage is opposite to each other in an axially adjacent electrode or an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude in use in the axial direction of the ion guide. Means created along at least a portion of the length;
One or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms are applied to the plurality of electrodes to drive or propel ions along at least a portion of the axial length of the ion guide. Means for
A polarity of the first AC or RF voltage applied to a pair of axially adjacent electrodes or a pair of axially adjacent groups of electrodes is reversed to have a second amplitude in use. Means for causing two or more second axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, Means different from the first amplitude;
In order to progressively reduce the amplitude of the one or more second axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells, the amplitude of the first AC or RF voltage is linearly and stepwise. Or a means for progressive reduction in other manners.
好ましくは前記第1のACまたはRF電圧の振幅を漸進的に低減するための手段は、前記第1のACまたはRF電圧の振幅をx12ボルトだけ期間t12にわたり漸進的に低減するように構成される。好ましくは、x12は、(i)<50Vピークトゥピーク、(ii)50〜100Vピークトゥピーク、(iii)100〜150Vピークトゥピーク、(iv)150〜200Vピークトゥピーク、(v)200〜250Vピークトゥピーク、(vi)250〜300Vピークトゥピーク、(vii)300〜350Vピークトゥピーク、(viii)350〜400Vピークトゥピーク、(ix)400〜450Vピークトゥピーク、(x)450〜500Vピークトゥピーク、(xi)500〜550Vピークトゥピーク、(xxii)550〜600Vピークトゥピーク、(xxiii)600〜650Vピークトゥピーク、(xxiv)650〜700Vピークトゥピーク、(xxv)700〜750Vピークトゥピーク、(xxvi)750〜800Vピークトゥピーク、(xxvii)800〜850Vピークトゥピーク、(xxviii)850〜900Vピークトゥピーク、(xxix)900〜950Vピークトゥピーク、(xxx)950〜1000Vピークトゥピーク、および(xxxi)>1000Vピークトゥピークからなる群から選択される。好ましくは、t12は、(i)<1ms、(ii)1〜10ms、(iii)10〜20ms、(iv)20〜30ms、(v)30〜40ms、(vi)40〜50ms、(vii)50〜60ms、(viii)60〜70ms、(ix)70〜80ms、(x)80〜90ms、(xi)90〜100ms、(xii)100〜200ms、(xiii)200〜300ms、(xiv)300〜400ms、(xv)400〜500ms、(xvi)500〜600ms、(xvii)600〜700ms、(xviii)700〜800ms、(xix)800〜900ms、(xx)900〜1000ms、(xxi)1〜2s、(xxii)2〜3s、(xxiii)3〜4s、(xxiv)4〜5s、および(xxv)>5sからなる群から選択される。 Preferably the means for progressively reducing the amplitude of the first AC or RF voltage constituting the amplitude of the first AC or RF voltage to progressively reduce over time t 12 only x 12 volt Is done. Preferably, x 12 is, (i) <50V peak-to-peak, (ii) 50 to 100 peak-to-peak, (iii) 100~150V peak-to-peak, (iv) 150~200V peak-to-peak, (v) 200 ~ 250V peak-to-peak, (vi) 250-300V peak-to-peak, (vii) 300-350V peak-to-peak, (viii) 350-400V peak-to-peak, (ix) 400-450V peak-to-peak, (x) 450 ~ 500V peak-to-peak, (xi) 500-550V peak-to-peak, (xxii) 550-600V peak-to-peak, (xxiii) 600-650V peak-to-peak, (xxiv) 650-700V peak-to-peak, (xxv) 700 ~ 750V peak-to-peak, (xxv ) 750-800V peak-to-peak, (xxvii) 800-850V peak-to-peak, (xxviii) 850-900V peak-to-peak, (xxix) 900-950V peak-to-peak, (xxx) 950-1000V peak-to-peak, and xxxi)> selected from the group consisting of> 1000V peak-to-peak. Preferably, t 12 is (i) <1 ms, (ii) 1-10 ms, (iii) 10-20 ms, (iv) 20-30 ms, (v) 30-40 ms, (vi) 40-50 ms, (vii ) 50-60 ms, (viii) 60-70 ms, (ix) 70-80 ms, (x) 80-90 ms, (xi) 90-100 ms, (xii) 100-200 ms, (xiii) 200-300 ms, (xiv) 300-400 ms, (xv) 400-500 ms, (xvi) 500-600 ms, (xvii) 600-700 ms, (xviii) 700-800 ms, (xix) 800-900 ms, (xx) 900-1000 ms, (xxi) 1 ~ 2s, (xxii) 2-3s, (xxiii) 3-4s, (xxiv) 4-5s, and (xxv)> 5s It is selected from Ranaru group.
本発明の一態様によると、イオンを質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするステップであって、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるステップと、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するために1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形を前記複数の電極に印加するステップと、
1対の軸方向に隣り合う電極または1対の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なるステップと、
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸の振幅を漸進的に低減するために、前記第1のACまたはRF電圧の振幅を直線的に、段階的に、または他のやり方で漸進的に低減するステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, a method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes, wherein the plurality of electrodes includes an electrode having an opening, and ions are transported through the opening;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, and the first AC or RF voltage is opposite to each other in an axially adjacent electrode or an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time-average or pseudo-potential barriers, corrugations or wells having a first amplitude are at least one of the axial lengths of the ion guides. Steps created along the section,
One or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms are applied to the plurality of electrodes to drive or propel ions along at least a portion of the axial length of the ion guide. And steps to
One or more having a second amplitude by inverting the polarity of the first AC or RF voltage applied to a pair of axially adjacent electrodes or a pair of axially adjacent groups of electrodes Allowing a second axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is: A step different from the first amplitude;
In order to progressively reduce the amplitude of the one or more second axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells, the amplitude of the first AC or RF voltage is linearly and stepwise. Or other gradual reduction steps.
本発明の一態様によると、イオンガイドまたは質量分析器であって、
複数の電極と、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加して、少なくともいくつかの電極が、使用時に、前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相に維持されるようにするための手段と、
使用時に、前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁を作成するために、1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention, an ion guide or mass analyzer comprising:
A plurality of electrodes;
Means for applying a first AC or RF voltage to the plurality of electrodes such that at least some of the electrodes are maintained in opposite phases of the first AC or RF voltage in use. When,
In use, change or switch the phase difference or polarity of one or more electrodes to create an axial time average or pseudopotential barrier along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer And an ion guide or mass analyzer including means for changing or scanning.
前記1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするための手段は、好ましくは前記位相差または極性をθ°だけ変更、切り換え、変化またはスキャンするように構成され、ここでθは、(i)<10、(ii)10〜20、(iii)20〜30、(iv)30〜40、(v)40〜50、(vi)50〜60、(vii)60〜70、(viii)70〜80、(ix)80〜90、(x)90、(xi)90〜100、(xii)100〜110、(xiii)110〜120、(xiv)120〜130、(xv)130〜140、(xvi)140〜150、(xvii)150〜160、(xviii)160〜170、(xix)170〜180、および(xx)180からなる群から選択される。 The means for changing, switching, changing or scanning the phase difference or polarity of the one or more electrodes is preferably configured to change, switch, change or scan the phase difference or polarity by θ °. And θ is (i) <10, (ii) 10-20, (iii) 20-30, (iv) 30-40, (v) 40-50, (vi) 50-60, (vii) 60- 70, (viii) 70-80, (ix) 80-90, (x) 90, (xi) 90-100, (xii) 100-110, (xiii) 110-120, (xiv) 120-130, xv) selected from the group consisting of 130-140, (xvi) 140-150, (xvii) 150-160, (xviii) 160-170, (xix) 170-180, and (xx) 180
本発明の一態様によると、イオンをガイドまたは質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加して、少なくともいくつかの電極が前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相に維持されるようにするステップと、
前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁を作成するために、1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the invention, a method for guiding or mass analyzing ions, comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
Applying a first AC or RF voltage to the plurality of electrodes such that at least some of the electrodes are maintained in opposite phases of the first AC or RF voltage;
Change, switch, change or change the phase difference or polarity of one or more electrodes to create an axial time average or pseudopotential barrier along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer. And a step of scanning is provided.
好ましくは、前記1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするステップは、前記位相差または極性をθ°だけ変更、切り換え、変化またはスキャンするステップを含み、ここでθは、(i)<10、(ii)10〜20、(iii)20〜30、(iv)30〜40、(v)40〜50、(vi)50〜60、(vii)60〜70、(viii)70〜80、(ix)80〜90、(x)90、(xi)90〜100、(xii)100〜110、(xiii)110〜120、(xiv)120〜130、(xv)130〜140、(xvi)140〜150、(xvii)150〜160、(xviii)160〜170、(xix)170〜180、および(xx)180からなる群から選択される。 Preferably, the step of changing, switching, changing or scanning the phase difference or polarity of the one or more electrodes includes the step of changing, switching, changing or scanning the phase difference or polarity by θ °, wherein θ (I) <10, (ii) 10-20, (iii) 20-30, (iv) 30-40, (v) 40-50, (vi) 50-60, (vii) 60-70, (Viii) 70-80, (ix) 80-90, (x) 90, (xi) 90-100, (xii) 100-110, (xiii) 110-120, (xiv) 120-130, (xv) Selected from the group consisting of 130-140, (xvi) 140-150, (xvii) 150-160, (xviii) 160-170, (xix) 170-180, and (xx) 180
本発明の一好適な実施形態によると、イオンをイオンガイド内に半径方向に中心軸の回りに閉じ込めるように構成されるRFイオンガイドが提供される。1つ以上の擬ポテンシャル障壁が好ましくはイオンガイドの中心軸に沿った1つ以上のポイントで維持される。1つ以上の擬ポテンシャル障壁の大きさ(magnitude)は、好ましくはイオンの質量電荷比に依存する。1つ以上の擬ポテンシャル障壁は、イオンガイドの入口および/または出口に位置付けられ得る。1つ以上の擬ポテンシャル障壁がイオンガイドの長さに沿ってイオンガイドの入口と出口との間の1つ以上の位置に位置付けられ得る他の実施形態が考えられる。 According to one preferred embodiment of the present invention, an RF ion guide is provided that is configured to confine ions radially within the ion guide about a central axis. One or more pseudopotential barriers are preferably maintained at one or more points along the central axis of the ion guide. The magnitude of the one or more pseudopotential barriers preferably depends on the mass to charge ratio of the ions. One or more pseudopotential barriers may be positioned at the inlet and / or outlet of the ion guide. Other embodiments are conceivable in which one or more pseudopotential barriers may be positioned at one or more locations along the length of the ion guide between the inlet and outlet of the ion guide.
RFイオンガイドは、好ましくは開口を有する1スタックの環状電極を含む。使用時に、イオンは開口を通って移送される。イオンをイオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、RF電圧の互いに反対の位相が好ましくは交互する電極に印加される。イオンガイドは、好ましくはリングスタックまたはイオントンネルイオンガイドを含む。 The RF ion guide preferably includes a stack of annular electrodes having openings. In use, ions are transported through the opening. In order to confine ions radially within the ion guide, opposite phases of the RF voltage are preferably applied to the alternating electrodes. The ion guide preferably comprises a ring stack or an ion tunnel ion guide.
好ましくは、イオンは、好ましくはイオンガイドの電極に印加される1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形によって、イオンガイドに沿っておよびそこを通って推進される。特定の質量電荷比値を有するイオンに対して、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅が実質的に実効擬ポテンシャル障壁(effective pseudo−potential barrier)よりも小さければ、これらのイオンは、擬ポテンシャル障壁を越えて、またはそこを通って駆動されることはない。その結果、これらのイオンは、イオンガイド内に閉じ込められたままになる。特定の質量電荷比値を有するイオンに対して、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅が実質的に実効擬ポテンシャル障壁よりも大きければ、これらのイオンは、擬ポテンシャル障壁を越えてまたは通って駆動されることになるので、イオンガイドを出ることになる。 Preferably, ions are propelled along and through the ion guide, preferably by one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms applied to the electrodes of the ion guide. The For ions having a specific mass-to-charge ratio value, the amplitude of one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms is substantially an effective pseudo-potential barrier. Otherwise, these ions will not be driven across or through the pseudopotential barrier. As a result, these ions remain confined within the ion guide. For ions having a particular mass to charge ratio value, if the amplitude of one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms is substantially greater than the effective pseudopotential barrier, these As the ions will be driven across or through the pseudopotential barrier, they will exit the ion guide.
イオンは、イオンガイドの電極に印加される1つ以上の過渡DC電圧またはポテンシャルの振幅を増加するか、および/または擬ポテンシャル障壁の実効振幅を低減することによって、それらの質量電荷比の降順に擬ポテンシャル障壁を越えて漸進的に駆動され得る。擬ポテンシャル障壁の振幅は、印加RF電圧の振幅を低減するか、および/または印加RF電圧の周波数を増加することによって低減し得る。 Ions are in descending order of their mass-to-charge ratio by increasing the amplitude of one or more transient DC voltages or potentials applied to the electrodes of the ion guide and / or reducing the effective amplitude of the pseudopotential barrier. It can be driven incrementally across the pseudopotential barrier. The amplitude of the pseudopotential barrier may be reduced by reducing the amplitude of the applied RF voltage and / or increasing the frequency of the applied RF voltage.
別の実施形態によると、擬ポテンシャル障壁は、さらなるDCポテンシャルを擬ポテンシャル障壁に近い電極に印加することによって増加され得る。この実施形態によると、障壁の振幅が質量電荷比依存擬ポテンシャル障壁および質量電荷比非依存DCポテンシャル障壁の組み合わせである。実効障壁の振幅は、RF電圧の振幅を低減するか、および/または印加RF電圧の印加周波数を増加するか、および/または印加DCポテンシャルの振幅を低減することによって低減され得る。軸方向にイオンガイドから質量選択的に排出されるイオンは、さらなる処理および/または解析のために前方へ移送され得る。 According to another embodiment, the pseudopotential barrier can be increased by applying an additional DC potential to the electrode close to the pseudopotential barrier. According to this embodiment, the barrier amplitude is a combination of a mass to charge ratio dependent pseudopotential barrier and a mass to charge ratio independent DC potential barrier. The effective barrier amplitude can be reduced by reducing the RF voltage amplitude and / or increasing the applied RF voltage applied frequency and / or reducing the applied DC potential amplitude. Ions that are mass selectively ejected from the ion guide in the axial direction can be transported forward for further processing and / or analysis.
別の実施形態によると、擬ポテンシャル障壁は、特定の質量電荷比を有するイオンが十分な軸方向エネルギー有するならば、イオンは、擬ポテンシャル障壁を乗り越え、そして上記好適なイオンガイドに入ることになるように、イオンガイドの入口に配置され得る。特定の質量電荷比を有するイオンが擬ポテンシャル障壁を乗り越えるのに不十分な軸方向エネルギーを有する場合、イオンは、好ましくはイオンガイドに入ることを防止され、そしてしたがってシステムから失われる。好適なイオンガイドは、低質量カットオフ特性に影響を与えるように使用され得る。この低質量カットオフの特性は、質量電荷比依存障壁の振幅を増加するか、および/またはイオンガイドに入るイオンの軸方向エネルギーを増加することによって変更され得る。 According to another embodiment, the pseudopotential barrier is such that if an ion with a particular mass to charge ratio has sufficient axial energy, the ion will overcome the pseudopotential barrier and enter the preferred ion guide. As such, it can be placed at the entrance of the ion guide. If an ion with a specific mass to charge ratio has insufficient axial energy to overcome the pseudopotential barrier, the ion is preferably prevented from entering the ion guide and is therefore lost from the system. Suitable ion guides can be used to affect the low mass cutoff characteristics. This low mass cutoff characteristic can be altered by increasing the amplitude of the mass to charge ratio dependent barrier and / or increasing the axial energy of ions entering the ion guide.
特に好適な実施形態によると、第1のACまたはRF電圧が電極に印加され、軸方向に隣り合う電極が第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相に維持されるようにする。次いで、一対の電極の極性が切り換え、または反転され得る。したがって、ある時間において、複数の電極の極性は、+−+−+−+−から+−++−−+−へ変化するようにされ得る。その結果、イオンガイドのある部分または区分に沿った電極の実効厚さが有効に増加される。 According to a particularly preferred embodiment, a first AC or RF voltage is applied to the electrodes so that axially adjacent electrodes are maintained in opposite phases of the first AC or RF voltage. The polarity of the pair of electrodes can then be switched or reversed. Thus, at some time, the polarity of the plurality of electrodes can be allowed to change from +-++-++-++-to +-++-+-. As a result, the effective thickness of the electrode along a portion or section of the ion guide is effectively increased.
多相RF電圧が電極に印加され得るさらなる実施形態が考えられる。例えば、最初に120°位相差が隣り合う電極間に維持されるように、三相RF電圧が印加され得る。擬ポテンシャル障壁がイオンガイドまたは質量分析器のある領域または区分において電極間または多くの電極の位相関係を変更することによって作成され得る。例えば、イオンガイドまたは質量分析器のある区分に沿った位相関係またはパターンが123 123 123 123 123から123 331 112 223 123に変化するようにされ得る。この実施形態によると、イオンガイドまたは質量分析器のある部分または区分に沿った電極の実効厚さがやはり有効に増加される。したがって、そうでない場合にイオンガイドの長さに沿って形成される擬ポテンシャル波形形状の振幅よりも大きな振幅を有する擬ポテンシャル障壁がこの領域に作成されることになる。 Further embodiments are contemplated where a multiphase RF voltage can be applied to the electrodes. For example, a three-phase RF voltage can be applied such that initially a 120 ° phase difference is maintained between adjacent electrodes. Pseudopotential barriers can be created by changing the phase relationship between electrodes or many electrodes in a region or section of an ion guide or mass analyzer. For example, the phase relationship or pattern along a section of the ion guide or mass analyzer may be changed from 123 123 123 123 123 to 123 331 112 223 123. According to this embodiment, the effective thickness of the electrode along a portion or section of the ion guide or mass analyzer is still effectively increased. Therefore, a pseudopotential barrier having an amplitude greater than the amplitude of the pseudopotential waveform formed along the length of the ion guide otherwise would be created in this region.
本発明の一態様によると、イオンガイドまたは質量分析器であって、
複数の電極と、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するための手段であって、ここで、n≧2である手段と、
前記複数の電極の間の、そこでの、またはそれらの第1の位相関係または第1のアスペクト比を維持するための手段と、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のサブセットの間の、そこでの、またはそれらの位相関係またはアスペクト比を変化させて、前記電極サブセットの間の、そこでの、またはそれらの第2の異なる位相関係または第2のアスペクト比が維持されるようにするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器が提供される。
According to one aspect of the invention, an ion guide or mass analyzer comprising:
A plurality of electrodes;
means for applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein n ≧ 2;
Means for maintaining a first phase relationship or a first aspect ratio between or at the plurality of electrodes;
In use, in order to create one or more axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, Varying the phase relationship or aspect ratio between, there or their subsets to maintain a second, different phase relationship or second aspect ratio between, or between the electrode subsets An ion guide or a mass analyzer is provided.
好ましくは、nは、(i)2、(ii)3、(iii)4、(iv)5、(v)6、(vi)7、(vii)8、(viii)9、(ix)10、および(x)>10からなる群から選択される。 Preferably, n is (i) 2, (ii) 3, (iii) 4, (iv) 5, (v) 6, (vi) 7, (vii) 8, (viii) 9, (ix) 10 And (x)> 10.
前記第1の位相関係または第1のアスペクト比は、好ましくは第1の周期、パターン、シーケンスまたは値を有し、かつ前記第2の位相関係または第2のアスペクト比は、好ましくは第2の異なる周期、パターン、シーケンスまたは値を有する。 The first phase relationship or first aspect ratio preferably has a first period, pattern, sequence or value, and the second phase relationship or second aspect ratio is preferably second. Have different periods, patterns, sequences or values.
本発明の一態様によると、イオンをガイドまたは質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するステップであって、ここで、n≧2であるステップと、
前記複数の電極の間の第1の位相関係または第1のアスペクト比を維持するステップと、
1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のサブセットの間の、そこでの、またはそれらの位相関係またはアスペクト比を変化させて、前記電極サブセットの間の、そこでの、またはそれらの第2の異なる位相関係または第2のアスペクト比が維持されるようにするステップとを含む方法が提供される。
According to one aspect of the invention, a method for guiding or mass analyzing ions, comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, where n ≧ 2.
Maintaining a first phase relationship or a first aspect ratio between the plurality of electrodes;
Between the subsets of the plurality of electrodes to create one or more axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer Changing the phase relationship or aspect ratio thereof, or so that the second different phase relationship or second aspect ratio there between or between the electrode subsets is maintained. A method comprising the steps of:
本発明の別の態様によると、イオンガイドまたは質量分析器であって、
複数の電極と、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するための手段であって、ここで、n≧2である手段と、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のうちの1つ以上の電極の位相またはアスペクト比をスキャンするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器が提供される。
According to another aspect of the invention, an ion guide or mass analyzer comprising:
A plurality of electrodes;
means for applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein n ≧ 2;
In use, in order to create one or more axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, An ion guide or mass analyzer is provided that includes means for scanning the phase or aspect ratio of one or more of the electrodes.
本発明の別の態様によると、イオンをガイドまたは質量分析する方法であって、
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するステップであって、ここで、n≧2であるステップと、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のうちの1つ以上の電極の位相またはアスペクト比をスキャンするステップとを含む方法が提供される。
According to another aspect of the invention, a method for guiding or mass analyzing ions, comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, where n ≧ 2.
In use, in order to create one or more axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, Scanning the phase or aspect ratio of one or more of the electrodes.
この実施形態によると、1つ以上の電極の位相は、漸進的に変更またはスキャンされ得る。1つ以上の電極の位相は、少なくともθ°だけスキャンされ得る。ここで、θは、(i)<10、(ii)10〜20、(iii)20〜30、(iv)30〜40、(v)40〜50、(vi)50〜60、(vii)60〜70、(viii)70〜80、(ix)80〜90、(x)90、(xi)90〜100、(xii)100〜110、(xiii)110〜120、(xiv)120〜130、(xv)130〜140、(xvi)140〜150、(xvii)150〜160、(xviii)160〜170、(xix)170〜180、および(xx)180からなる群から選択される。1つ以上の電極の位相が漸進的に変更またはスキャンされるにつれ、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸の高さは、好ましくは増加または低減する。 According to this embodiment, the phase of one or more electrodes can be progressively changed or scanned. The phase of one or more electrodes may be scanned by at least θ °. Here, θ is (i) <10, (ii) 10-20, (iii) 20-30, (iv) 30-40, (v) 40-50, (vi) 50-60, (vii) 60-70, (viii) 70-80, (ix) 80-90, (x) 90, (xi) 90-100, (xii) 100-110, (xiii) 110-120, (xiv) 120-130 , (Xv) 130-140, (xvi) 140-150, (xvii) 150-160, (xviii) 160-170, (xix) 170-180, and (xx) 180. As the phase of one or more electrodes is progressively changed or scanned, the height of one or more axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells is preferably increased or decreased.
上記好適な実施形態によると、積層リングイオンガイドの中心近くのイオンは、広い範囲の条件で安定した軌跡を有することになる。これは、四重極ロッドセットにおけるイオンに対する半径方向安定性条件とは対照的である。四重極ロッドセットにおいては、そのようなデバイスの軸に沿って振動電界の性質を変化させることによって、イオンの喪失を生じさせる望ましくない半径方向不安定性および/または共鳴が生じ得る。 According to the preferred embodiment, ions near the center of the laminated ring ion guide will have a stable trajectory over a wide range of conditions. This is in contrast to the radial stability condition for ions in a quadrupole rod set. In a quadrupole rod set, changing the nature of the oscillating electric field along the axis of such a device can cause undesirable radial instabilities and / or resonances that cause loss of ions.
また、多重極ロッドセットは、上記好適な実施形態にかかる障壁デバイスまたは質量分析器に比べて、製造するには比較的大きくかつ高価である。したがって、上記好適な実施形態にかかるイオンガイドまたは質量分析器は、公知構成に比べて特に有利である。 The multipole rod set is also relatively large and expensive to manufacture compared to the barrier device or mass analyzer according to the preferred embodiment. Therefore, the ion guide or the mass analyzer according to the preferred embodiment is particularly advantageous as compared with the known configuration.
ここで、添付の図面を参照して、本発明の種々実施形態を、あくまで例として、説明する。 Various embodiments of the present invention will now be described by way of example only with reference to the accompanying drawings.
ここで、図1を参照して本発明の一実施形態を説明する。この実施形態によると、RFリングスタックイオンガイド2が提供される。好ましくは、イオンガイドは、好ましくは使用時にDCポテンシャルに保持または維持される入口プレートまたは電極1、および複数の他の環状電極またはプレート2aを含む。変調された(RF)ポテンシャルの互いに反対の位相が、好ましくはイオンガイドを形成する交番電極またはプレート2aに印加される。好ましくは、イオンガイド2は、好ましくは使用時にDCポテンシャルに保持または維持される出口プレートまたは電極3を含む。
An embodiment of the present invention will now be described with reference to FIG. According to this embodiment, an RF ring
上記好適な実施形態によると、図示のようにさらなる過渡DCポテンシャル4が好ましくはリング電極2aのうちの1つ以上に印加される。過渡DCポテンシャル4は、好ましくは比較的短い期間に1つ以上の電極2aに同時に印加される。次いで、DCポテンシャル4は、好ましくは1つ以上の隣接または後続の電極2aに切り換えまたは印加される。上記好適な実施形態によると、1つ以上の過渡DCポテンシャルもしくは電圧または1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形は、好ましくはイオンをイオンガイド2の長さに沿って特定の方向に推進するために、イオンガイド2の電極2aのうちのいくつかまたはすべてに順次印加される。
According to the preferred embodiment, a further
好ましくは、イオンガイド2は、好ましくは内径が5mmの一続きの環状電極2aを含む。図2は、x,y平面上で見た場合の積層リングイオンガイド2を示す。各電極2aは、好ましくは厚さが0.5mmであり、かつ隣り合う電極の中心間間隔が好ましくは1.5mmである。入口および出口電極1、3の開口の直径は、好ましくは2mmである。
Preferably, the
図3Aは、最大電圧が100Vであり、周波数が1MHzであるRF電圧がイオンガイド2に印加される場合に質量電荷比が100であるイオンが受けるようなイオンガイド2の中心軸に沿った時間平均または擬ポテンシャルのプロットを示す。図3Bは、質量電荷比が500であるイオンが受けるようなイオンガイド2の中心軸に沿った時間平均または擬ポテンシャルの比較用プロットを示す。
FIG. 3A shows a time along the central axis of the
図3Aおよび3Bに示すプロットは、図1に示されるような形状を有するイオンガイドの三次元コンピュータシミュレーション(SIMION)における電圧勾配を記録することによって得た。1周波数サイクルの間の最大電圧に相当する静的なDC電圧(static DC voltage)を各レンズ素子に印加した。次いで、擬ポテンシャルを、次式を使用して、記録された電界から直接計算した。 The plots shown in FIGS. 3A and 3B were obtained by recording voltage gradients in a three-dimensional computer simulation (SIMION) of an ion guide having a shape as shown in FIG. A static DC voltage corresponding to the maximum voltage during one frequency cycle was applied to each lens element. The pseudopotential was then calculated directly from the recorded electric field using the following equation:
ここで、qは、イオン(z.e)上の全電荷であり、eは、電子電荷であり、zは、電荷の数であり、mは、イオンの原子質量であり、Ωは、変調ポテンシャルの周波数であり、およびEは、記録された電界である。 Where q is the total charge on the ion (ze), e is the electronic charge, z is the number of charges, m is the atomic mass of the ion, and Ω is the modulation Is the frequency of the potential, and E is the recorded electric field.
図4は、イオンガイド2の出口における領域であって、x軸(半径方向)に0〜1mm延びた領域について、好適なイオンガイド2内の半径方向および軸方向擬ポテンシャルをz軸の中心に沿って切断した(cut)ものを示す。電圧および周波数の条件は、質量電荷比が100であるイオンについては上記のとおりである。
FIG. 4 shows a region at the exit of the
図3Aおよび図3Bから分かるように、z軸における軸方向擬ポテンシャルの波形形状は、比較的高い質量電荷比を有するイオンに対するものよりも比較的低い質量電荷比を有するイオンの方が大きい。図4から明らかなように、中心軸に沿った、軸方向擬ポテンシャル波形形状は、中心軸から半径方向に離れた位置の擬ポテンシャル波形形状の振幅と比べて、比較的低い振幅を有する。イオンは、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形をイオンガイド2の電極2aに印加することによって、イオンガイド2に沿って容易に推進され得る。
As can be seen from FIGS. 3A and 3B, the waveform of the axial pseudopotential in the z-axis is larger for ions having a relatively low mass to charge ratio than for ions having a relatively high mass to charge ratio. As apparent from FIG. 4, the axial pseudopotential waveform shape along the central axis has a relatively low amplitude compared to the amplitude of the pseudopotential waveform shape at a position away from the central axis in the radial direction. Ions can be easily propelled along the
図5は、本発明の一実施形態を示す。ここで、好ましくは、出口開口3の直前または直ぐ上流の最後の2つの環状プレートまたは電極5a、5bは、好ましくは先行する環状プレートまたは電極2aに印加される第1のRF電圧源と好ましくは異なる第2のRF電圧源によって駆動される。
FIG. 5 illustrates one embodiment of the present invention. Here, preferably the last two annular plates or
好ましくは最後の2つの環状プレートまたは電極5a、5bの一方または両方に印加される第2のRF電圧の振幅がその他のプレートまたは電極2aに印加される第1のRF電圧の振幅に対して増加される場合、イオントンネルイオンガイドまたは質量分析器2の出口における擬ポテンシャル波形形状の深さおよびしたがって擬ポテンシャル障壁の高さは、好ましくは増加される。
Preferably the amplitude of the second RF voltage applied to one or both of the last two annular plates or
別の実施形態によると、最後の2つの環状プレートまたは電極5a、5bの一方または両方に印加される第2のRF変調周波数は、イオンガイドまたは質量分析器2のその他の電極2aに印加される第1のRF電圧の変調周波数に対して低減され得る。
According to another embodiment, the second RF modulation frequency applied to one or both of the last two annular plates or
図6Aは、質量電荷比が100であるイオンが受けるようなイオンガイドまたは質量分析器2の中心軸に沿った時間平均または擬ポテンシャルのプロットを示す。ここで、最大振幅が100Vであり、かつ周波数が1MHzである第1のRF電圧が環状プレートまたは電極2aに印加され、最大振幅が400VであるRF電圧がプレート5b(出口電極3の直ぐ上流に配置される)に印加され、および最大振幅が200Vである第3のRF電圧がプレート5a(電極5bの上流に配置される)に印加される。プレートまたは電極2a、5a、5bのすべてに印加される変調ポテンシャルの位相および周波数は、同一であった。図6Bは、質量電荷比が500より高いイオンが受けるようなイオンガイドまたは質量分析器2の中心軸に沿った時間平均または擬ポテンシャルを示す。
FIG. 6A shows a plot of time average or pseudopotential along the central axis of the ion guide or
図7は、イオンガイドまたは質量分析器2の出口における領域であって、x軸(半径方向)に0〜1mm延びた領域について、好適なイオンガイドまたは質量分析器2内の半径方向および軸方向擬ポテンシャルをz軸の中心に沿って切断したものを示す。電圧および周波数の条件は、質量電荷比が100であるイオンについての図6Aを参照する上記の記載のとおりである。
FIG. 7 shows the region at the exit of the ion guide or
イオンガイドまたは質量分析器2の出口において変調ポテンシャルの振幅を増加すると、その結果、好ましくはイオンの質量電荷比に反比例する振幅を有する擬ポテンシャル障壁が生成される。
Increasing the amplitude of the modulation potential at the exit of the ion guide or
上記好適な実施形態によると、イオンは、好ましくは外部イオン源からイオンガイド中へ導入される。イオンは、例えば、パルス化してまたは連続してのいずれかによって時刻T0で導入され得る。イオンが導入されると、イオンガイドまたは質量分析器2に入ったイオンの軸方向エネルギーは、好ましくは、特定範囲内の質量電荷比を有するすべてのイオンが半径方向RF電界によって閉じ込められ、かつ好ましくは擬ポテンシャル障壁の存在によってイオンガイドまたは質量分析器2から出ることが防止されるように構成される。
According to the preferred embodiment, ions are preferably introduced into the ion guide from an external ion source. The ions can be introduced at time T 0 , for example, either by pulsing or continuously. When ions are introduced, the axial energy of ions entering the ion guide or
イオンガイドまたは質量分析器2内に閉じ込められたイオンの初期エネルギーの広がりは、冷却ガスをイオンガイドまたは質量分析器2のイオン閉じ込め領域内に導入することによって低減され得る。イオンガイドまたは質量分析器2は、好ましくは10-5〜101mbarの範囲またはより好ましくは10-3〜10-1mbarの範囲の圧力に維持される。イオンの運動エネルギー(kinetic energy)は、好ましくはイオンとガス分子との間の衝突の結果として低減されることになる。したがって、イオンは、熱エネルギー(thermal energies)に冷却することになる。
The spread of the initial energy of ions confined in the ion guide or
一旦イオンがイオンガイドまたは質量分析器2内に蓄積されると、入口電極1に印加されるDC電圧は、イオンが入口を介してイオンガイドまたは質量分析器2から出ることを防止するために上昇され得る。
Once ions are accumulated in the ion guide or
別の実施形態によると、1つ以上の適切なポテンシャルをイオンガイドまたは質量分析器2の入口に配置された1つ以上の環状プレートまたは電極に印加することによって、1つ以上の擬ポテンシャル障壁がイオンガイドまたは質量分析器2の入口において形成され得る。
According to another embodiment, one or more pseudopotential barriers are created by applying one or more suitable potentials to one or more annular plates or electrodes located at the entrance of the ion guide or
初期時刻T0において、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形が好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2を形成する電極2aに印加される。一実施形態によると、1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅は、初期には、比較的低いか、または実質的にゼロであり得る。次いで、一実施形態によると、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅は、漸進的に最終の最大値へ直線的に(ramped)増加され得るか、段階的に増加され得るか、または増加され得る。このように、イオンは、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2の出口に配置された擬ポテンシャル障壁に向かって推進されるか、駆動されるか、または平行移動される。イオンは、好ましくは質量電荷比の逆順でイオンガイドまたは質量分析器2を出るようにされる。すなわち、比較的高い質量電荷比を有するイオンが比較的低い質量電荷比を有するイオンより先にイオンガイドまたは質量分析器2を出る。上記プロセスは、一旦イオンガイドまたは質量分析器2からイオンが無くなると繰り返され得る。
At an initial time T 0 , one or more transient DC voltages or potentials or one or more DC voltages or potential waveforms are preferably applied to the
図8は、イオンガイドまたは質量分析器2の出口に配置された2つの環状プレートまたは電極5a、5bの直径が好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2の残りの部分を含む電極2aの直径よりも小さい一実施形態を示す。質量選択的擬ポテンシャル障壁が好ましくは図5を参照して前述した実施形態と同様にイオンガイドまたは質量分析器2の出口に形成される。図8に示される実施形態は、好ましくは同様の振幅質量依存擬ポテンシャル障壁を生成するために必要な変調RFポテンシャルの振幅が図5の実施形態よりも小さいという利点を有する。
FIG. 8 shows that the diameter of the two annular plates or
図9Aおよび9Bを参照して、イオンガイドまたは質量分析器2内に質量電荷比依存擬ポテンシャル障壁を生成する好ましさが劣る好ましい方法を説明する。イオンガイドまたは質量分析器2は、好ましくは図1に示すイオンガイドまたは質量分析器2と同様である。しかし、印加されるRF電圧の振幅、または好ましくはリング電極2aに印加されるさらなるRFまたはAC電圧は、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2の出口へ向かってまたはイオンガイドまたは質量分析器2の長さに沿って漸進的に増加するように構成される。図9Bは、さらなる変調電圧の最大振幅6および最小振幅7を図9Aに示すようなイオンガイドまたは質量分析器2のレンズ素子の番号の関数としてプロットしたものを示す。
With reference to FIGS. 9A and 9B, a preferred less preferred method of creating a mass to charge ratio dependent pseudopotential barrier in the ion guide or
レンズ素子nに印加されるさらなる時間変化ポテンシャルVnの一般形は、以下によって記述され得る。 The general form of a further time-varying potential Vn applied to the lens element n can be described by:
ここで、nは、レンズ素子のインデックス番号であり、f(n)は、素子nに対する振動の振幅を記述する関数であり、およびσは、変調周波数である。 Here, n is the index number of the lens element, f (n) is a function describing the amplitude of vibration for the element n, and σ is the modulation frequency.
f(n)によって記述されるさらなる変調ポテンシャルの最大振幅がイオンガイドまたは質量分析器2の出口へ向かって図9Bに示すような非線形関数で増加するならば、質量電荷比依存擬ポテンシャル障壁が好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2の出口に形成されることになり、好ましくは連続するリング電極2aに印加されるACまたはRF電圧の交番位相の結果として形成される上記のまたは任意の軸方向擬ポテンシャル波形形状に重畳される。
A mass to charge ratio dependent pseudopotential barrier is preferred if the maximum amplitude of the further modulation potential described by f (n) increases with a nonlinear function as shown in FIG. 9B towards the exit of the ion guide or
別の実施形態によると、1つ以上の質量選択的擬ポテンシャル障壁が、リング電極2aの内径と、イオンガイドまたは質量分析器2の特定の領域または部分の内部でまたはそれに沿って隣接するリング電極間の間隔とのアスペクト比を変化させることによって、生成または作成され得る。アスペクト比の変化は、リング電極2aの機械的設計を変更することによって、および/または一続きの2つ以上の近接するリング電極の間の位相または位相関係を変化させることによって実現され得る。例えば、2つの近接するリング電極が変調ポテンシャルの同じ位相(変調されたポテンシャルの互いに反対の位相とは対照的)が供給されるように切り換えられるならば、イオンガイドまたは質量分析器2のこの領域または区分におけるアスペクト比も、実際には、変更されることになる。一実施形態によると、一対の電極の極性または位相は、イオンガイドまたは質量分析器2のある領域または区分の実効アスペクト比がイオンガイドまたは質量分析器2の残りの部分に沿って維持されるようなアスペクト比に対して変化するように切り換えまたは反転され得る。一実施形態によると、擬ポテンシャル障壁のアスペクト比およびしたがって高さは、近接する電極または電極群間の位相差を、例えば、180度から0度に連続的にまたはそれ以外で調節することによって、連続的にまたはそれ以外で調節され得る。これらの方法は、印加される変調ポテンシャルの振幅および/または周波数を変化させる手法と併用して使用され得る。
According to another embodiment, one or more mass selective pseudopotential barriers are adjacent to the inner diameter of the
図10は、好適なイオンガイドまたは質量分析器2が四重極質量フィルタなどのより高分解能の質量分析器11と直列に結合される本発明の一実施形態を示す。これにより、全体的に改善されたデューティサイクルおよび感度を有する質量分析計を提供することができる。好ましくは、イオン源からのイオンは、好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2の上流に位置するイオントラップ8内に蓄積される。次いで、イオンは、好ましくはイオントラップ8の出口に設けられたゲート電極9をパルス化することによってイオントラップ8から周期的に放出される。次いで、イオントラップ8から放出またはパルスとして出射されたイオンは、好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入るように方向付けられる。イオンは、好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2の出口に形成される擬ポテンシャル障壁が存在することによって、好適なイオンガイドまたは質量分析器2内に軸方向に閉じ込められたままである。一旦イオンが好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ると、DC障壁電圧が好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口電極1に印加される。これにより、好ましくはイオンが入口電極1における開口を介して上流へ向かって好適なイオンガイドまたは質量分析器2を出ることが防止される。一旦イオンが好適なイオンガイドまたは質量分析器2内に蓄積されると、イオンを好適なイオンガイドまたは質量分析器2の出口へ向かって駆動または推進するために、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形が好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2を形成する電極に重畳される。
FIG. 10 shows an embodiment of the invention in which a suitable ion guide or
1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅は、好ましくは時間とともに最終の最大電圧へ漸進的に増加される。好ましくは、イオンは、好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2の出口に配置された擬ポテンシャル障壁を、質量電荷比の降順で、越えるように推進、駆動または押進される。好適なイオンガイドまたは質量分析器2の出力は、好ましくはイオンの質量電荷比および時間の関数である。
The amplitude of one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms is preferably progressively increased over time to the final maximum voltage. Preferably, the ions are propelled, driven or pushed, preferably in a descending order of mass to charge ratio, over a pseudopotential barrier, preferably located at the exit of a suitable ion guide or
まず、比較的高い質量電荷比を有するイオンが好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2を出る。漸進的により低い質量電荷比を有するイオンが好ましくは後続してイオンガイドまたは質量分析器2を出る。特定の質量電荷比を有するイオンが好ましくは比較的短いまたは狭い期間にわたりイオンガイドまたは質量分析器2を出ることになる。一実施形態によると、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の下流に配置されたスキャン四重極質量フィルタ/分析器11の質量電荷比移送ウィンドウは、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2を出るイオンの質量電荷比に同期するようにされる。その結果、スキャン四重極質量分析器11のデューティサイクルは、好ましくは増加される。イオン検出器12が好ましくは四重極質量分析器11の下流に配置され、イオンを検出する。
First, ions having a relatively high mass to charge ratio preferably exit a suitable ion guide or
別の実施形態によると、四重極質量フィルタ11の質量電荷比移送ウィンドウは、段階的にまたは他のやり方で増加され得る。これは、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2を出るイオンの質量電荷比に実質的に同期するようにされる。この実施形態によると、四重極質量フィルタ11の移送効率およびデューティサイクルは、特定の質量または質量電荷比を有するイオンだけが測定または分析されることが所望される一動作モードにおいて増加され得る。
According to another embodiment, the mass to charge ratio transfer window of the quadrupole mass filter 11 may be increased stepwise or otherwise. This is preferably made to be substantially synchronized with the mass to charge ratio of the ions exiting the ion guide or
別の実施形態によると、好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、図11に示すような直交加速飛行時間質量分析器4に結合され得る。好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、好ましくはさらなるイオンガイド13を介して飛行時間質量分析器14に結合される。好適なイオンガイドまたは質量分析器2から受け取られたイオンを移送し、かつイオンを好ましくはイオンが受け取られた順番を維持するやり方で移送するために、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形が好ましくはさらなるイオンガイド13の電極に印加される。したがって、イオンは、好ましくは最適なやり方で前方の飛行時間質量分析器14へ移送される。好適なイオンガイドまたは質量分析器2および飛行時間質量分析器14を組み合わせることで、好ましくは質量分析計全体のデューティサイクルおよび感度が改善される。任意の特定の場合に好適なイオンガイドまたは質量分析器2から出力されるイオンは、好ましくは明確な質量電荷比を有する。
According to another embodiment, a suitable ion guide or
さらなるイオンガイド13は、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2から現れるか、または受け取られるイオンを複数の別個のイオンパケットに区切る。好ましくは、さらなるイオンガイド13によって受け取られた各イオンパケットは、好ましくはさらなるイオンガイド13の長さに沿って連続して平行移動される別々の軸方向ポテンシャル井戸内にトラップされる。したがって、各軸方向ポテンシャル井戸は、好ましくは限定された範囲の質量電荷比を有するイオンを含む。軸方向ポテンシャル井戸は、好ましくは、イオンが直交加速飛行時間質量分析器14へ向かって、またはその中へ放出されるまで、さらなるイオンガイド13の長さに沿って継続的に輸送される。直交加速度パルスは、好ましくは、各パケットまたは井戸に存在するイオン(好ましくは、限定された範囲の質量電荷比を有する)の直交加速飛行時間質量分析器14中への移送を最大化するために、さらなるイオンガイド13からのイオンの到達に同期するようにされる。
The
別の実施形態によると、擬ポテンシャル障壁は、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口に位置付けられ得る。したがって、特定の質量電荷比を有するイオンが擬ポテンシャル障壁を乗り越えるのに十分な初期軸方向エネルギーを有するならば、イオンは、好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ることになる。しかし、特定の質量電荷比を有するイオンが擬ポテンシャル障壁を乗り越えるのに不十分な初期軸方向エネルギーを有するならば、イオンは、好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2に入ることを防止され、そしてシステムから失われ得る。この実施形態によると、イオンガイドまたは質量分析器2は、低質量または質量電荷比カットオフを有するように動作され得る。低質量または質量電荷比カットオフの特性は、質量電荷比依存障壁の振幅を増加または変化させることによって、または好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入るイオンの初期軸方向エネルギーを増加または変化させることによって、時間の関数として変更または変化させ得る。擬ポテンシャル障壁の大きさは、RF電圧を増加することによって、および/または電極に印加されるRF電圧の周波数を低減することによって増加され得る。
According to another embodiment, the pseudopotential barrier can be positioned at the entrance of a suitable ion guide or
図12は、入口電極1の直後または直ぐ下流の第1の環状プレートまたは電極15が好ましくはイオンガイドまたは質量分析器2を形成または構成するその他の環状プレートまたは電極2aに好ましくは印加されるRF電圧源とは好ましくは別のまたは異なるRF電圧源によって好ましくは駆動される、さらなる実施形態を示す。第1の環状プレートまたは電極15に印加されるRF電圧の振幅がその他の環状プレートまたは電極2aに印加されるRF電圧の振幅に対して増加される場合、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口における擬ポテンシャル障壁の高さは、好ましくは増加される。第1の環状プレートまたは電極15に印加されるRF変調周波数をイオンガイドまたは質量分析器2のその他の電極2aに印加されるポテンシャルの変調周波数に対して低減することによっても同様の効果が実現され得る。
FIG. 12 shows that the first annular plate or
図13Aは、最大100Vで周波数が1MHzのRF電圧が環状プレートまたは電極2aに印加される場合に質量電荷比が100であるイオンが受けるような、図12に示す好適なイオンガイドまたは質量分析器2の中心軸に沿った時間平均ポテンシャルまたは擬ポテンシャルのプロットを示す。第1の環状プレートまたは電極15に印加された変調ポテンシャルの最大振幅は、400Vであった。環状プレートまたは電極2a、15のすべてに印加された変調ポテンシャルの位相および周波数は、同一であった。図13Bは、質量電荷比が500であるイオンが受けるような、イオンガイドまたは質量分析器2の中心軸に沿って対応する時間平均ポテンシャルまたは擬ポテンシャルを示す。
FIG. 13A shows a suitable ion guide or mass analyzer as shown in FIG. 12 where ions having a mass to charge ratio of 100 are received when an RF voltage of up to 100 V and a frequency of 1 MHz is applied to the annular plate or electrode 2a. 2 shows a plot of time-average potential or pseudopotential along the central axis of 2. The maximum amplitude of the modulation potential applied to the first annular plate or
図14は、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口における領域であって、x軸(半径方向)に0〜1mm延びた領域について、好適なイオンガイドまたは質量分析器2内の半径方向および軸方向擬ポテンシャルの形態をz軸の中心に沿って切断したものを示す。電圧および周波数の条件は、図13を参照して前述した実施形態に対して前述したとおりである。
FIG. 14 shows a region at the entrance of a preferred ion guide or
イオンガイドまたは質量分析器2の入口において変調ポテンシャルの振幅を増加すると、その結果、イオンの質量電荷比に反比例する振幅を有する擬ポテンシャル障壁が生成される。十分な軸方向エネルギーを有するイオンは、擬ポテンシャル障壁を乗り越えることになり、および好適なイオンガイドまたは質量分析器2中へ移送されることになり、他方この障壁を乗り越えるのに不十分な軸方向エネルギーを有するイオンは、システムから失われることになる。
Increasing the amplitude of the modulation potential at the entrance of the ion guide or
一実施形態によると、低い質量電荷比移送特性は、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口の近く、またはその場所に配置される1つ以上の第1の電極15に印加される変調ポテンシャルの振幅および/または周波数を変化させることによってスキャンされ得るか、変化するようにされ得るか、または段階的に変化するようにされ得る。
According to one embodiment, the low mass-to-charge ratio transfer characteristic is a modulation potential applied to one or more
図15に示すような別の実施形態によると、好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aに結合され得る。一好適な実施形態にかかるイオンガイドまたは質量分析器2は、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aの下流に位置づけられ得、および比較的高い電荷状態のイオンの前方移送を可能にしつつ、比較的低い電荷状態を有するイオンの前方移送を防止するように使用され得る。イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aが質量分析計または質量分析器と組み合わされる場合、好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aの下流かつ質量分析計または質量分析器の上流に位置付けられ得る。好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、後の質量分析のために比較的高い電荷状態を有するイオンの前方移送を可能にしつつ、比較的低い電荷状態を有するイオンの前方移送を防止するように使用され得る。
According to another embodiment as shown in FIG. 15, a suitable ion guide or
イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aと組み合わせて使用する場合、好適なイオンガイドまたは質量分析器2の領域に設けられる擬ポテンシャル障壁の大きさまたは高さおよびしたがってイオンガイドまたは質量分析器2の低質量電荷比カットオフ特性は、イオンのイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15a中へのパルス化またはイオンのイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aからの出現と同期してスキャンされ得る。所定のドリフト時刻にイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aから現れ、かつ所定レベルを下回る質量または質量電荷比を有するイオンは、好適なイオンガイドまたは質量分析器2を通る移送から除外または防止され得る。この実施形態の重要な用途は、同じ質量電荷比を有するが電荷状態の異なるイオンを区別することにある。
When used in combination with an ion mobility separator or spectrometer 15a, the size or height of the pseudopotential barrier provided in the region of the preferred ion guide or
図15を参照すると、イオン源からのイオンは、好ましくはイオントラップ8内に蓄積され得る。イオンは、イオントラップ8の出口に配置されたゲート電極9をパルス化することによって、イオントラップ8から周期的に放出され得る。次いで、イオンは、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15a中へパルス化され得る。次いで、イオンは、好ましくはイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aを通って走行する。次いで、イオンは、好ましくはイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aを通過する際に、それらのイオン移動度にしたがって時間的に分離される。比較的高いイオン移動度を有するイオンは、好ましくは比較的低いイオン移動度を有するイオンより先にイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aから出ることになる。
Referring to FIG. 15, ions from the ion source can preferably accumulate in the
イオンは、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aを出ると、好ましくはイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aの出口電極16と好適なイオンガイドまたは質量分析器2への入口電極17との間のDCポテンシャル差を維持することによって加速される。好ましくは、好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入るイオンは、好ましくはイオンの質量電荷比に依存する振幅を好ましくは有する擬ポテンシャル障壁を受けることになる。比較的低い質量電荷比を有するイオンは、好ましくは比較的高い振幅を有する擬ポテンシャル障壁を受けることになり、他方比較的高い質量電荷比を有するイオンは、好ましくは比較的低い振幅を有する擬ポテンシャル障壁を受けることになる。したがって、ある質量電荷比を下回るイオンは、好ましくは好適なイオンガイドまたは質量分析器2中へ移送されないことになる。好適なイオンガイドまたは質量分析器2から前方へ移送されるイオンは、好ましくは必要に応じてさらに処理される。例えば、イオンは、後の質量解析のための質量分析計へ移送され得る。好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ることを防止されたイオンは、好ましくはシステムから失われる。
As ions exit the ion mobility separator or spectrometer 15a, the DC potential between the
好適なイオンガイドまたは質量分析器2への入口内またはその場所に設けられた擬ポテンシャル障壁の大きさは、イオン移動度分離の際に漸進的に増加され得る。図16は、イオン移動度ドリフト時間の関数としての質量電荷比値のプロットを示す。図から分かるように、一価イオンおよび多価イオンは、2つの別個のバンドに分かれる。任意の与えられたドリフト時間において、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aを出る一価イオンは、同時にイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aを出る多価イオンよりも低い質量電荷比を有することになる。したがって、好適なイオンガイドまたは質量分析器2への入口における擬ポテンシャル障壁の高さが図16に示すライン18に示されたよりも小さな質量電荷比値を有するイオンが除外されるようなドリフト時間でスキャンされるように構成されるならば、ほとんど多価イオンだけが好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ることになる。一価イオンは、好ましくは失われることになる。これにより、多価イオンの後段における検出に対して信号対ノイズを著しく改善するという利点が得られる結果となる。
The size of the pseudopotential barrier provided in or at the entrance to a suitable ion guide or
イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aは、ドリフト管を含み得る。ここで、軸方向電界は、ドリフト管の長さに沿って印加されるか、または維持される。あるいは、イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aは、開口を有する複数の電極を含むイオンガイドを含み得る。ここで、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上のDC電圧もしくはポテンシャル波形がイオン移動度セパレータまたはスペクトロメータの電極に印加される。ACまたはRF電圧が電極に印加されて、イオンを中心軸に閉じ込め、それにより移送を最大化し得る。イオン移動度セパレータまたはスペクトロメータ15aに対する好適な動作圧力は、好ましくは10-2mbar〜102mbarの範囲内にあり、より好ましくは10-1mbar〜101mbarの範囲にある。 The ion mobility separator or spectrometer 15a may include a drift tube. Here, an axial electric field is applied or maintained along the length of the drift tube. Alternatively, the ion mobility separator or spectrometer 15a may include an ion guide that includes a plurality of electrodes having openings. Here, one or more transient DC voltages or potentials or one or more DC voltages or potential waveforms are applied to the electrodes of the ion mobility separator or spectrometer. An AC or RF voltage can be applied to the electrodes to confine ions to the central axis, thereby maximizing transport. Suitable operating pressure for the ion mobility separator or spectrometer 15a is preferably in the range of 10 -2 mbar~10 2 mbar, more preferably in the range of 10 -1 mbar~10 1 mbar.
イオン移動度にしたがって分離されたイオンのグループは、好ましくは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形をイオンガイドまたは質量分析器2を含む電極に印加することによって、分離を失わずに、好適なイオンガイドまたは質量分析器2を通って移送される。これは、好適なイオンガイドまたは質量分析器2がまた直交加速飛行時間質量分析器に結合される際に特に有利である。デューティサイクルは、質量分析器の直交サンプリングパルスをイオンの直交加速度電極への到達と同期させることによって改善され得る。
The group of ions separated according to ion mobility preferably applies one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms to the electrode comprising the ion guide or
複数の擬ポテンシャル障壁が好適なイオンガイドまたは質量分析器2内に、またはその長さに沿って生成または作成される他の実施形態が考えられる。これによって、好適なイオンガイドまたは質量分析器2内にトラップされたイオン群がより複雑なやり方で操作されることが可能になる。例えば、好適なイオンガイドまたは質量分析器2を充填する際に使用される第1のデバイスまたは領域の低質量電荷比カットオフ特性は、それと異なるより高い第2のデバイスまたは領域の低質量電荷比カットオフ特性(好適なイオンガイドまたは質量分析器2の出口におけるイオンの排出を可能にするために使用される)と組み合わされ得る。これにより、2つのカットオフ値の間の質量電荷比値を有するイオンが好適なイオンガイドまたは質量分析器2内にトラップされることが可能になる。
Other embodiments are conceivable in which multiple pseudopotential barriers are created or created in a suitable ion guide or
図17は、好適なイオンガイドまたは質量分析器2が直交加速飛行時間質量分析器14に結合された実験構成を示す。イオンの連続ビームをエレクトロスプレーイオン化源から導入した。イオンは、アルゴン約10-1mbarの圧力に維持された第1の積層リングイオンガイド19を通るように構成された。イオンをイオンガイド19を通っておよびそれに沿って推進するために、振幅が2Vの過渡DCポテンシャルをイオンガイド19の長さに沿って印加および漸進的に平行移動した。イオンは、好ましくはDC専用出口プレート20における開口を介してイオンガイド19を出て、そして入口電極21を介して、アルゴン約10-2mbarに維持された好適な積層リングイオンガイドまたは質量分析器2に入る。イオンガイド19の出口プレート20と好適なイオンガイドまたは質量分析器2の入口プレート21との間のポテンシャル差を−2Vに維持した。好適なイオンガイドまたは質量分析器2を出る際に、イオンは、転送領域を通って、そして次いで直交加速飛行時間質量分析器14によって質量分析される。イオンを上流のイオンガイド19および好適なイオンガイドまたは質量分析器2内に半径方向に閉じ込めるために、イオンガイド19および好適なイオンガイドまたは質量分析器2の両方に、周波数が2MHzで200Vpk−pkのRF電圧を供給した。
FIG. 17 shows an experimental setup in which a suitable ion guide or
DC電圧の印加に加えて、好適なイオンガイドまたは質量分析器2への入口プレート21を独立した可変振幅を有する独立したRF源に結合した。RF源の周波数は、750MHzであった。実験中に、入口プレート21に印加される変調ポテンシャルの振幅を0Vから550Vpk−pkに増加した。
In addition to applying a DC voltage, the
図18A〜図18Eは、平均分子質量が1000であるポリエチレングリコールおよびトリアセチル−シクロデキストリン(ここで、[M+H]+=2034.6)を含む標準化合物の混合物を連続注入して得られた質量スペクトルを示す。 FIGS. 18A-18E show the mass obtained by continuous injection of a mixture of standard compounds including polyethylene glycol having an average molecular mass of 1000 and triacetyl-cyclodextrin (where [M + H] + = 2034.6). The spectrum is shown.
図18Aは、入口プレート21に印加されたRF電圧の振幅が0Vであった場合に記録された質量スペクトルを示す。図18B〜図18Eは、入口プレート21に印加されたRF電圧の振幅を手動で0Vから最大の550Vpk−pkに増加した際に得られた質量スペクトルを示す。図18Eに示す質量スペクトルは、RF電圧を最大の550Vpk−pkに設定した場合に得られたものである。すべての質量スペクトルについて、その強度を同じ値に正規化して、直接に比較できるようにした。
FIG. 18A shows the mass spectrum recorded when the amplitude of the RF voltage applied to the
図18A〜図18Eから分かるように、入口プレート21に印加されるRF電圧の振幅が漸進的に増加されるにつれ、低質量電荷比イオンは、好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ることがより一層防止され、およびしたがって質量スペクトルに現れない。図18Eに示すように最大RF振幅の550Vpk−pkを印加した場合、質量電荷比<1800を有するイオンの大多数は、より高い質量電荷比を有するイオンに対応するピークが減衰されること無く、取り除かれたことが見て取れる。
As can be seen from FIGS. 18A-18E, as the amplitude of the RF voltage applied to the
RFポテンシャルを入口プレート21に印加することによって、RFの振幅が増加されるにつれ大きさが増加する質量依存障壁が生成される。特定のRF振幅において、ある質量電荷比を下回るイオンは、この擬ポテンシャル障壁を乗り越えることができず、およびしたがって、好適なイオンガイドまたは質量分析器2に入ることが防止される。
By applying an RF potential to the
好適なイオンガイドまたは質量分析器2の近接する素子に印加されるACポテンシャルの周波数が異なるならば、質量選択的障壁を形成する変調ポテンシャルと好適なイオンガイドまたは質量分析器2内に半径方向にイオンを閉じ込めるために使用される変調ポテンシャルとの間に何らかの相互作用があり得る。この相互作用は、イオンガイドまたは質量分析器2のこれらの領域内のイオンの不安定性を招き得る。この相互作用が望ましくない場合、異なるACポテンシャルの領域は、ACポテンシャルではなく、DCポテンシャルによって供給される電極によって分離または遮蔽され得る。
If the frequency of the AC potential applied to the adjacent elements of the preferred ion guide or
上記好適な実施形態によると、イオンは、好ましくはゲート電極を使用してパルス化されて好適なイオンガイドまたは質量分析器2中へ入力される。しかし、例えば、MALDIイオン源などのパルス化イオン源が使用される実施形態、および時刻T0がレーザの発射に対応する実施形態などの別の実施形態が考えられる。
According to the preferred embodiment, the ions are preferably pulsed using a gate electrode and input into a suitable ion guide or
一実施形態によると、フラグメンテーション領域またはデバイスが質量分離領域の後または下流に設けられ得る。好適なイオンガイドまたは質量分析器2とフラグメンテーション領域またはデバイスとの間のポテンシャル差は、1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形の振幅が好ましくは直線的-に増加されるにつれ、直線的に低減され得る。次いで、好適なイオンガイドまたは質量分析器2は、与えられた時刻に所望の質量電荷比範囲のイオンをフラグメンテーションするために最適化され得る。
According to one embodiment, a fragmentation region or device may be provided after or downstream of the mass separation region. The potential difference between the preferred ion guide or
上記好適な実施形態によると、好ましくは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形の形態の電界が好ましくは擬ポテンシャル障壁を越えてまたは横断してイオンを駆動するように使用される。他の実施形態によると、イオンは、ガスフローによって生じる粘性抵抗(viscous drag)によって、擬ポテンシャル障壁を横断するよう駆動され得る。ガスフローによる粘性抵抗は、10-2mbarよりも大きい、好ましくは10-1mbarよりも大きいガス圧に対して著しくなる。また、ガスフローによる粘性抵抗は、電界による力(1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形から導かれる力など)と組み合わされ得る。イオンにかかる粘性抵抗よる力および電界による力は、一斉に働くように構成され得るか、またはあるいは、互いに反対するように構成され得る。 According to the preferred embodiment, an electric field, preferably in the form of one or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms, preferably drives ions across or across the pseudopotential barrier. Used to be. According to other embodiments, ions can be driven across the pseudopotential barrier by a viscous drag caused by gas flow. Viscous resistance due to gas flow becomes significant for gas pressures greater than 10 −2 mbar, preferably greater than 10 −1 mbar. Viscous resistance due to gas flow can also be combined with electric field forces (such as one or more transient DC voltages or potentials or forces derived from one or more transient DC voltages or potential waveforms). The forces due to viscous drag on the ions and the forces due to the electric field can be configured to work together or alternatively, can be configured to oppose each other.
本発明を好適な実施形態を参照して説明してきたが、添付の特許請求の範囲に記載されるような発明の範囲を逸脱することなく種々の変更が形態および詳細においてなされ得ることが当業者に理解される。 Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, workers skilled in the art will recognize that various changes can be made in form and detail without departing from the scope of the invention as set forth in the appended claims. To be understood.
Claims (173)
複数の電極を含むイオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするための手段と、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進する手段とを含む質量分析器であって、
前記質量分析器は、
第2のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにする手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、手段をさらに含む、質量分析器。 A mass analyzer,
An ion guide including a plurality of electrodes;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes and, in use, a plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude. Means for generating along at least a portion of the axial length of the ion guide;
Means for driving or propelling ions along at least a portion of the axial length of the ion guide;
The mass spectrometer is
One or more second axial time average or pseudopotential barriers, waveform shapes having a second amplitude in use when a second AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes. Or means for allowing a well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is different from the first amplitude, further comprising means Analyzer.
(i)四重極ロッドセット、六重極ロッドセット、八重極ロッドセットまたは8個より多くのロッドを含むロッドセットを含む多極ロッドセットもしくはセグメント化多極ロッドセットイオンガイドもまたはイオントラップ、
(ii)開口を有する複数の電極または少なくとも2、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90もしくは100個の電極を含むイオントンネルもしくはイオンファネルイオンガイドまたはイオントラップであって、使用時にイオンは、前記開口を通って移送され、前記電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%は、実質的に同じサイズもしくは面積の開口を有するか、またはサイズもしくは面積が漸進的により大きくおよび/またはより小さくなる開口を有する、イオントンネルもしくはイオンファネルイオンガイドまたはイオントラップ、
(iii)1スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極であって、前記スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極は、複数のまたは少なくとも2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19もしくは20個の平面、プレートまたはメッシュ電極を含むか、または少なくとも前記平面、プレートまたはメッシュ電極のうちの少なくとも1%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%または100%は、使用時にイオンが走行する平面内に一般に配置される、1スタックもしくはアレイの平面、プレートまたはメッシュ電極、および
(iv)イオントラップまたはイオンガイドであって、前記イオントラップまたはイオンガイドの長さに沿って軸方向に配置される複数のグループの電極を含み、各グループの電極は、(a)第1および第2の電極ならびにイオンを前記イオンガイド内に第1の半径方向に閉じ込めるためにDC電圧またはポテンシャルを前記第1および第2の電極に印加するための手段、および(b)第3および第4の電極ならびにイオンを前記イオンガイド内に第2の半径方向に閉じ込めるためにACまたはRF電圧を前記第3および第4の電極に印加するための手段を含む、イオントラップまたはイオンガイドからなる群から選択される、請求項138に記載の質量分析計。 The one or more second ion guides or ion traps;
(I) a quadrupole rod set, a hexapole rod set, an octupole rod set or a multipole rod set comprising a rod set comprising more than 8 rods or a segmented multipole rod set ion guide or ion trap;
(Ii) In an ion tunnel or ion funnel ion guide or ion trap comprising a plurality of electrodes with openings or at least 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 or 100 electrodes In use, ions are transported through the aperture and at least 1%, 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45% of the electrodes. %, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90%, 95% or 100% have openings of substantially the same size or area, or An ion tunnel or ion funnel ion guide or ion trap having openings that are progressively larger and / or smaller in size or area;
(Iii) a stack or array plane, plate or mesh electrode, wherein the stack or array plane, plate or mesh electrode is a plurality or at least 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 or 20 planes, plates or mesh electrodes, or at least 1% of said planes, plates or mesh electrodes, 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85% , 90%, 95% or 100% are generally placed in the plane in which ions travel in use, one stack or array plane, plate or mesh electrode, and And (iv) an ion trap or ion guide comprising a plurality of groups of electrodes arranged axially along the length of the ion trap or ion guide, each group of electrodes comprising: (a) a first And a second electrode and means for applying a DC voltage or potential to the first and second electrodes to confine ions in a first radial direction within the ion guide, and (b) a third and second A group of ion traps or ion guides comprising four electrodes and means for applying an AC or RF voltage to the third and fourth electrodes to confine ions in a second radial direction within the ion guide 138. A mass spectrometer according to claim 138, selected from:
複数の電極を含むイオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップと、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するステップと
第2のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、ステップとを含む方法。 A method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes such that a plurality of first axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are axial lengths of the ion guide. To be created along at least a portion of
Driving or propelling ions along at least a portion of the axial length of the ion guide, and applying a second AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes, Allowing a second axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is: Different from the first amplitude.
開口を有する複数の電極を含むイオンガイドであって、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
イオンを前記イオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加するための手段と、
第2の異なるACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにする手段とを含む質量分析器。 A mass analyzer,
An ion guide comprising a plurality of electrodes having openings, wherein ions are transported through said openings in use;
Means for applying a first AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes to confine ions radially within the ion guide;
A second, different AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes, and in use, one or more axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are in the axis of the ion guide. Means for generating along at least a portion of the directional length.
開口を有する複数の電極を含むイオンガイドであって、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
イオンを前記イオンガイド内に半径方向に閉じ込めるために、第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加するステップと、
第2の異なるACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの1つ以上に印加して、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップとを含む方法。 A method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide comprising a plurality of electrodes having openings, wherein ions are transported through the openings;
Applying a first AC or RF voltage to one or more of the plurality of electrodes to confine ions radially within the ion guide;
A second different AC or RF voltage is applied to one or more of the plurality of electrodes such that one or more axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells are axial lengths of the ion guide. Creating along at least a portion of.
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするための手段であって、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される、手段と、
1つ以上の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするための手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、手段とを含む質量分析器。 A mass analyzer,
An ion guide comprising a plurality of electrodes, the plurality of electrodes comprising an electrode having an opening, wherein ions are transported through the opening in use;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, such that opposite phases of the first AC or RF voltage are applied to an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude in at least a portion of the axial length of the ion guide in use. Created along with the means,
One or more second axial times having a second amplitude in use by inverting the polarity of the first AC or RF voltage applied to one or more axially adjacent groups of electrodes. Means for causing an average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is the first amplitude A mass analyzer comprising means different from the amplitude.
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするステップであって、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される、ステップと、
1つ以上の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、ステップとを含む方法。 A method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes, wherein the plurality of electrodes includes an electrode having an opening, and ions are transported through the opening;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, such that opposite phases of the first AC or RF voltage are applied to an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time averages or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude are created along at least a portion of the axial length of the ion guide. , Steps and
Reversing the polarity of the first AC or RF voltage applied to one or more axially adjacent groups of electrodes to produce one or more second axial time averages or pseudo-values having a second amplitude. Causing a potential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is different from the first amplitude; And a method comprising.
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、使用時にイオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするための手段であって、使用時に、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される、手段と、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するために1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形を前記複数の電極に印加するための手段と、
1対の軸方向に隣り合う電極または1対の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、使用時に、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするため手段であって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、手段と
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸の振幅を漸進的に低減するために、前記第1のACまたはRF電圧の振幅を直線的に、段階的に、または他のやり方で漸進的に低減するための手段とを含む質量分析器。 A mass analyzer,
An ion guide comprising a plurality of electrodes, the plurality of electrodes comprising an electrode having an opening, wherein ions are transported through the opening in use;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, and the first AC or RF voltage is opposite to each other in an axially adjacent electrode or an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells having a first amplitude in use in the axial direction of the ion guide. Means created along at least part of the length;
One or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms are applied to the plurality of electrodes to drive or propel ions along at least a portion of the axial length of the ion guide. Means for
The polarity of the first AC or RF voltage applied to a pair of axially adjacent electrodes or a pair of axially adjacent groups of electrodes is inverted to have a second amplitude in use. Means for causing two or more second axial time-average or pseudopotential barriers, corrugations or wells to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide; And the first amplitude is different from the first amplitude to progressively reduce the amplitude of the means and the one or more second axial time averages or pseudopotential barriers, waveform shapes or wells. A mass analyzer comprising means for reducing the amplitude of the AC or RF voltage linearly, stepwise or otherwise progressively.
複数の電極を含むイオンガイドであって、前記複数の電極は、開口を有する電極を含み、イオンが前記開口を通って移送される、イオンガイドを準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極のうちの少なくともいくつかに印加して、軸方向に隣り合う電極または軸方向に隣り合うグループの電極に前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相が供給されるようにするステップであって、第1の振幅を有する複数の第1の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成される、ステップと、
イオンを前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って駆動または推進するために1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャルまたは1つ以上の過渡DC電圧もしくはポテンシャル波形を前記複数の電極に印加するステップと、
1対の軸方向に隣り合う電極または1対の軸方向に隣り合うグループの電極に印加される前記第1のACまたはRF電圧の極性を反転して、第2の振幅を有する1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸が前記イオンガイドの軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成されるようにするステップであって、前記第2の振幅は、前記第1の振幅と異なる、ステップと
前記1つ以上の第2の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸の振幅を漸進的に低減するために、前記第1のACまたはRF電圧の振幅を直線的に、段階的に、または他のやり方で漸進的に低減するステップとを含む方法。 A method for mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide including a plurality of electrodes, wherein the plurality of electrodes includes an electrode having an opening, and ions are transported through the opening;
A first AC or RF voltage is applied to at least some of the plurality of electrodes, and the first AC or RF voltage is opposite to each other in an axially adjacent electrode or an axially adjacent group of electrodes. A plurality of first axial time-average or pseudo-potential barriers, corrugations or wells having a first amplitude are at least one of the axial lengths of the ion guides. A step created along the section,
One or more transient DC voltages or potentials or one or more transient DC voltages or potential waveforms are applied to the plurality of electrodes to drive or propel ions along at least a portion of the axial length of the ion guide. And steps to
One or more having a second amplitude by inverting the polarity of the first AC or RF voltage applied to a pair of axially adjacent electrodes or a pair of axially adjacent groups of electrodes Causing a second axial time average or pseudopotential barrier, corrugation or well to be created along at least a portion of the axial length of the ion guide, wherein the second amplitude is: Steps different from the first amplitude and the first AC or RF voltage to progressively reduce the amplitude of the one or more second axial time-averaged or pseudopotential barriers, waveform shapes or wells. Reducing the amplitude of the linearly, stepwise, or otherwise incrementally.
複数の電極と、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加して、少なくともいくつかの電極が、使用時に、前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相に維持されるようにするための手段と、
使用時に、前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁を作成するために、1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器。 An ion guide or mass analyzer,
A plurality of electrodes;
Means for applying a first AC or RF voltage to the plurality of electrodes such that at least some of the electrodes are maintained in opposite phases of the first AC or RF voltage in use. When,
In use, change or switch the phase difference or polarity of one or more electrodes to create an axial time average or pseudopotential barrier along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer An ion guide or mass analyzer, including means for changing or scanning.
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
第1のACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加して、少なくともいくつかの電極が前記第1のACまたはRF電圧の互いに反対の位相に維持されるようにするステップと、
前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁を作成するために、1つ以上の電極の位相差または極性を変更、切り換え、変化またはスキャンするステップとを含む方法。 A method for guiding or mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
Applying a first AC or RF voltage to the plurality of electrodes such that at least some of the electrodes are maintained in opposite phases of the first AC or RF voltage;
Change, switch, change or change the phase difference or polarity of one or more electrodes to create an axial time average or pseudopotential barrier along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer. And a step of scanning.
複数の電極と、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するための手段であって、前記n≧2である、手段と、
前記複数の電極の間の、そこでの、またはそれらの第1の位相関係または第1のアスペクト比を維持するための手段と、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のサブセットの間の、そこでの、またはそれらの位相関係またはアスペクト比を変化させて、前記電極サブセットの間の、そこでの、またはそれらの第2の異なる位相関係または第2のアスペクト比が維持されるようにするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器。 An ion guide or mass analyzer,
A plurality of electrodes;
means for applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein the n ≧ 2.
Means for maintaining a first phase relationship or a first aspect ratio between or at the plurality of electrodes;
In use, in order to create one or more axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, Varying the phase relationship or aspect ratio between, there or their subsets to maintain a second, different phase relationship or second aspect ratio between, or between the electrode subsets An ion guide or a mass analyzer.
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するステップであって、前記n≧2である、ステップと、
前記複数の電極の間の、そこでの、またはそれらの第1の位相関係または第1のアスペクト比を維持するステップと、
1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のサブセットの間の、そこでの、またはそれらの位相関係またはアスペクト比を変化させて、前記電極サブセットの間の、そこでの、またはそれらの第2の異なる位相関係または第2のアスペクト比が維持されるようにするステップとを含む方法。 A method for guiding or mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein n ≧ 2.
Maintaining a first phase relationship or a first aspect ratio between or at the plurality of electrodes;
Between the subsets of the plurality of electrodes to create one or more axial time-averaged or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer Changing the phase relationship or aspect ratio thereof, or so that the second different phase relationship or second aspect ratio there between or between the electrode subsets is maintained. And a method comprising:
複数の電極と、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するための手段であって、前記n≧2である、手段と、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のうちの1つ以上の電極の位相またはアスペクト比をスキャンするための手段とを含むイオンガイドまたは質量分析器。 An ion guide or mass analyzer,
A plurality of electrodes;
means for applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein the n ≧ 2.
In use, in order to create one or more axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, Means for scanning the phase or aspect ratio of one or more of the electrodes.
複数の電極を含むイオンガイドまたは質量分析器を準備するステップと、
n−位相ACまたはRF電圧を前記複数の電極に印加するステップであって、前記n≧2である、ステップと、
使用時に、1つ以上の軸方向時間平均または擬ポテンシャル障壁、波形形状もしくは井戸を前記イオンガイドまたは質量分析器の軸方向長さの少なくとも一部に沿って作成するために、前記複数の電極のうちの1つ以上の電極の位相またはアスペクト比をスキャンするステップとを含む方法。 A method for guiding or mass spectrometry of ions comprising:
Providing an ion guide or mass analyzer comprising a plurality of electrodes;
applying an n-phase AC or RF voltage to the plurality of electrodes, wherein n ≧ 2.
In use, in order to create one or more axial time average or pseudopotential barriers, corrugations or wells along at least a portion of the axial length of the ion guide or mass analyzer, Scanning the phase or aspect ratio of one or more of the electrodes.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0608470.1A GB0608470D0 (en) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | Mass spectrometer |
US80177206P | 2006-05-19 | 2006-05-19 | |
US60/801,772 | 2006-05-19 | ||
PCT/GB2007/001589 WO2007125354A2 (en) | 2006-04-28 | 2007-04-30 | Mass spectrometer |
GB0608470.1 | 2008-04-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009535761A true JP2009535761A (en) | 2009-10-01 |
JP5290960B2 JP5290960B2 (en) | 2013-09-18 |
Family
ID=38573479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009507174A Active JP5290960B2 (en) | 2006-04-28 | 2007-04-30 | Mass spectrometer |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2013895B8 (en) |
JP (1) | JP5290960B2 (en) |
CA (1) | CA2650390C (en) |
HK (1) | HK1132839A1 (en) |
WO (1) | WO2007125354A2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014025182A1 (en) * | 2012-08-08 | 2014-02-13 | (주)영린기기 | Rf/dc ion guide for mass spectrometry |
WO2015198721A1 (en) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | Mass spectrometer |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0514964D0 (en) * | 2005-07-21 | 2005-08-24 | Ms Horizons Ltd | Mass spectrometer devices & methods of performing mass spectrometry |
US7960694B2 (en) * | 2004-01-09 | 2011-06-14 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometer |
GB0622780D0 (en) | 2006-11-15 | 2006-12-27 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
GB0718468D0 (en) | 2007-09-21 | 2007-10-31 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
GB0820308D0 (en) * | 2008-11-06 | 2008-12-17 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
GB201000852D0 (en) * | 2010-01-19 | 2010-03-03 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
US9929002B2 (en) | 2013-12-19 | 2018-03-27 | Miromass Uk Limited | High pressure mass resolving ion guide with axial field |
GB201323004D0 (en) * | 2013-12-24 | 2014-02-12 | Micromass Ltd | Travelling wave IMS with counterflow of gas |
US9939408B2 (en) | 2013-12-24 | 2018-04-10 | Micromass Uk Limited | Travelling wave IMS with counterflow of gas |
CN107665806B (en) | 2016-07-28 | 2019-11-26 | 株式会社岛津制作所 | Mass spectrograph, ion optics and the method to the operation of mass spectrograph intermediate ion |
CN113066713A (en) | 2020-01-02 | 2021-07-02 | 株式会社岛津制作所 | Ion optical device, mass spectrometer, and ion manipulation method |
US11600480B2 (en) | 2020-09-22 | 2023-03-07 | Thermo Finnigan Llc | Methods and apparatus for ion transfer by ion bunching |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05509437A (en) * | 1991-02-12 | 1993-12-22 | マシブリー・パラレル・インスツルメンツ・インコーポレイテッド | Ion processing: storage, cooling and analysis |
JPH11510946A (en) * | 1995-08-11 | 1999-09-21 | エムディーエス ヘルス グループ リミテッド | Spectrometer with axial electric field |
JP2002184347A (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Shimadzu Corp | Mass spectroscope device |
JP2003507874A (en) * | 1999-08-26 | 2003-02-25 | ユニバーシティ オブ ニュー ハンプシャー | Multi-stage mass spectrometer |
JP2004111149A (en) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Shimadzu Corp | Ion guide |
US20040124354A1 (en) * | 2002-11-08 | 2004-07-01 | Bateman Robert Harold | Mass spectrometer |
JP2005259483A (en) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Shimadzu Corp | Mass spectroscope |
WO2007060755A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Hitachi, Ltd. | Ion guide device, ion reactor, and mass analyzer |
JP2009514179A (en) * | 2005-11-01 | 2009-04-02 | マイクロマス ユーケー リミテッド | Mass spectrometer |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1704578B1 (en) * | 2004-01-09 | 2011-04-27 | Micromass UK Limited | Ion extraction devices and methods of selectively extracting ions |
-
2007
- 2007-04-30 CA CA2650390A patent/CA2650390C/en active Active
- 2007-04-30 JP JP2009507174A patent/JP5290960B2/en active Active
- 2007-04-30 EP EP07732622.1A patent/EP2013895B8/en active Active
- 2007-04-30 WO PCT/GB2007/001589 patent/WO2007125354A2/en active Application Filing
-
2009
- 2009-12-22 HK HK09112043.3A patent/HK1132839A1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05509437A (en) * | 1991-02-12 | 1993-12-22 | マシブリー・パラレル・インスツルメンツ・インコーポレイテッド | Ion processing: storage, cooling and analysis |
JPH11510946A (en) * | 1995-08-11 | 1999-09-21 | エムディーエス ヘルス グループ リミテッド | Spectrometer with axial electric field |
JP2003507874A (en) * | 1999-08-26 | 2003-02-25 | ユニバーシティ オブ ニュー ハンプシャー | Multi-stage mass spectrometer |
JP2002184347A (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Shimadzu Corp | Mass spectroscope device |
JP2004111149A (en) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Shimadzu Corp | Ion guide |
US20040124354A1 (en) * | 2002-11-08 | 2004-07-01 | Bateman Robert Harold | Mass spectrometer |
JP2005259483A (en) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Shimadzu Corp | Mass spectroscope |
JP2009514179A (en) * | 2005-11-01 | 2009-04-02 | マイクロマス ユーケー リミテッド | Mass spectrometer |
WO2007060755A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Hitachi, Ltd. | Ion guide device, ion reactor, and mass analyzer |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014025182A1 (en) * | 2012-08-08 | 2014-02-13 | (주)영린기기 | Rf/dc ion guide for mass spectrometry |
WO2015198721A1 (en) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | Mass spectrometer |
GB2541346A (en) * | 2014-06-25 | 2017-02-15 | Hitachi High Tech Corp | Mass spectrometer |
JPWO2015198721A1 (en) * | 2014-06-25 | 2017-04-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Mass spectrometer |
US10068756B2 (en) | 2014-06-25 | 2018-09-04 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mass spectrometer |
GB2541346B (en) * | 2014-06-25 | 2022-05-11 | Hitachi High Tech Corp | Mass spectrometer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2007125354A3 (en) | 2008-10-02 |
EP2013895B8 (en) | 2019-07-17 |
JP5290960B2 (en) | 2013-09-18 |
CA2650390C (en) | 2017-05-16 |
HK1132839A1 (en) | 2010-03-05 |
CA2650390A1 (en) | 2007-11-08 |
EP2013895A2 (en) | 2009-01-14 |
WO2007125354A2 (en) | 2007-11-08 |
EP2013895B1 (en) | 2018-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5290960B2 (en) | Mass spectrometer | |
US9786479B2 (en) | Mass spectrometer device and method using scanned phase applied potentials in ion guidance | |
EP3640970B1 (en) | Ion guiding device | |
JP5341753B2 (en) | Mass spectrometer | |
EP2033208B1 (en) | Mass spectrometer | |
JP4778560B2 (en) | Mass spectrometer | |
EP2235739B1 (en) | Linear ion trap | |
JP5198464B2 (en) | Mass spectrometer | |
EP2526562B1 (en) | Mass to charge ratio selective ejection from ion guide having supplemental rf voltage applied thereto |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5290960 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |