需求升 晶呈科前五月EPS 1.51元

晶呈科技(4768)因有價證券多次達公布注意交易資訊標準,公告5月自結營收年增22%,稅前盈餘0.12億元、年增50%,稅後純益0.08億元、年增33%,EPS達0.2元。近二月累計營收年增25%,稅前盈餘0.28億元、年增27%,稅後純益0.21億元、年增40%,EPS達0.48元。加計首季EPS達1.03元,累計今年前五月EPS為1.51元。

晶呈科為國內特殊氣體供應商,主要產品為C4F8(八氟環丁烷)和C4F6(六氟環丁烷)應用於蝕刻(etch)製程,至於F2N2(氟氣、氮氣混合氣體)主要用於蝕刻及擴散(diffusion)製程中的清洗氣體;Laser Gas(雷射氣體)則用於黃光製程。

晶呈科因特殊氣體需求增加,6月營收年增20.61%;上半年營收4.94億元,年成長10.49%。法人認為,晶呈科特殊氣體產品需求將逐季回溫,去光阻液(Stripper)也已有12種品項可量產,有助下半年營運動能回溫。

晶呈科受惠記憶體投片量增,帶動C4F8(八氟環丁烷)出貨量增,隨著半導體先進製程不斷推進,對於特殊氣體需求增加,晶呈新增C4F6(六氟環丁烷)二級製造,加上去光阻液第一條產線今年3月開出,預期下半年產能即可達滿載狀態,可望持穩挹注業績表現。

此外,晶呈科去光阻液陸續獲得國際大廠採用,後續產能將持依市況持續擴增,加上半導體材料供應國產化趨勢,晶呈科C4F6產能剛好由原先四級製造20噸擴充至二級製造100噸,搭上先進製程國產化需求順風車。未來AHF、BCL3、WF6、CO產品均針對5、4奈米以下先進製程之產品,相對同業於聚焦於成熟製程,營運利基持穩提振。

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