Перайсьці да зьместу

Гафн

Зьвесткі зь Вікіпэдыі — вольнай энцыкляпэдыі
Лютэц ← Гафн → Танталь
Zr

Hf

Rf
Выгляд

Агульная інфармацыя
Назва, сымбаль, атамны нумар Гафн, Hf, 72
Катэгорыя элемэнту Мэталы
Група, пэрыяд, блёк 4, 6, p
Адносная атамная маса 178,49 г·моль−1
Канфігурацыя электронаў 5s25p65d26s2
Электронаў у абалонцы
Фізычныя ўласьцівасьці
Фаза Цьвёрдае цела
Шчыльнасьць (пры п. т.) 13,3 г·см−3
Тэмпэратура плаўленьня 2000-2230 °C
Тэмпэратура кіпеньня 3200 °C
Структура крышталічнай краты hexagonal close-packed
Уласьцівасьці атама
Кавалентны радыюс 144,2 пм

Гафн (па-лацінску: Hafnium), Hf — хімічны элемэнт IV групы пэрыядычнай сыстэмы; атамны нумар 72. Серабрыста-белы мэтал. Належыць да ліку расьсеяных у прыродзе элемэнтаў. У зямной кары ўтрыманьне гафну складае ад 3×10-4 % да 4×10-4 % паводле масы[1]. Уласных мінэралаў ня мае, заўсёды сустракаецца разам з цырконам, які распаўсюджаны нашмат больш. Гафн адкрыты ў 1923 г. у цырконіевых рудах вугорскім хімікам Хевешы і дацкім фізыкам Костэрам з дапамогай рэнтгенаспэктральнага аналізу. Сваю назву атрымаў ад слова Hafnia — лацінскай назвы гораду Капэнгагена, у якім ён быў адкрыты. Элемэнт зьяўляецца сумесьсю шасьці ізатопаў з масавымі лікамі ад 174 да 180, самы цяжкі зь якіх зьяўляецца найбольш распаўсюджаным (35,22%). Ізатоп 174Hf (0,163%), відавочна, радыёактыўны (2×1015 год, ). Вядома дванаццаць штучных радыёактыўных ізатопаў з масавымі лікамі A= 178-180. Пры апрамяненьні гафну нэўтронамі, найбольш важныя зь іх 175Hf (70 дзён, электронны захоп), 181Hf (44,6 дня, β-) выкарыстоўваюць у якасьці мечаных атамаў. Лёгкія радыёізатопы атрымліваюцца з апрамяненьня нэўтронамі ізатопаў лютэцыю, якія потым зазнаюць β--распад.

Гафн рэкамэндуюць выкарыстоўваць для вытворчасьці кантрольных і рэгуляцыйных стрыжняў гамагенных рэактараў і рэактараў у атамных падводных лодак з-за ягонага вялікага сечыва захопу цеплавых (паглынаньня) і надцеплавых нэўтронаў (105 барн)[2], высокай тэмпэратуры плаўленьня (2230), добрых мэталічных ды антыкаразыйных уласьцівасьцей. У спэктры сечываў захопу нэўтронаў гафнам у інтэрвале энэргій ад 1 эВ да 10 кэВ маюцца сем рэзанансных пікаў, пяць зь якіх выкліканыя 177Hf (18,59%). Таксама выкарыстоўваецца пры вытворчасьці лямп напальваньня, катодаў рэнтгенаўскіх трубак ды гетэраў электронных лямп. Вокіс, нітрыд і карбід выкарыстоўваюцца ў якасьці вогнеўстойлівых матэрыялаў.

Прымяняецца ў газапаглынальніках у вакуўмных прыладах.

  1. ^ Бондар І. В. Гафній // БЭ. — Мн.: 1997 Т. 5. С. 93
  2. ^ Гафний // Химическая энциклопедия : в 5 т. / Гл. ред. Н. С. Зефиров. — М.: 1990 Т. 2: Даф-Мед.

Вонкавыя спасылкі

[рэдагаваць | рэдагаваць крыніцу]

Гафнсховішча мультымэдыйных матэрыялаў