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台積電（2330）A16先進製程節點不急著用艾司摩爾（ASML）high-NA EUV設備，台積電業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強今年也公開表示「喜歡High-NA EUV的能力但我不喜歡標價」，相關談話被外界認為嫌貴，對客戶的意見，ASML High NA EUV 產品管理副總裁 Greet Storms 今日在媒體分享會上回應本報記者提問該議題時提出幽默回應。
回應記者提問客戶嫌貴，Greet Storms 幽默說，相信客戶很會議價，這也就像你去買車子，一定會談價格。
但她也提到，「ASML持續推進新的技術並獲得每個EUV客戶在研發階段青睞，這些也都是我們high NA客戶，也都有下單給我們，2026年希望是往量產方向推進」，不過仍看客戶製程成本等總體考量。
Greet Storms 並在今天的ASML新一代EUV微影技術媒體聚會分享時強調：「透過導入 High NA EUV，客戶將可減少量產邏輯和記憶體晶片的製造工序，進而顯著降低製程缺陷、成本和生產週期。High NA EUV（0.55 NA）將與現行的 EUV（0.33 NA）在設計方面有通用性，可降低客戶的導入風險和研發成本」。
High NA EUV 微影系統已於去年底開始陸續出貨，產能預計每小時可曝光超過 185 片晶圓，將支援 2 奈米以下邏輯晶片及具有相似電晶體密度的記憶體晶片量產。
在先進製程晶片製造中導入 EUV 技術可簡化製程工序、減少光罩數量，達到產能和良率提升，進而降低生產每片晶圓的用電量。ASML 預估，若在先進製程中導入包括 EUV 和 High NA EUV 微影系統，到 2029 年，使用 ASML 微影技術生產每一片晶圓使用的 100 度電，將為整體製程節省 200 度電。
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